JP5508858B2 - ニュートンリング防止シート、及びこれを用いたタッチパネル - Google Patents
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Description
本発明のニュートンリング防止シートにおいて、例えば、凸部は、円柱状および円錐台状のいずれかである。
ハードコート層の擦傷性や硬度は、ハードコート層を構成する樹脂の種類や硬化の条件を調整することにより調整することができる。
本発明のニュートンリング防止シートは、2P法、2T法やエンボス加工法等のような転写賦形技術により形成することができる。特に、目的とする形状を正確に形成できるという点で、2P法および2T法が好ましい。つまり、エンボス加工法で形成された凹凸は、樹脂の弾性により、版(エンボスロール)の凹凸形状に比べ角がなだらかになった形状となり、所望のサイズの凹凸や先端に平坦な面を有する凸部を賦形することが難しいが、2P法や2T法を採用することにより、所望の形状を形成できる。
図2は、本発明のタッチパネルの実施形態20、20’、20”を示す図である。本発明のタッチパネルは、図示するように、導電性膜22を有する一対のパネル板21の導電性膜同士が対向するようにスペーサー23を介して配置してなる抵抗膜方式のタッチパネルであって、導電性膜22のいずれか一方または両方が、上述の本発明のニュートンリング防止シート10、10’、10”のニュートンリング防止層上に形成されてなるものである。図では省略されているが、各導電性膜22は図示しない電気回路に接続されている。また図では、ニュートンリング防止層の凹凸形状(凸部)やスペーサーのサイズは、説明のために正確さを無視して示している。
[実施例1]
微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型aを用い、金型aにニュートンリング防止層用塗布液として下記処方の混合液を充填し、その上に支持体として厚み188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(コスモシャインA4300:東洋紡績社)を密着させた。
<ニュートンリング防止層用塗布液>
・アクリルモノマー 50部
(メタクリル酸メチル:和光純薬社)
・多官能性アクリルモノマー 45部
(NKエステルA-TMPT-3EO:新中村化学工業社)
・光重合開始剤 5部
(イルガキュア184:チバ・ジャパン社)
実施例1で用いた金型aに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型bを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2のニュートンリング防止シートを作製した。実施例2で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.5μm、高さが1.5μmの円柱が、45μmのピッチで配置されていた。
微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型cを用い、金型cにニュートンリング防止層用塗布液として実施例1と同様の混合液を充填した。その後、ニュートンリング防止層に対し高圧水銀灯により紫外線を600mJ/cm2照射してニュートンリング防止層を硬化させ、金型cを剥離することで、厚み200μmのニュートンリング防止層からなる実施例3のニュートンリング防止シートを作製した。実施例3で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.3μm、高さが1.0μmの円柱が、30μmのピッチで配置されていた。
実施例3で用いた金型cに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型dを用いた以外は実施例3と同様にして、実施例4のニュートンリング防止シートを作製した。実施例4で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.3μm、高さが2.5μmの円柱が、50μmのピッチで配置されていた。
支持体として厚み188μmのポリエチレンナフタレートフィルム(テオネックスQ51:帝人デュポンフィルム社)を用い、これを射出成形機の金型にセットし、金型と支持体との間にニュートンリング防止シート用の高分子樹脂のペレットを注入し、支持体上に、厚み10μmのニュートンリング防止層を賦形転写し、実施例5のニュートンリング防止シートを作製した。高分子樹脂としてポリカーボネート樹脂(パンライトL-1225:帝人化成社)を用い、射出成形時のシリンダー温度は280度、金型温度は85度とした。型は、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型eを用いた。実施例5で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.2μm、高さが1.3μmの円柱が、30μmのピッチで配置されていた。
実施例5で用いた金型eに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型fを用いた以外は実施例5と同様にして、実施例6のニュートンリング防止シートを作製した。実施例6で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.3μm、高さが1.8μmの円柱が、80μmのピッチで配置されていた。
射出成形機を用いて、支持体を用いることなく、厚み200μmのニュートンリング防止層からなるニュートンリング防止シートを作製した。高分子樹脂としてポリカーボネート樹脂(パンライトL-1225:帝人化成社)を用い、シリンダー温度280度、金型温度85度の条件下で成形した。型は、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型gを用いた。実施例7で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.6μm、高さが1.8μmの円柱が、60μmのピッチで配置されていた。
実施例7で用いた金型gに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型hを用いた以外は実施例7と同様にして、実施例8のニュートンリング防止シートを作製した。実施例8で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、直径0.3μm、高さが1.9μmの円柱が、100μmのピッチで配置されていた。
実施例1で用いた金型aに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型iを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例9のニュートンリング防止シートを作製した。実施例9で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.1μm、下底の直径2.5μm、高さが1.4μmの円錐台が、40μmのピッチで配置されていた。
実施例1で用いた金型aに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型jを用いた以外は実施例1と同様にして、実施例10のニュートンリング防止シートを作製した。実施例10で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.2μm、下底の直径3.5μm、高さが2.0μmの円錐台が、50μmのピッチで配置されていた。
実施例3で用いた金型cに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型kを用いた以外は実施例3と同様にして、実施例11のニュートンリング防止シートを作製した。実施例11で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.3μm、下底の直径1.7μm、高さが0.7μmの円錐台が、60μmのピッチで配置されていた。
実施例3で用いた金型cに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型lを用いた以外は実施例3と同様にして、実施例12のニュートンリング防止シートを作製した。実施例12で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.2μm、下底の直径2.5μm、高さが2.0μmの円錐台が、55μmのピッチで配置されていた。
実施例5で用いた金型eに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型mを用いた以外は実施例5と同様にして、実施例13のニュートンリング防止シートを作製した。実施例13で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.2μm、下底の直径2.2μm、高さが1.2μmの円錐台が、20μmのピッチで配置されていた。
実施例5で用いた金型eに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型nを用いた以外は実施例5と同様にして、実施例14のニュートンリング防止シートを作製した。実施例14で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.3μm、下底の直径2.7μm、高さが1.7μmの円錐台が、70μmのピッチで配置されていた。
実施例7で用いた金型gに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型oを用いた以外は実施例7と同様にして、実施例15のニュートンリング防止シートを作製した。実施例15で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.055μm、下底の直径1.3μm、高さが1.1μmの円錐台が、35μmのピッチで配置されていた。
実施例7で用いた金型gに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型pを用いた以外は実施例7と同様にして、実施例16のニュートンリング防止シートを作製した。実施例16で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、上底の直径0.3μm、下底の直径2.2μm、高さが1.5μmの円錐台が、10μmのピッチで配置されていた。
支持体として実施例1と同様のポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液を塗布、乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射して厚み2μmのニュートンリング防止層を形成し、比較例1のニュートンリング防止シートを作製した。
・電離放射線硬化性樹脂(固形分100%) 50部
(ビームセット575:荒川化学工業社)
・微粒子(アクリル系樹脂粒子) 0.4部
(平均粒子径3μm)
・光重合開始剤 1.5部
(イルガキュア651:チバ・ジャパン社)
・イソプロピルアルコール 200部
比較例1のニュートンリング防止層用塗布液の微粒子を、平均粒子径9μmのアクリル系樹脂粒子に変更し、厚み7μmのニュートンリング防止層を形成した以外は、比較例1と同様にして、比較例2のニュートンリング防止シートを作製した。
実施例1と同様のポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、下記処方のニュートンリング防止層用塗布液を塗布、乾燥し、厚み2μmのニュートンリング防止層を形成した後、60℃、48時間キュアリングして、比較例3のニュートンリング防止シートを作製した。
・熱硬化型樹脂(アクリル系樹脂)(固形分50%)81部
(アクリディックA807:大日本インキ化学工業社)
・架橋剤(ポリイソシアネート)(固形分60%) 16部
(タケネートD110N:三井化学ポリウレタン社)
・微粒子(アクリル系樹脂粒子) 2部
(平均粒子径3μm)
・メチルエチルケトン 77部
・トルエン 76部
実施例1で用いた金型aに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型qを用いた以外は実施例1と同様にして、比較例4のニュートンリング防止シートを作製した。比較例4で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、対角線の長さが0.4μm、高さが2.0μmの四角柱が、60μmのピッチで配置されていた。
実施例1で用いた金型aに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型rを用いた以外は実施例1と同様にして、比較例5のニュートンリング防止シートを作製した。比較例5で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、先端部直径が0.01μm、底面部直径が1.3μm、高さが1.1μmの円錐が、7μmのピッチで配置されていた。
実施例1で用いた金型aに換えて、微細穴開け加工技術により形成された特定の凹凸形状を賦形転写することができる金型sを用いた以外は実施例1と同様にして、比較例6のニュートンリング防止シートを作製した。比較例6で作製したニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層表面には、先端部直径が0.01μm、底面部直径が1.3μm、高さが1.1μmの円錐が、35μmのピッチで配置されていた。
(1)上部電極のパネル板の作製
上記実施例1〜16、および比較例1〜6のニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層上に、厚み約20nmのITOの導電性膜をスパッタリング法で形成し、他方の面に接着剤を介してハードコートフィルム(KBフィルムN05S:きもと社)を貼合し、4型の大きさ(縦87.3mm、横64.0mmの長方形)に切り取り、上部電極のパネル板をそれぞれ作製した。
支持体として、厚み1mmの強化ガラス板の一方の面に、厚み約20nmのITOの導電性膜をスパッタリング法で形成し、4型の大きさ(縦87.3mm、横64.0mmの長方形)に切り取り、下部電極のパネル板を作製した。
上記下部電極のパネル板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化性樹脂(Dot Cure TR5903:太陽インキ社)をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径50μm、高さ8μmのスペーサーを1mmの間隔で配列させた。
上記上部電極のパネル板と下部電極のパネル板とを、各パネル板の導電性膜同士を対向するように配置させ、接着部分が表示面の領域外となるよう、厚み30μm、幅3mmの両面接着テープで縁を接着し、実施例1〜16、および比較例1〜6のタッチパネルを作製した。
実施例1〜16、および比較例1〜6で得られたニュートンリング防止シートについて、ニュートンリング防止性、透明性について評価した。また、実施例1〜16、および比較例1〜6で得られたタッチパネルについて、スパークル防止性について評価した。評価結果を表1に示す。
実施例1〜16、および比較例1〜6で得られたニュートンリング防止シートを、表面が平滑なガラス板の上にニュートンリング防止層が密着するように載せて指で押しつけ、ニュートンリングが発生するかどうかを目視にて評価した。評価は、ニュートンリングがまったく発生しなかったものを「◎」、ニュートンリングがごくわずかに発生したが視認性に何ら影響を及ぼすものでなかったものを「○」、ニュートンリングがわずかに発生したが視認性を低下させるには至らなかったものを「△」、ニュートンリングが発生し視認性が低下したものを「×」とした。
実施例1〜16、および比較例1〜6で得られたニュートンリング防止シートのヘーズを、JIS K7136:2000に基づいて、ヘーズメーター(NDH2000:日本電飾社)を用いて測定し、評価した。評価は、測定値が3.0%未満であったものを「◎」、3.0%以上4.0%未満であったものを「○」、4.0%以上5.0%未満であったものを「△」、5.0%以上であったものを「×」とした。なお、測定はニュートンリング防止層を有する面から光を入射させた。
実施例1〜16、および比較例1〜6のタッチパネルについて、CRTディスプレイの表示画面をグリーン100%に画像表示させ、タッチパネルの下部電極側を表示画面に密着させて、目視にて評価した。評価は、ギラつきがないものを「◎」、ギラつきがほとんどないものを「○」、ギラつきが若干あるものを「△」、ギラつきがはっきりと確認できるものを「×」、ギラつきが著しいものを「××」とした。
11・・・ニュートンリング防止層
12・・・支持体
20、20’、20”・・・タッチパネル
21・・・パネル板
22・・・導電性膜
23・・・スペーサー
Claims (10)
- 複数の凸部が配置された凸状パターンを表面に備えたニュートンリング防止層を有するニュートンリング防止シートであって、
前記ニュートンリング防止層は実質的に粒子状物質を含有せず、
前記凸状パターンの凸部は、先端が角のない平坦な面であって、該平坦な面の最大径が0.055μm以上、0.6μm以下であることを特徴とするニュートンリング防止シート。 - 請求項1に記載のニュートンリング防止シートであって、前記複数の凸部は、平均の高さが0.7〜2.5μm、高さの標準偏差が0.5μm以下であることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項1又は2に記載のニュートンリング防止シートであって、前記複数の凸部は、20〜80μmのピッチで形成されていることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項1から3のいずれか1項に記載のニュートンリング防止シートであって、前記凸部は略同一形状であることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項1から4のいずれか1項に記載のニュートンリング防止シートであって、前記凸部先端の面は、略円形であることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項5に記載のニュートンリング防止シートであって、前記凸部は、円柱状および円錐台状のいずれかであることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項1から6のいずれか1項に記載のニュートンリング防止シートであって、前記ニュートンリング防止層は高分子樹脂により構成されていることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項7に記載のニュートンリング防止シートであって、前記凸状パターンは、2P法および2T法から選ばれる微細転写技術により形成されていることを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 請求項1から8のいずれか1項記載のニュートンリング防止シートであって、ニュートンリング防止層の凸状パターンを備えた面とは反対面に、ハードコート層を備えたことを特徴とするニュートンリング防止シート。
- 導電性膜を有する一対のパネル板の前記導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置してなる抵抗膜方式のタッチパネルであって、前記導電性膜のいずれか一方または両方が請求項1から9のいずれか1項に記載のニュートンリング防止シートのニュートンリング防止層上に形成されてなることを特徴とするタッチパネル。
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