JP2002373056A - ニュートンリング防止フィルム及びタッチパネル - Google Patents
ニュートンリング防止フィルム及びタッチパネルInfo
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】抵抗膜方式のタッチパネルの機能及び性能を損
なうことなく、タッチパネルへの入力時にニュートンリ
ング発生を防止又は抑制することを目的とする。 【解決手段】突起塗工層を設けることにより突起が形成
された透明フィルムであってその突起面に更に透明導電
層を設けた透明フィルムの突起を有する面の中心線平均
表面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓｍ）が０．８×１０
−３〜２．０×１０−３であり、かつ突起間距離（Ｓ
ｍ）が１５０μｍ以下であるニュートンリング防止フィ
ルムである。又上電極基板として透明導電層を設けた透
明フィルムを用い、下電極基板として透明導電層を設け
た透明フィルム又はガラスを用い、これら上下電極基板
を所定の間隔で対向配置したタッチパネルであって上記
上電極基板及び／又は下電極基板に用いられる透明フィ
ルムが上記のニュートンリング防止フィルムであること
を特徴とする。
なうことなく、タッチパネルへの入力時にニュートンリ
ング発生を防止又は抑制することを目的とする。 【解決手段】突起塗工層を設けることにより突起が形成
された透明フィルムであってその突起面に更に透明導電
層を設けた透明フィルムの突起を有する面の中心線平均
表面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓｍ）が０．８×１０
−３〜２．０×１０−３であり、かつ突起間距離（Ｓ
ｍ）が１５０μｍ以下であるニュートンリング防止フィ
ルムである。又上電極基板として透明導電層を設けた透
明フィルムを用い、下電極基板として透明導電層を設け
た透明フィルム又はガラスを用い、これら上下電極基板
を所定の間隔で対向配置したタッチパネルであって上記
上電極基板及び／又は下電極基板に用いられる透明フィ
ルムが上記のニュートンリング防止フィルムであること
を特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ニュートンリン
グを防止又は抑制するためのフィルムに関し、より詳細
には抵抗膜方式のタッチパネルをペン又は指で押圧する
際に、ペン又は指の周辺に見られる干渉による虹模様、
いわゆるニュートンリングを防止又は抑制するためのフ
ィルムに関する。
グを防止又は抑制するためのフィルムに関し、より詳細
には抵抗膜方式のタッチパネルをペン又は指で押圧する
際に、ペン又は指の周辺に見られる干渉による虹模様、
いわゆるニュートンリングを防止又は抑制するためのフ
ィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、マンマシンインターフェースとし
ての電子ディスプレイの進歩に伴い、対話型の入力シス
テムが普及し、なかでもタッチパネルをディスプレイと
一体化したものがＡＴＭ（現金自動受払機）、商品管
理、アウトワーカー（外交、セールス）、案内表示、娯
楽機器などで広く使用されている。液晶ディスプレイな
どの軽量・薄型ディスプレイでは、キーボードレスにで
き、その特長が生きることから、モバイル機器にもタッ
チパネルが使用されるケースが増えている。タッチパネ
ルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、
静電容量方式、抵抗膜方式などがある。このうち、抵抗
膜方式は、構造が単純で価格／性能比もよく、近年、急
速な普及を見ている。
ての電子ディスプレイの進歩に伴い、対話型の入力シス
テムが普及し、なかでもタッチパネルをディスプレイと
一体化したものがＡＴＭ（現金自動受払機）、商品管
理、アウトワーカー（外交、セールス）、案内表示、娯
楽機器などで広く使用されている。液晶ディスプレイな
どの軽量・薄型ディスプレイでは、キーボードレスにで
き、その特長が生きることから、モバイル機器にもタッ
チパネルが使用されるケースが増えている。タッチパネ
ルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、
静電容量方式、抵抗膜方式などがある。このうち、抵抗
膜方式は、構造が単純で価格／性能比もよく、近年、急
速な普及を見ている。
【０００３】抵抗膜方式のタッチパネルは、対向する側
に透明導電膜を有する２枚のフィルム又は板を一定間隔
を保持して構成される電気部品である。一方の電極を固
定した上で、視認側からペン又は指で一方の電極を押圧
し、たわませ、接触、導通することにより検出回路が位
置を検知し、所定の入力がなされるものである。この
際、押圧しているペン又は指などのポインティング治具
の周辺に、いわゆるニュートンリングと呼ばれる干渉色
が現れることがあリ、画面の視認性を低下させる。
に透明導電膜を有する２枚のフィルム又は板を一定間隔
を保持して構成される電気部品である。一方の電極を固
定した上で、視認側からペン又は指で一方の電極を押圧
し、たわませ、接触、導通することにより検出回路が位
置を検知し、所定の入力がなされるものである。この
際、押圧しているペン又は指などのポインティング治具
の周辺に、いわゆるニュートンリングと呼ばれる干渉色
が現れることがあリ、画面の視認性を低下させる。
【０００４】このようなタッチパネルのニュートンリン
グを軽減する対策として、電極基板を構成するフィルム
に凹凸を設ける方法が考えられている。例えば、特開平
１１−２５０７６４には、フィルムにエンボス加工等を
施して凹凸をつけ、その表面を特定の粗さにする方法が
開示されており、更に特開平７−１６９３６７には、同
様にフィルムにエンボス加工等を施して所定のピッチで
所定の表面粗さの凹凸をつける方法を開示されている。
また、特開平９−２７２１８３には、フィルムにフィラ
ーを含む樹脂を塗布したり、凹凸のついたロールにフィ
ルムを圧着して凹凸を転写して、所定の高さのピークを
所定の間隔で凹凸をつける方法が開示されている。ま
た、特開平８−２８１８５６には粗面上に透明導電層を
設けその粗面の高さ及び突起間距離を特定する方法が開
示されている。更に、特開平１０−３２３９３１には、
フィルムに所定の平均粒径を有するフィラーを所定の数
平均密度含むコーティングを行い、このコーティング上
に透明導電層を形成する方法が開示されている。しか
し、これらは何れも凹凸の大きさのみに焦点が当たって
いるか、又は凹凸ピッチに対する考慮がなされていて
も、ニュートンリングを視認しないような高さ（即ち、
粗さ）とピーク間隔との関係についての検討はなされて
いない。
グを軽減する対策として、電極基板を構成するフィルム
に凹凸を設ける方法が考えられている。例えば、特開平
１１−２５０７６４には、フィルムにエンボス加工等を
施して凹凸をつけ、その表面を特定の粗さにする方法が
開示されており、更に特開平７−１６９３６７には、同
様にフィルムにエンボス加工等を施して所定のピッチで
所定の表面粗さの凹凸をつける方法を開示されている。
また、特開平９−２７２１８３には、フィルムにフィラ
ーを含む樹脂を塗布したり、凹凸のついたロールにフィ
ルムを圧着して凹凸を転写して、所定の高さのピークを
所定の間隔で凹凸をつける方法が開示されている。ま
た、特開平８−２８１８５６には粗面上に透明導電層を
設けその粗面の高さ及び突起間距離を特定する方法が開
示されている。更に、特開平１０−３２３９３１には、
フィルムに所定の平均粒径を有するフィラーを所定の数
平均密度含むコーティングを行い、このコーティング上
に透明導電層を形成する方法が開示されている。しか
し、これらは何れも凹凸の大きさのみに焦点が当たって
いるか、又は凹凸ピッチに対する考慮がなされていて
も、ニュートンリングを視認しないような高さ（即ち、
粗さ）とピーク間隔との関係についての検討はなされて
いない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】透明電極層を有するプ
ラスチックフィルムがたわむと光干渉によりニュートン
リングが発生する。特に、抵抗膜方式タッチパネルの場
合には、２枚の透明電極が接触するか又は接触のために
たわむと、可視光の波長程度（約０．５μｍ）の間隔で
対向する２枚の透明電極に挟まれた楔状の空間での光干
渉によりニュートンリングが発生する。これは、抵抗膜
方式のタッチパネルの原理上、不可避の現象である。本
発明は、透明電極層を有するプラスチックフィルムがた
わむ場合に発生するニュートンリングを防止又は抑制す
ることを目的とし、特に抵抗膜方式のタッチパネルの機
能及び性能を損なうことなく、タッチパネルへの入力時
にポインティング治具を押圧する位置周辺に発生するニ
ュートンリングを防止又は抑制することを目的とする。
ラスチックフィルムがたわむと光干渉によりニュートン
リングが発生する。特に、抵抗膜方式タッチパネルの場
合には、２枚の透明電極が接触するか又は接触のために
たわむと、可視光の波長程度（約０．５μｍ）の間隔で
対向する２枚の透明電極に挟まれた楔状の空間での光干
渉によりニュートンリングが発生する。これは、抵抗膜
方式のタッチパネルの原理上、不可避の現象である。本
発明は、透明電極層を有するプラスチックフィルムがた
わむ場合に発生するニュートンリングを防止又は抑制す
ることを目的とし、特に抵抗膜方式のタッチパネルの機
能及び性能を損なうことなく、タッチパネルへの入力時
にポインティング治具を押圧する位置周辺に発生するニ
ュートンリングを防止又は抑制することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】人間の眼の水平解像度
は、１ｍｍあたり約６本と言われている（明視の距離に
て視力１．０の人間の場合）。そこで、透明電極の少な
くとも一方の面に突起を全面に設けることにより、透過
する光線を屈折させ視認者が連続したニュートンリング
として認識できないようにできれば、実際的なニュート
ンリング防止方法となる。そこで、本発明者らは、特定
の突起を有する透明導電膜を設けたフィルムを用いるこ
とにより、このような人間の視覚特性により、ニュート
ンリングとして認識できないようにすることができるこ
とを見出した。一方、タッチパネルの対向する透明導電
膜は、押圧時に接触して電気的に導通する。対向電極が
突起を有しない場合には、パッシェンの法則に基づく絶
縁破壊の起こらない範囲で電圧（数ボルト）を印加する
が、透明導電膜に突起を設けると対向電極間に集中電界
によるコロナ放電が発生し、透明導電膜を損傷する場合
がある。そこで、本発明者らは、抵抗膜方式のタッチパ
ネルに用いるフィルムの粗さと突起間距離との関係につ
いて更に検討を加えた結果、突起の曲率（突起粗さ／突
起間距離）を一定値以下に設定し、かつ突起間距離を１
５０μｍ以下とすることにより、ニュートンリングを認
識できず、かつタッチパネルの機能を損なわなず（即
ち、異常放電を起こさず）にニュートンリングを防止
（又は、抑制）できるフィルムが得られることを見出し
た。
は、１ｍｍあたり約６本と言われている（明視の距離に
て視力１．０の人間の場合）。そこで、透明電極の少な
くとも一方の面に突起を全面に設けることにより、透過
する光線を屈折させ視認者が連続したニュートンリング
として認識できないようにできれば、実際的なニュート
ンリング防止方法となる。そこで、本発明者らは、特定
の突起を有する透明導電膜を設けたフィルムを用いるこ
とにより、このような人間の視覚特性により、ニュート
ンリングとして認識できないようにすることができるこ
とを見出した。一方、タッチパネルの対向する透明導電
膜は、押圧時に接触して電気的に導通する。対向電極が
突起を有しない場合には、パッシェンの法則に基づく絶
縁破壊の起こらない範囲で電圧（数ボルト）を印加する
が、透明導電膜に突起を設けると対向電極間に集中電界
によるコロナ放電が発生し、透明導電膜を損傷する場合
がある。そこで、本発明者らは、抵抗膜方式のタッチパ
ネルに用いるフィルムの粗さと突起間距離との関係につ
いて更に検討を加えた結果、突起の曲率（突起粗さ／突
起間距離）を一定値以下に設定し、かつ突起間距離を１
５０μｍ以下とすることにより、ニュートンリングを認
識できず、かつタッチパネルの機能を損なわなず（即
ち、異常放電を起こさず）にニュートンリングを防止
（又は、抑制）できるフィルムが得られることを見出し
た。
【０００７】即ち、本発明の目的は、粗面化することに
より突起が形成された透明フィルム、突起塗工層を設け
ることにより突起が形成された透明フィルム、又はその
突起が形成された面に更に透明導電層を設けたこれら何
れかの透明フィルムから成り、その突起を有する面の中
心線平均表面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓｍ）が０．
８×１０−３〜２．０×１０−３であり、かつ突起間距
離（Ｓｍ）が１５０μｍ以下であるニュートンリング防
止フィルムを提供することである。このニュートンリン
グ防止フィルムが、突起塗工層を設けることにより突起
が形成された透明フィルム、又はその突起が形成された
面に更に透明導電層を設けた前記透明フィルムから成る
場合、突起塗工層が樹脂中にシリカが分散された塗膜で
あってもよい。
より突起が形成された透明フィルム、突起塗工層を設け
ることにより突起が形成された透明フィルム、又はその
突起が形成された面に更に透明導電層を設けたこれら何
れかの透明フィルムから成り、その突起を有する面の中
心線平均表面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓｍ）が０．
８×１０−３〜２．０×１０−３であり、かつ突起間距
離（Ｓｍ）が１５０μｍ以下であるニュートンリング防
止フィルムを提供することである。このニュートンリン
グ防止フィルムが、突起塗工層を設けることにより突起
が形成された透明フィルム、又はその突起が形成された
面に更に透明導電層を設けた前記透明フィルムから成る
場合、突起塗工層が樹脂中にシリカが分散された塗膜で
あってもよい。
【０００８】本発明の別の目的は、上電極基板として透
明導電層を設けた透明フィルムを用い、下電極基板とし
て透明導電層を設けた透明フィルム又はガラスを用い、
これら上電極基板と下電極基板とを所定の間隔で透明電
極層が対向するように配置したタッチパネルであって、
上電極基板又は下電極基板の少なくとも一方の透明電極
層面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓ
ｍ）が０．８×１０−３〜２．０×１０−３であり、か
つ突起間距離（Ｓｍ）が１５０μｍ以下であることを特
徴とするタッチパネルを提供することである。本発明の
更に別の目的は、このタッチパネルにおいて、上電極基
板及び／又は下電極基板に用いられた透明フィルムの少
なくとも一つが、上記の透明電極層を有するニュートン
リング防止フィルムであってもよい。また、透明導電層
は酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）から成ることが好まし
い。
明導電層を設けた透明フィルムを用い、下電極基板とし
て透明導電層を設けた透明フィルム又はガラスを用い、
これら上電極基板と下電極基板とを所定の間隔で透明電
極層が対向するように配置したタッチパネルであって、
上電極基板又は下電極基板の少なくとも一方の透明電極
層面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓ
ｍ）が０．８×１０−３〜２．０×１０−３であり、か
つ突起間距離（Ｓｍ）が１５０μｍ以下であることを特
徴とするタッチパネルを提供することである。本発明の
更に別の目的は、このタッチパネルにおいて、上電極基
板及び／又は下電極基板に用いられた透明フィルムの少
なくとも一つが、上記の透明電極層を有するニュートン
リング防止フィルムであってもよい。また、透明導電層
は酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）から成ることが好まし
い。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明のニュートンリング防止フ
ィルムは突起（即ち、凹凸）を有するが、この突起を形
成する方法としては、サンドブラスト、エンボス等で透
明プラスチック基板を粗面化する方法、透明な樹脂と顔
料から成る塗料を透明基板に塗工する方法がある。本発
明においては、簡便に上記の突起を形成することが出来
るため後者が好ましい。このように突起が形成されたフ
ィルムの上に更に透明導電層を設けてもよい。この突起
塗工層は透明導電層の形成を妨げないように設ける。
ィルムは突起（即ち、凹凸）を有するが、この突起を形
成する方法としては、サンドブラスト、エンボス等で透
明プラスチック基板を粗面化する方法、透明な樹脂と顔
料から成る塗料を透明基板に塗工する方法がある。本発
明においては、簡便に上記の突起を形成することが出来
るため後者が好ましい。このように突起が形成されたフ
ィルムの上に更に透明導電層を設けてもよい。この突起
塗工層は透明導電層の形成を妨げないように設ける。
【００１０】一方、本発明のタッチパネルは上電極基
板、下電極基板及びこれらの間隔を一定に保持する手段
から成り、上電極基板としてその上に透明導電層を形成
した透明フィルムを用い、下電極基板としてその上に透
明導電層を形成した透明フィルム基板又はガラス基板を
用い、上電極基板及び下電極基板の透明導電層を有する
面の少なくとも一方に上述の方法により突起を設け、こ
れら上電極基板と下電極基板とを所定の間隔で透明電極
層が対向するように配置したものである。この上電極基
板は指やポインティング治具で押圧する側の基板をい
う。また、これら各層の間に適宜絶縁層や支持層を設け
てもよい。更に、このタッチパネルをＬＣＤ等の表示装
置の上に配するように構成してもよい。また、タッチパ
ネルの構成部品はすべて透明である必要があるが、完全
に透明である必要は無く、タッチパネルを通して必要な
程度に文字や図形が認識できればよい。
板、下電極基板及びこれらの間隔を一定に保持する手段
から成り、上電極基板としてその上に透明導電層を形成
した透明フィルムを用い、下電極基板としてその上に透
明導電層を形成した透明フィルム基板又はガラス基板を
用い、上電極基板及び下電極基板の透明導電層を有する
面の少なくとも一方に上述の方法により突起を設け、こ
れら上電極基板と下電極基板とを所定の間隔で透明電極
層が対向するように配置したものである。この上電極基
板は指やポインティング治具で押圧する側の基板をい
う。また、これら各層の間に適宜絶縁層や支持層を設け
てもよい。更に、このタッチパネルをＬＣＤ等の表示装
置の上に配するように構成してもよい。また、タッチパ
ネルの構成部品はすべて透明である必要があるが、完全
に透明である必要は無く、タッチパネルを通して必要な
程度に文字や図形が認識できればよい。
【００１１】本発明においてフィルム又は透明フィルム
は即ち透明プラスティックフィルムを意味し、透明性が
あるものであれば特に限定されるものではないが、例え
ば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロー
スフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテルフィル
ム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケ
トンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリ
エーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素
樹脂フィルム、アクリルフィルム等を挙げることができ
る。この透明プラスティックフィルムの厚さは通常０．
１〜０．２５ｍｍ程度である。また、透明プラスチック
板は上記透明フィルムと同材料のプラスチックの板を用
いることができ、その厚さには特に制限はなく、タッチ
パネルの必要強度等を考慮して適宜定めるが、その厚さ
は通常０．２５〜５．０ｍｍ程度である。またガラス板
としては同様の厚さを有する通常のガラス板を用いる。
は即ち透明プラスティックフィルムを意味し、透明性が
あるものであれば特に限定されるものではないが、例え
ば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、
ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロー
スフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテルフィル
ム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケ
トンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリ
エーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素
樹脂フィルム、アクリルフィルム等を挙げることができ
る。この透明プラスティックフィルムの厚さは通常０．
１〜０．２５ｍｍ程度である。また、透明プラスチック
板は上記透明フィルムと同材料のプラスチックの板を用
いることができ、その厚さには特に制限はなく、タッチ
パネルの必要強度等を考慮して適宜定めるが、その厚さ
は通常０．２５〜５．０ｍｍ程度である。またガラス板
としては同様の厚さを有する通常のガラス板を用いる。
【００１２】塗工の生産効率から、いずれの構成のタッ
チパネルにおいても、フィルム基材の電極の側に突起塗
工層を設けるのが有利である。突起の形成は、樹脂中に
顔料を分散し任意の塗工機にてフィルムに連続塗工する
ことにより得られる。使用する樹脂としては、透明導電
層の形成を妨げない材料であればいずれを使用してもよ
いが、乾燥、硬化後に揮発分の少ない架橋型樹脂が好ま
しい。例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、
メラミン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリル・ウレタン
系樹脂、アクリル・メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等
を挙げることができる。顔料としては、酸化ケイ素、フ
ッ化マグネシュウム、炭酸カルシュウム、プラスティッ
クピグメント、などが挙げられる。使用目的（タッチパ
ネル）から光隠蔽性が小さく安価な酸化ケイ素（シリ
カ）が好適である。目的の表面粗さを得るためには、顔
料の平均二次粒子径が１．０〜３．０μｍであると好ま
しい。また、顔料の粒子径は均一であることが好まし
く、標準偏差は１．０以下が好ましい。ここで、顔料の
平均二次粒径はコールター・カウンター法で測定した値
である。この測定法は電解質溶液などの電気伝導性のあ
る液中に懸濁させた粒子の体積と個数を電気的に検知し
て粒子径を測定する方法であり、粒子径の個数分布が得
られる。樹脂と顔料の好ましい配合比は樹脂：顔料（乾
燥後の重量比）が９９．５：０．５〜９９．０：１．０
である。この突起塗工層の厚さは、通常１．０〜２０．
０μｍ程度である。塗工層が厚すぎると透明性が低下す
るため、好ましい範囲は１．０〜１０．０μｍである。
チパネルにおいても、フィルム基材の電極の側に突起塗
工層を設けるのが有利である。突起の形成は、樹脂中に
顔料を分散し任意の塗工機にてフィルムに連続塗工する
ことにより得られる。使用する樹脂としては、透明導電
層の形成を妨げない材料であればいずれを使用してもよ
いが、乾燥、硬化後に揮発分の少ない架橋型樹脂が好ま
しい。例えば、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、
メラミン系樹脂、アクリル系樹脂、アクリル・ウレタン
系樹脂、アクリル・メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等
を挙げることができる。顔料としては、酸化ケイ素、フ
ッ化マグネシュウム、炭酸カルシュウム、プラスティッ
クピグメント、などが挙げられる。使用目的（タッチパ
ネル）から光隠蔽性が小さく安価な酸化ケイ素（シリ
カ）が好適である。目的の表面粗さを得るためには、顔
料の平均二次粒子径が１．０〜３．０μｍであると好ま
しい。また、顔料の粒子径は均一であることが好まし
く、標準偏差は１．０以下が好ましい。ここで、顔料の
平均二次粒径はコールター・カウンター法で測定した値
である。この測定法は電解質溶液などの電気伝導性のあ
る液中に懸濁させた粒子の体積と個数を電気的に検知し
て粒子径を測定する方法であり、粒子径の個数分布が得
られる。樹脂と顔料の好ましい配合比は樹脂：顔料（乾
燥後の重量比）が９９．５：０．５〜９９．０：１．０
である。この突起塗工層の厚さは、通常１．０〜２０．
０μｍ程度である。塗工層が厚すぎると透明性が低下す
るため、好ましい範囲は１．０〜１０．０μｍである。
【００１３】透明導電層はＩｎ２Ｏ３（ＩＴＯ）等の導
電性物質をスパッタリングや蒸着等の方法や化学的気相
成長法等により付着させることにより形成され、その厚
さは通常０．０２０〜０．０２５μｍ程度である。タッ
チパネルにおいては、スペーサー、その他絶縁層や接着
層を用いて上電極基板と下電極基板との間隔を一定に保
つよう構成する。タッチパネルの構造にもよるが、通常
この間隔は３０μｍ以下である。間隔が大きい場合、筆
記応答性が低下するため、好ましくは１５μｍ以下であ
る。スペーサーは、電気絶縁性であればよく、公知の方
法で設けることができ、特に制限される物ではない。例
えば導電層上にＵＶ硬化樹脂層を形成し、露光パターニ
ングするフォトリソグラフィー法で設けてもよいし、ウ
レタン樹脂、シリコン樹脂系等透明なインクを用い、ス
クリーン印刷、グラビア印刷等の方式で導電層上に印刷
する印刷法で設けても良い。また、粒径のそろった球状
粒子を対向する電極間に散布し、スペーサーとして用い
てもよい。
電性物質をスパッタリングや蒸着等の方法や化学的気相
成長法等により付着させることにより形成され、その厚
さは通常０．０２０〜０．０２５μｍ程度である。タッ
チパネルにおいては、スペーサー、その他絶縁層や接着
層を用いて上電極基板と下電極基板との間隔を一定に保
つよう構成する。タッチパネルの構造にもよるが、通常
この間隔は３０μｍ以下である。間隔が大きい場合、筆
記応答性が低下するため、好ましくは１５μｍ以下であ
る。スペーサーは、電気絶縁性であればよく、公知の方
法で設けることができ、特に制限される物ではない。例
えば導電層上にＵＶ硬化樹脂層を形成し、露光パターニ
ングするフォトリソグラフィー法で設けてもよいし、ウ
レタン樹脂、シリコン樹脂系等透明なインクを用い、ス
クリーン印刷、グラビア印刷等の方式で導電層上に印刷
する印刷法で設けても良い。また、粒径のそろった球状
粒子を対向する電極間に散布し、スペーサーとして用い
てもよい。
【００１４】本発明において、中心線平均表面粗さ（Ｒ
ａ）は、表面粗さ計にてＪＩＳ Ｂ０６０１に準じて測
定する。また、突起間距離（Ｓｍ）は、表面粗さ計にて
ＪＩＳ Ｂ０６０１に準じ粗さ曲線を求め算出する。突
起の曲率（Ｒａ／Ｓｍ）はこれらの数値から算出する。
突起の曲率（Ｒａ／Ｓｍ）は０．８×１０−３〜２．０
×１０−３であることが必要である。この範囲より小さ
い値であると、ニュートンリングは防止できず、また、
この範囲より大きいと絶縁不良（異常放電）が発生しや
すくなる。特に好ましい範囲は１．０×１０−３〜１．
７×１０−３である。なお、本発明においては、これら
Ｒａ及びＳｍは、粗面化することにより突起が形成され
た透明フィルム、又は突起塗工層を設けることにより突
起が形成された透明フィルムの突起が形成された面につ
いてのものであるが、これらに更に透明導電層を設けた
場合であっても、この透明導電層のこれら数値に対する
影響は極めて少ないため、これらに透明導電層を設けた
場合のＲａ及びＳｍは透明導電層を設ける前のＲａ及び
Ｓｍと差はない。
ａ）は、表面粗さ計にてＪＩＳ Ｂ０６０１に準じて測
定する。また、突起間距離（Ｓｍ）は、表面粗さ計にて
ＪＩＳ Ｂ０６０１に準じ粗さ曲線を求め算出する。突
起の曲率（Ｒａ／Ｓｍ）はこれらの数値から算出する。
突起の曲率（Ｒａ／Ｓｍ）は０．８×１０−３〜２．０
×１０−３であることが必要である。この範囲より小さ
い値であると、ニュートンリングは防止できず、また、
この範囲より大きいと絶縁不良（異常放電）が発生しや
すくなる。特に好ましい範囲は１．０×１０−３〜１．
７×１０−３である。なお、本発明においては、これら
Ｒａ及びＳｍは、粗面化することにより突起が形成され
た透明フィルム、又は突起塗工層を設けることにより突
起が形成された透明フィルムの突起が形成された面につ
いてのものであるが、これらに更に透明導電層を設けた
場合であっても、この透明導電層のこれら数値に対する
影響は極めて少ないため、これらに透明導電層を設けた
場合のＲａ及びＳｍは透明導電層を設ける前のＲａ及び
Ｓｍと差はない。
【００１５】
【実施例】以下に、本発明の具体的な構成を実施例によ
って説明すると共に、その特性を比較例と対比して説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。なお、実施例中の「部」及び「％」は、特に明示し
ない限り、それぞれ「重量部」及び「重量％」を表す。
なお、塗布液に配合した顔料の平均粒子径、及びその標
準偏差はＭＵＬＴＩＳＩＺＥＲ３（ベックマン・コール
ター株式会社製）にて測定した。図１に本発明のタッチ
パネルの基本的構造を示す。１Ａはガラス、フィルム又
はプラスティック板等の上側の基板、２は顔料を含有し
た突起塗工層、３Ａは２の突起塗工層上に形成された透
明導電層、１Ｂはガラス、フィルム、プラスティック板
等の下側の基板、３Ｂはその上に形成された透明導電
層、４は２枚の電極間の間隔を一定に保つためのスペー
サーを表わす。
って説明すると共に、その特性を比較例と対比して説明
するが、本発明はこれによって限定されるものではな
い。なお、実施例中の「部」及び「％」は、特に明示し
ない限り、それぞれ「重量部」及び「重量％」を表す。
なお、塗布液に配合した顔料の平均粒子径、及びその標
準偏差はＭＵＬＴＩＳＩＺＥＲ３（ベックマン・コール
ター株式会社製）にて測定した。図１に本発明のタッチ
パネルの基本的構造を示す。１Ａはガラス、フィルム又
はプラスティック板等の上側の基板、２は顔料を含有し
た突起塗工層、３Ａは２の突起塗工層上に形成された透
明導電層、１Ｂはガラス、フィルム、プラスティック板
等の下側の基板、３Ｂはその上に形成された透明導電
層、４は２枚の電極間の間隔を一定に保つためのスペー
サーを表わす。
【００１６】実施例１ 上電極基板を構成する基板１Ａとして厚さが１８８μｍ
のポリエステルフィルム（ダイアホイルヘキスト株式会
社製 Ｏ−３００Ｅ-１８８）を用い、その一方の面
に、ワイヤーバー＃５を用いて、下記組成の塗布液を塗
布して被膜層を設けた。これを加熱乾燥したした後、被
膜層に１２０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプで１０ｃｍの距離
から１秒間照射し、突起塗工層２を形成させた。その厚
みは５μｍであった。塗布液の組成 アクリル系紫外線硬化性樹脂：９９．５重量部（荒川化
学株式会社製 ビームセット５５０Ｂ） 無定型シリカ：０．５重量部（富士シリシア化学株式会
社製サイリシア４３０を粉砕し、平均二次粒径１．７μ
ｍ、標準偏差０．５として使用した。） 光反応開始剤：５．０重量部（チバ・ガイギー社製 イ
ルガキュア１８４） イソプロピルアルコール：粘度調整のための希釈剤とし
て適宜の量
のポリエステルフィルム（ダイアホイルヘキスト株式会
社製 Ｏ−３００Ｅ-１８８）を用い、その一方の面
に、ワイヤーバー＃５を用いて、下記組成の塗布液を塗
布して被膜層を設けた。これを加熱乾燥したした後、被
膜層に１２０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプで１０ｃｍの距離
から１秒間照射し、突起塗工層２を形成させた。その厚
みは５μｍであった。塗布液の組成 アクリル系紫外線硬化性樹脂：９９．５重量部（荒川化
学株式会社製 ビームセット５５０Ｂ） 無定型シリカ：０．５重量部（富士シリシア化学株式会
社製サイリシア４３０を粉砕し、平均二次粒径１．７μ
ｍ、標準偏差０．５として使用した。） 光反応開始剤：５．０重量部（チバ・ガイギー社製 イ
ルガキュア１８４） イソプロピルアルコール：粘度調整のための希釈剤とし
て適宜の量
【００１７】この突起塗工層２について、表面粗さ計
（小坂研究所製 ＳＥ３０Ｋ）を用いてＪＩＳ Ｂ０６
０１に準じてＲａを測定し、同表面粗さ計にてＪＩＳ
Ｂ０６０１に準じ粗さ曲線を求めＳｍを算出した。次
に、突起塗工層２の上にＩｎ２Ｏ３（ＩＴＯ）をスパッ
タリングすることにより透明導電層３Ａを形成し、上部
電極基板とした。このＩＴＯ処理による透明導電層３Ａ
の厚さは０．０２μｍであった。この透明導電層を設け
た後の粗さ（Ｒａ）は透明導電層を設ける前の粗さと差
はなかった。更に、基板１Ｂとしてガラス基板を用い、
同様のＩＴＯ処理を行って透明導電層３Ｂを設けること
により、下電極基板を作製した。下電極基板の透明導電
層３Ｂの上に、光硬化性のアクリル樹脂層を設け、紫外
線露光後パターニングしてスペーサー４を形成させた。
このスペーサー４は、高さ９μｍ、直径３０μｍの円柱
で、スペーサー間隔は３ｍｍとした。このようにして作
製した上電極基板と下電極基板とを透明電極層が対向す
るように配置することにより、タッチパネルを構成し
た。上電極基板と下電極基板との間の間隔はスペーサー
の高さに相当することになる。
（小坂研究所製 ＳＥ３０Ｋ）を用いてＪＩＳ Ｂ０６
０１に準じてＲａを測定し、同表面粗さ計にてＪＩＳ
Ｂ０６０１に準じ粗さ曲線を求めＳｍを算出した。次
に、突起塗工層２の上にＩｎ２Ｏ３（ＩＴＯ）をスパッ
タリングすることにより透明導電層３Ａを形成し、上部
電極基板とした。このＩＴＯ処理による透明導電層３Ａ
の厚さは０．０２μｍであった。この透明導電層を設け
た後の粗さ（Ｒａ）は透明導電層を設ける前の粗さと差
はなかった。更に、基板１Ｂとしてガラス基板を用い、
同様のＩＴＯ処理を行って透明導電層３Ｂを設けること
により、下電極基板を作製した。下電極基板の透明導電
層３Ｂの上に、光硬化性のアクリル樹脂層を設け、紫外
線露光後パターニングしてスペーサー４を形成させた。
このスペーサー４は、高さ９μｍ、直径３０μｍの円柱
で、スペーサー間隔は３ｍｍとした。このようにして作
製した上電極基板と下電極基板とを透明電極層が対向す
るように配置することにより、タッチパネルを構成し
た。上電極基板と下電極基板との間の間隔はスペーサー
の高さに相当することになる。
【００１８】このようにして作製したタッチパネルにつ
いて、下記の手順に従って絶縁性試験を行い、ニュート
ンリングの効果の確認を行った。絶縁性試験 タッチパネルの対向する透明電極層（３Ａ，３Ｂ）間に
直流２５Ｖの電圧をかけ、これら電極層間の抵抗値を測
定し、絶縁性能を評価した。タッチパネルの絶縁性能
は、電極層間の抵抗値が２０Ｍオーム以上であることが
必要であり、２０Ｍオーム未満の場合、絶縁不良と判断
した。絶縁不良の場合は、集中電界による異常なコロナ
放電が発生しており、透明導電層の損傷が起こる。ニュートンリングの効果の確認 タッチパネルの上電極基板を２６ｇ／ｃｍの圧力でペン
先で押圧し、ニュートンリングの発生状況を目視にて確
認した。
いて、下記の手順に従って絶縁性試験を行い、ニュート
ンリングの効果の確認を行った。絶縁性試験 タッチパネルの対向する透明電極層（３Ａ，３Ｂ）間に
直流２５Ｖの電圧をかけ、これら電極層間の抵抗値を測
定し、絶縁性能を評価した。タッチパネルの絶縁性能
は、電極層間の抵抗値が２０Ｍオーム以上であることが
必要であり、２０Ｍオーム未満の場合、絶縁不良と判断
した。絶縁不良の場合は、集中電界による異常なコロナ
放電が発生しており、透明導電層の損傷が起こる。ニュートンリングの効果の確認 タッチパネルの上電極基板を２６ｇ／ｃｍの圧力でペン
先で押圧し、ニュートンリングの発生状況を目視にて確
認した。
【００１９】実施例２ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９９．２重量部、無定型シリカ：
０．８重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。実施例３ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９９．０重量部、無定型シリカ：
１．０重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。
系紫外線硬化性樹脂：９９．２重量部、無定型シリカ：
０．８重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。実施例３ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９９．０重量部、無定型シリカ：
１．０重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。
【００２０】比較例１ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９９．９重量部、無定型シリカ：
０．１重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。比較例２ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９９．８重量部、無定型シリカ：
０．２重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。比較例３ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９８．５重量部、平均二次粒子径
が４．０μｍ（標準偏差１．５）の無定型シリカ：１．
５重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチパネ
ルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。
系紫外線硬化性樹脂：９９．９重量部、無定型シリカ：
０．１重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。比較例２ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９９．８重量部、無定型シリカ：
０．２重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチ
パネルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。比較例３ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を、アクリル
系紫外線硬化性樹脂：９８．５重量部、平均二次粒子径
が４．０μｍ（標準偏差１．５）の無定型シリカ：１．
５重量部とした以外は実施例1と同様にしてタッチパネ
ルを構成し、実施例１と同様の試験を行った。
【００２１】比較例４ 実施例1で、突起塗工層を形成するための塗布液に配合
する無定型シリカを平均二次粒子径１．５μｍ（標準偏
差１．５）の無定型シリカを用いた以外は実施例1と同
様にしてタッチパネルを構成し、実施例１と同様の試験
を行った。比較例５ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を樹脂：９
８．５重量部、無定型シリカ：１．５重量部とした以外
は実施例1と同様にしてタッチパネルを構成し、実施例
１と同様の試験を行った。
する無定型シリカを平均二次粒子径１．５μｍ（標準偏
差１．５）の無定型シリカを用いた以外は実施例1と同
様にしてタッチパネルを構成し、実施例１と同様の試験
を行った。比較例５ 突起塗工層を形成するための塗布液の配合を樹脂：９
８．５重量部、無定型シリカ：１．５重量部とした以外
は実施例1と同様にしてタッチパネルを構成し、実施例
１と同様の試験を行った。
【００２２】実施例１〜３及び比較例１〜５の絶縁性試
験及びニュートンリングの効果の確認の結果を表１に示
す。
験及びニュートンリングの効果の確認の結果を表１に示
す。
【表１】 Ｒａ／Ｓｍが０．８×１０−３〜２．０×１０−３であ
り、Ｓｍが１５０μｍ以下である実施例１〜３のタッチ
パネルにおいては、ニュートンリングが防止され、かつ
絶縁性は良好であったのに対して、Ｒａ／Ｓｍが０．８
×１０−３〜２．０×１０−３及びＳｍが１５０μｍ以
上の条件を満たさない比較例１〜５のタッチパネルはい
ずれもニュートンリング又は絶縁不良の少なくとも一方
が確認された。
り、Ｓｍが１５０μｍ以下である実施例１〜３のタッチ
パネルにおいては、ニュートンリングが防止され、かつ
絶縁性は良好であったのに対して、Ｒａ／Ｓｍが０．８
×１０−３〜２．０×１０−３及びＳｍが１５０μｍ以
上の条件を満たさない比較例１〜５のタッチパネルはい
ずれもニュートンリング又は絶縁不良の少なくとも一方
が確認された。
【００２３】
【発明の効果】本発明のニュートンリング防止フィルム
は、効果的にニュートンリングを防止又は抑制すること
ができ、特に透明導電層を有するニュートンリング防止
フィルムを抵抗膜方式のタッチパネルに使用した場合に
は、ニュートンリングによるディスプレイの視認性低下
を最小限としつつ異常放電等によるタッチパネルの機能
低下を抑制できる。
は、効果的にニュートンリングを防止又は抑制すること
ができ、特に透明導電層を有するニュートンリング防止
フィルムを抵抗膜方式のタッチパネルに使用した場合に
は、ニュートンリングによるディスプレイの視認性低下
を最小限としつつ異常放電等によるタッチパネルの機能
低下を抑制できる。
【図１】本発明のタッチパネルの基本的構造を示す図で
ある。
ある。
１Ａ 基板（透明フィルム） １Ｂ 基板（ガラス板） ２ 突起塗工層 ３Ａ，３Ｂ 透明導電層 ４ スペーサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F006 AA35 AB24 AB76 BA06 CA08 4F100 AA20B AA20H AG00C AK41 BA03 BA07 BA10A BA10C EH46 EH462 EJ34 EJ342 EJ42 EJ422 EJ54 EJ542 EJ86 EJ862 GB41 JG01C JM02B JN01A JN01C JN18 JN30 YY00B 5B087 AA09 AB04 CC01 CC14 CC15 CC36 5G307 FA02 FB01 FC10
Claims (5)
- 【請求項１】 粗面化することにより突起が形成された
透明フィルム、突起塗工層を設けることにより突起が形
成された透明フィルム、又はその突起が形成された面に
更に透明導電層を設けたこれら何れかの透明フィルムか
ら成り、その突起を有する面の中心線平均表面粗さ（Ｒ
ａ）／突起間距離（Ｓｍ）が０．８×１０−３〜２．０
×１０−３であり、かつ突起間距離（Ｓｍ）が１５０μ
ｍ以下であるニュートンリング防止フィルム。 - 【請求項２】 突起塗工層を設けることにより突起が形
成された透明フィルム、又はその突起が形成された面に
更に透明導電層を設けた前記透明フィルムから成る請求
項１に記載のニュートンリング防止フィルムであって、
該突起塗工層が樹脂中にシリカが分散された塗膜である
ニュートンリング防止フィルム。 - 【請求項３】 前記シリカの平均二次粒子径が１．０〜
３．０μｍであり、その標準偏差が１．０以下である請
求項２に記載のニュートンリング防止フィルム。 - 【請求項４】 上電極基板として透明導電層を設けた透
明フィルムを用い、下電極基板として透明導電層を設け
た透明フィルム又はガラスを用い、これら上電極基板と
下電極基板とを所定の間隔で透明電極層が対向するよう
に配置したタッチパネルであって、上電極基板又は下電
極基板の少なくとも一方の透明電極層面の中心線平均表
面粗さ（Ｒａ）／突起間距離（Ｓｍ）が０．８×１０
−３〜２．０×１０−３であり、かつ突起間距離（Ｓ
ｍ）が１５０μｍ以下であることを特徴とするタッチパ
ネル。 - 【請求項５】 上電極基板及び／又は下電極基板に用い
られた透明フィルムの少なくとも一つが、請求項１〜３
のいずれか一項に記載の透明電極層を有するニュートン
リング防止フィルムである請求項４に記載のタッチパネ
ル。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002037925A JP4497782B2 (ja) | 2001-03-08 | 2002-02-15 | ニュートンリングが防止されたタッチパネル及び該タッチパネル用透明電極 |
| KR1020020010760A KR100642134B1 (ko) | 2001-03-08 | 2002-02-28 | 뉴튼링 방지필름 및 터치패널 |
| US10/087,560 US6937230B2 (en) | 2001-03-08 | 2002-02-28 | Newton ring prevention film and touch panel |
| TW091104252A TW559778B (en) | 2001-03-08 | 2002-03-07 | Newton ring prevention film and touch panel |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001064442 | 2001-03-08 | ||
| JP2001-64442 | 2001-03-08 | ||
| JP2002037925A JP4497782B2 (ja) | 2001-03-08 | 2002-02-15 | ニュートンリングが防止されたタッチパネル及び該タッチパネル用透明電極 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002373056A true JP2002373056A (ja) | 2002-12-26 |
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Family
ID=26610840
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002037925A Expired - Fee Related JP4497782B2 (ja) | 2001-03-08 | 2002-02-15 | ニュートンリングが防止されたタッチパネル及び該タッチパネル用透明電極 |
Country Status (4)
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|---|---|
| US (1) | US6937230B2 (ja) |
| JP (1) | JP4497782B2 (ja) |
| KR (1) | KR100642134B1 (ja) |
| TW (1) | TW559778B (ja) |
Cited By (9)
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|---|---|---|---|---|
| WO2005062161A1 (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-07 | Nissha Printing Co., Ltd. | 高解像度ディスプレイ対応タッチパネル |
| WO2007032205A1 (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corporation | 透明導電性フィルム、タッチパネル用電極板およびタッチパネル |
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