KR101408414B1

KR101408414B1 - 광학용 필름 및 이를 사용한 투명 도전성 부재, 투명 터치 패널

Info

Publication number: KR101408414B1
Application number: KR1020097008561A
Authority: KR
Inventors: 마사토 사이토; 마스오 고야마
Original assignee: 키모토 컴파니 리미티드
Priority date: 2006-09-29
Filing date: 2007-09-21
Publication date: 2014-06-17
Also published as: TWI449622B; US20090315844A1; US8279383B2; CN101523241B; CN101523241A; TW200831286A; WO2008041506A1; JPWO2008041506A1; KR20090058587A

Abstract

본 발명은 하드코트성 및 투시 해상성을 유지하면서, 간섭 불균일이 눈에 띄지 않는 광학용 필름을 제공한다. 또한 본 발명의 광학용 필름은 기재층(21)과, 하드코트성을 갖는 수지층(23) 사이에 하지층(22)을 배치한다. 기재층(21)의 굴절률을 na, 하지층(22)의 굴절률을 nb, 수지층(23)의 굴절률을 nc로 한 경우에, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시킨다(단, na≠nc). 기재층(21)의 굴절률 na와 수지층(23)의 굴절률 nb의 차가 0.5 이내이다. 이것에 의해, 인접하는 층의 굴절률 차를 작게 할 수 있기 때문에, 간섭 불균일을 억제할 수 있고, 투시 해상성을 유지할 수 있다.

Description

광학용 필름 및 이를 사용한 투명 도전성 부재, 투명 터치 패널{Film for optical use, transparent conductive member using the same, and transparent touch panel}

본 발명은 하드코트성 및 투시 해상성을 유지하면서, 간섭무늬를 억제한 광학용 필름 및 이를 사용한 투명 도전성 부재, 투명 터치 패널에 관한 것이다.

최근, 화상표시소자로서 액정표시장치가 주목되고 있다. 액정표시장치는 휴대용 전자수첩, 정보단말 등으로 응용되어, 예를 들면, 휴대용 전자수첩, 정보단말 등으로의 입력장치로서 사용되고 있다. 입력장치로서 액정표시소자를 사용하는 경우, 액정표시소자 위에 투명한 터치 패널을 올린 구조가 채용된다. 특히, 가격 등의 면에서 저항막 방식의 터치 패널이 일반적으로 사용되고 있다.

저항막 방식의 터치 패널은, 투명 도전성 필름과 투명 도전막 부착 유리를 적당한 갭으로 거리를 두고 배치한 구조인 것이 일반적으로 사용된다. 투명 도전성 필름이, 손가락이나 펜으로 눌러내려짐으로써 대향하는 투명 도전막 부착 유리에 접촉되어, 양자가 통전(通電)한다. 이것에 의해, 눌러내려진 것이 전기적으로 검출된다.

투명 도전성 필름으로서는, 플라스틱 필름 등의 기재 필름의 아랫면(투명 도 전막 부착 유리에 대향하는 면)에 인듐-주석 산화물(이하, 「ITO」라고 한다) 등의 투명 도전막을 형성한 것이 일반적으로 사용되고 있다. 기재 필름으로서는, 투명 고분자 필름의 표면에 투명 하드코트막을 설치한 투명 하드코트 필름이 사용된다. 투명 하드코트 필름을 투명 도전성 필름의 기재 필름으로서 사용함으로써, 투명 도전성 필름의 내구성을 향상시킬 수 있다.

한편, 휴대용 전자수첩, 정보단말 등의 입력장치가 사용되는 환경에서는, 조명으로서 삼파장 형광등이 사용되는 경우가 많다. 삼파장 형광등은 특정 삼파장의 발광강도가 크고, 물체가 분명히 보인다는 특성이 있기 때문이다.

그러나, 특허문헌 1에 기재되어 있는 바와 같이, 현재 상태의 터치 패널 등에 끼워 넣어진 투명 하드코트 필름은, 투명 하드코트막의 두께 불균일에 기인하는 간섭무늬가 생기는 경우가 있고, 특히, 삼파장 형광등을 조명으로 하는 환경에서는, 간섭무늬가 눈에 띈다는 문제가 발생하고 있다. 이와 같은 간섭무늬는, 투명 하드코트 필름을 구성하는 투명 고분자 필름과 투명 하드코트막의 굴절률을 동일하게 함으로써 해소할 수 있지만, 투명 하드코트막의 하드코트성을 유지하면서, 굴절률을 조정하는 것은 어렵다. 또한, 투명 하드코트막에 매트제를 함유시켜서 그 표면을 요철면으로 함으로써, 간섭무늬를 눈에 띄지 않게 하는 것도 가능하지만, 투명 하드코트 필름을 통해 관찰되는 상(像)의 해상성(투시 해상성)이 저하된다. 특허문헌 1에는, 투명 하드코트막의 색상과 채도를 조정함으로써 간섭무늬를 억제하는 것을 개시하고 있다.

특허문헌 2에는, 하드코트막 위에 설치하는 반사방지층의 두께 불균일에 의 해 반사방지층에서 간섭무늬가 발생하는 것을 억제하기 위하여, 반사방지층을 소정의 굴절률 범위의 고굴절률층과 저굴절률층의 2층 구조로 하는 것을 개시하고 있다.

특허문헌 1: 일본국 특허공개 제2003-334891호 공보(배경기술)

특허문헌 2: 일본국 특허공개 제2005-257840호 공보(배경기술)

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

본 발명은 하드코트성 및 투시 해상성을 유지하면서, 간섭무늬가 눈에 띄지 않는 광학용 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 이 광학용 필름을 기재로서 사용한 투명 도전성 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 이 투명 도전성 부재를 사용한 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명자들이 예의 연구한 결과, 광학용 필름을 구성하는 각 층의 굴절률을 특정 관계로 함으로써, 간섭무늬를 눈에 띄지 않게 하는 것이 가능한 것을 발견하고, 상기 과제를 해결하기에 이르렀다.

즉, 본 발명의 광학용 필름은 기재층의 적어도 한쪽 면에 하지층(foundation layer), 수지층이 순차 적층된 광학용 필름으로서, 기재층의 굴절률을 na, 하지층의 굴절률을 nb, 수지층의 굴절률을 nc로 한 경우에, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고(단, na≠nc), 기재층의 굴절률과 수지층의 굴절률의 차가 0.5 이내인 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 광학용 필름은, 예를 들면, 인접하는 층의 굴절률의 차가 0.2 이내인 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 광학용 필름은, 예를 들면, 상기 하지층의 JIS K6768: 1999에서 규정되어 있는 습윤장력이 40 mN/m 이상인 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 광학용 필름은, 예를 들면, JIS K7105: 1981에서 규정되어 있는 헤이즈가 5% 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 광학용 필름은, 예를 들면, 수지층이 하드코트층인 것을 특징으로 하는 것이다.

본 발명의 광학용 필름은, 예를 들면, 상기 기재층, 하지층 및 수지층의 굴절률의 관계가 na≥nb≥nc이고(단, na≠nc), 기재층의 굴절률은 1.45 이상 1.75 이하, 하지층의 굴절률은 1.40 이상, 1.70 이하, 수지층의 굴절률은 1.35 이상 1.65 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 투명 도전성 부재는, 상기 광학용 필름의 적어도 한쪽 면에 투명 도전막을 갖는 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 투명 터치 패널은, 적어도 편면에 투명 도전막이 설치된 2장의 투명 전극 기판이, 투명 도전막끼리 서로 마주보도록 배치되어 구성된 투명 터치 패널로서, 투명 전극 기판 중 적어도 한쪽으로서 상기 투명 도전성 부재를 사용한 것을 특징으로 하는 것이다.

또한, 본 발명의 투명 터치 패널은, 예를 들면, 2장의 투명 전극 기판 중 한쪽은 가동 전극 기판이고, 다른 쪽은 고정 전극 기판이며, 가동 전극 기판으로서 상기 투명 도전성 부재를 사용한 것을 특징으로 하는 것이다.

발명의 효과

본 발명에 의하면, 하드코트성 및 투시 해상성을 유지하면서, 광학용 필름을 구성하는 각 층의 굴절률을 특정 관계로 함으로써, 간섭 불균일을 눈에 띄지 않게 한 광학용 필름 및 광학용 필름을 기재로서 사용한 투명 도전성 부재를 제공할 수 있다. 또한, 이 투명 도전성 부재를 사용한 터치 패널을 제공할 수 있다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

본 발명의 광학용 필름의 실시형태에 대해 설명한다.

본 발명의 광학용 필름(2)은 도 1에 나타낸 바와 같이, 기재층(21)과, 기재층(21)의 적어도 한쪽 면에 배치된 하지층(22)과, 하지층(22) 위에 적층된 수지층(23)을 가지고 있다. 수지층(23)은 하드코트성을 갖는 층이다. 3층의 굴절률은 소정의 관계를 가지도록 설계되어 있다. 구체적으로는, 기재층(21)의 굴절률을 na, 하지층(22)의 굴절률을 nb, 수지층(23)의 굴절률을 nc로 한 경우에, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고(단, na≠nc), 기재층(21)의 굴절률과 수지층(23)의 굴절률의 차가 0.5 이내가 되도록 설계되어 있다.

이와 같이, 기재층(21)과 수지층(23) 사이에 하지층(22)이 배치되고, 기재층(21), 하지층(22), 수지층(23)의 굴절률이 상기의 관계를 만족시키는 경우, 3층의 계면의 굴절률 차가 작아지기 때문에, 수지층(23)의 두께 불균일에 기인하는 간섭을 억제할 수 있다. 이것에 의해, 간섭무늬 및 간섭무늬에 의한 색 불균일(이하 간섭 불균일이라 칭한다)을 눈에 띄지 않게 할 수 있다. na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고 있어도, 기재층(21)과 수지층(23)의 굴절률의 차가 0.5보다 커지면, 각 층의 계면에서 발생하는 굴절률 변화가 커져, 간섭 불균일을 억제할 수 없다.

더욱 바람직하게는, 기재층(21), 하지층(22) 및 수지층(23)은 인접하는 층의 굴절률의 차가 0.2 이내인 것이 바람직하다. 이와 같이 인접하는 층의 굴절률의 차를 작게 함으로써 간섭 불균일의 억제에 더욱 유리해진다.

특히, 각 층의 굴절률은 na≥nb≥nc로 설계하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 기재층의 굴절률은 1.45 이상 1.75 이하, 하지층의 굴절률은 1.40 이상 1.70 이하, 수지층의 굴절률을 1.35 이상 1.65 이하의 범위로 하는 것이 바람직하다.

하지층(22)은 수지층(23)의 하드코트성을 저하시키는 요인으로 되는 것을 방지하기 위하여 단층(單層)으로 하는 것이 바람직하고, 그 재질 및 두께를 적절하게 설계한다. 또한, 하지층(22)의 재질 및 두께를 적절하게 설계함으로써, 기재층(21)과 수지층(23)의 밀착성을 향상시키는 작용을 발생시키는 것이 가능해진다.

일반적으로, 간섭 불균일을 억제하기 위해, 하드코트성을 갖는 수지층(23)을 불소 수지 등으로 형성하고, 기재층(21)과 수지층(23)의 굴절률 차를 작게 하는 것이 생각되지만, 수지층(23)이 물러지기 쉽고, 기재층(21)과의 밀착성도 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 일반적으로 기재층(21) 쪽이 수지층(23)보다도 굴절률이 크기 때문에, 양자의 굴절률 차를 작게 하기 위하여 금속 등과 같은 굴절률이 높은 물질을 혼합함으로써 수지층(23)의 굴절률을 높게 하는 것도 생각되지만, 하드코트성의 저하를 초래하기 때문에 바람직하지 않다. 본 발명에서는, 하지층(22)을 배치하고, 3층의 굴절률 차를 적절하게 설정함으로써, 이와 같은 문제를 발생시키지 않고, 간섭 불균일을 억제한다.

본 발명의 광학용 필름의 기재층(21)으로서는, 투과율이 높은 것이면 되고, 예를 들면, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄아크릴레이트계 수지, 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세탈계 수지, 비닐계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 실리콘계 수지, 불소계 수지, 환상(環狀) 올레핀 등의 1종 또는 2종 이상을 혼합한 투명성이 우수한 고분자 필름이 사용된다. 특히 이축연신된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이 기계적 강도, 치수 안정성이 우수하기 때문에 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 내열성이 필요한 용도에 있어서는, 내열성이 우수한 폴리에틸렌나프탈레이트를 바람직하게 사용할 수 있다. 기재의 두께로서는, 취급상에 지장이 없는 두께라면 특별히 한정되지 않지만, 10 ㎛~500 ㎛ 정도, 바람직하게는 12 ㎛~350 ㎛이다.

하지층(22)은 기재층(21)의 적어도 한쪽 면에 설치되어 있으면 되고, 기재층(21)의 양면에 설치되어 있어도 된다. 하지층(22)은 예를 들면, 열가소성 수지나 열경화성 수지로 형성한다. 하지층(22)의 두께로서는 0.03~1 ㎛ 정도가 바람직하다. 0.03 ㎛ 이상으로 하는 것은, 기재층(21)이나 수지층(23)과의 밀착성을 향상시킬 수 있기 때문이고, 1 ㎛ 이하로 하는 것은, 하지층(22)의 두께 불균일에 의한 간섭 불균일을 억제하기 위해서이며, 또한, 수지층(23)의 하드코트성을 저하시키지 않기 위해서이다.

하지층(22)에 사용되는 열가소성 수지나 열경화성 수지로서는, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 아크릴우레탄계 수지, 폴리에스테르아크릴레이트계 수지, 폴리우레탄아크릴레이트계 수지, 에폭시아크릴레이트계 수지, 우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 셀룰로오스계 수지, 아세탈계 수지, 폴리에틸렌계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 멜라민계 수지, 페놀계 수지, 실리콘계 수지 등의 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.

또한, 하지층(22)은 JIS K6768: 1999에서 규정되어 있는 습윤장력이 40 mN/m 이상인 것이 바람직하다. 습윤장력을 40 mN/m 이상으로 함으로써, 수지층(23)이 불균일 없이 균일하고 평활한 도막으로 되기 때문에, 수지층(23)의 두께 불균일에 기인하는 간섭 불균일을 억제할 수 있다. 또한, 기재층(21)과 수지층(23)의 밀착성 불량을 억제할 수 있다. 또한, 간섭 불균일을 방지함으로써, 반사모양에 따른 투시 해상성이 나빠지는 것을 방지할 수 있다. 또한, 하지층(22)의 습윤장력은 수지 본래의 성질에 의해 40 mN/m 이상으로 되는 것에 한정되지 않는다. 하지층(22)의 표면에 코로나 방전처리 등을 행함으로써 습윤장력을 높여 40 mN/m 이상으로 한 것이어도 된다.

수지층(23)으로서는, 열가소성 수지, 열경화성 수지, 전리방사선 경화성 수지 등의 수지를 사용할 수 있다. 특히, 전리방사선 경화성 수지로 형성한 경우에는, 표면 경도 등으로 대표되는 하드코트성을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 수지층(23)은 광학용 필름으로 했을 때의 표면 경도가 H 이상인 것이 바람직하고, 3H 이상인 경우에는 보다 바람직하다. H보다 작은 경우에는 흠집이 생기기 쉬워져 바람직하지 않다.

광학용 필름의 용도가 시인성(視認性) 및 투과성이 현저하게 요구되는 용도인 경우에는, 수지층(23) 중에 안료를 첨가하지 않는 것이 바람직하다. 시인성 및 투과성 저하의 요인이 되고, 더 나아가서는 광택감 등의 의장성도 손상시키기 때문이다. 예를 들면, 광학용 필름으로 했을 때의 JIS K7105: 1981에서 규정되어 있는 헤이즈가 5% 이하인 것이 바람직하고, 3% 이하인 것이 더욱 바람직하다.

수지층(23)을 구성하는 열가소성 수지, 열경화성 수지로서는, 전술한 하지층(22)에 사용되는 수지를 사용할 수 있다. 전리방사선 경화성 수지로서는, 전리방사선(자외선 또는 전자선)의 조사에 의해 가교 경화할 수 있는 광중합성 프리폴리머를 사용할 수 있고, 이 광중합성 프리폴리머로서는, 1분자 중에 2개 이상의 아크릴로일기를 가지고, 가교 경화함으로써 3차원 망목구조로 되는 아크릴계 프리폴리머가 특히 바람직하게 사용된다. 이 아크릴계 프리폴리머로서는, 우레탄아크릴레이트, 폴리에스테르아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 멜라민아크릴레이트, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 실리콘아크릴레이트 등을 사용할 수 있다. 또한 이들의 아크릴계 프리폴리머는 단독으로도 사용 가능하지만, 가교 경화성을 향상시켜 표면보호막의 경도를 보다 향상시키기 위하여, 광중합성 모노머를 첨가하는 것이 바람직하다.

광중합성 모노머로서는, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 부톡시에틸아크릴레이트 등의 단관능 아크릴모노머, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 히드록시피발산에스테르 네오펜틸글리콜디아크릴레이트 등의 2관능 아크릴모노머, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트 등의 다관능 아크릴모노머 등의 1종 또는 2종 이상이 사용된다.

전리방사선 경화성 수지를 자외선 조사에 의해 경화시키는 경우에는, 전술한 광중합성 프리폴리머 및 광중합성 모노머 외에, 광중합개시제나 광중합촉진제 등의 첨가제를 사용하는 것이 바람직하다.

광중합개시제로서는, 아세토페논, 벤조페논, 미힐러케톤, 벤조인, 벤질메틸케탈, 벤조일벤조에이트, α-아실옥심에스테르, 티옥산톤류 등을 들 수 있다.

또한, 광중합촉진제는 경화시의 공기에 의한 중합장애를 경감시켜 경화속도를 빠르게 할 수 있는 것으로, 예를 들면, p-디메틸아미노 안식향산 이소아밀에스테르, p-디메틸아미노 안식향산 에틸에스테르 등을 들 수 있다.

또한, 하지층(22)과 수지층(23)의 각 층을 구성하는 수지는, 주성분이 되는 수지의 용해도 계수가 상호 가까운 것을 선택하는 것이 층간 밀착성을 향상시키기 위해 바람직하다. 특히, 용해도 계수의 차가 1 이내의 것이 바람직하다. 예를 들면, 수지층(23)에 전리방사선 경화성 수지를 사용하는 경우에는, 전리방사선 경화성 수지를 구성하는 프리폴리머의 주된 올리고머 성분의 용해도 계수와, 하지층(22)의 주된 수지를 구성하는 모노머 성분의 용해도 계수의 차가 1 이내가 되도록 수지를 선택한다. 구체적으로는, 수지층(23)을 형성하는 전리방사선 경화성 수지의 올리고머 성분이 우레탄아크릴레이트인 경우, 그 용해도 계수는 10이기 때문에, 이 용해도 계수 10과의 차가 1 이내인 포화 폴리에스테르 수지에 의해 하지층(22)을 형성할 수 있다.

또한, 수지층(23)의 두께는 사용하는 수지 등에 따라 상이하지만, 하드코트성을 발휘시키기 위해서 0.5 ㎛~15 ㎛, 더 나아가서는 2 ㎛~10 ㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다. 수지층(23)의 두께를 0.5 ㎛ 이상으로 함으로써, 충분한 하드코트성을 부여할 수 있기 때문이다. 또한, 15 ㎛ 이하로 함으로써, 수지층의 경화수축에 의한 컬의 발생을 방지할 수 있고, 또한, 자외선조도 부족에 의한 경화부족, 및 하지층과의 밀착성의 저하를 방지할 수 있기 때문이다.

또한, 기재층(21)의 수지층(23)과는 반대의 면에는 점착층을 설치하는 것도 가능하다. 점착층의 재질은, 예를 들면, 천연고무계, 재생고무계, 클로로프렌고무계, 니트로고무계, 스티렌·부타디엔계 등의 엘라스토머 점착제, 아크릴계, 폴리에스테르계, 에폭시계, 우레탄계, 시아노아크릴레이트계 등의 합성 수지 점착제 외에, 에멀전계 점착제 등 공지의 점착제를 사용한다. 점착층은 점착성을 발휘시키기 위하여 두께 15 ㎛ 이상으로 하는 것이 일반적이기 때문에, 간섭 불균일에는 거의 영향을 미치지 않는다.

이상 설명한 하지층(22), 수지층(23), 점착층의 형성방법으로서는, 각각의 구성성분이나 필요에 따라 다른 성분을 배합하고, 추가적으로 적당한 용매에 용해 또는 분산시켜서 도포액을 조제하여, 당해 도포액을 롤 코팅법, 바 코팅법, 스프레이 코팅법, 에어나이프 코팅법 등 공지의 방법에 의해 도포, 건조한 후, 적절히 필요한 경화방법을 사용하여 경화시킬 수 있다.

또한, 이상 설명한 각 층(21~23) 및 점착층에는 자외선 흡수성능을 가지게 하는 것도 가능하다. 특히 350~380 ㎚ 범위의 광선 투과율을 0.1%~70% 정도로 한 경우, 하드코트성을 보호·유지(保持)하면서, 내후성을 부여할 수 있다. 수지층(23)에 전리방사선 경화성 수지를 사용한 경우에는, 전리방사선 경화성 수지가 경화되는 자외선영역과 흡수하는 자외선영역을 조정함으로써, 수지층(23)의 경화에 영향을 미치지 않고, 자외선 흡수성을 부여할 수 있다. 예를 들면, 자외선 흡수제의 흡수 파장역의 피크와 20 ㎚ 이상 상이한 위치에 흡수 파장역의 피크를 갖는 광중합개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써 수지층(23)을 충분히 경화시킬 수 있어, 우수한 하드코트성을 부여할 수 있다.

또한, 본 실시형태에서는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 기재층(21)의 편면에 수지층(23)을 설치한 경우를 설명하였으나, 수지층(23)은 기재(21)의 양면에 설치되어도 되고, 그 경우에는, 기재(21)를 중심으로 한쪽 면과 다른 쪽 면의 각각에 하지층(22) 및 수지층(23)을 설치하고, 양면에서 각각 전술한 굴절률 조건(na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc, 및 │na-nc│≤0.5)을 만족시키는 것이 바람직하다. 이때, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 조건에 대해서는, 기재(21)의 양면에서 동일한 조건을 만족시키고 있어도 되며, 상이한 조건을 만족시키고 있어도 된다. 예를 들면, 기재(21)의 한쪽 면측에서는 na≤nb≤nc를 만족시키고, 다른 쪽 면측에서는 na≥nb≥nc를 만족시키고 있어도 된다.

다음으로, 전술한 광학용 필름을 사용하여 구성한 투명 도전성 부재의 실시형태에 대해 도 2를 사용하여 설명한다.

도 2에 나타낸 투명 도전성 부재(4)는, 전술한 구성의 광학용 필름(2)의 적어도 한쪽 면에 투명 도전막(3)을 구비한 것이다. 여기서는, 광학용 필름(2)의 수지층(23)이 설치되어 있는 면과는 반대 면에, 투명 도전막(3)을 설치한 경우를 예로 설명하지만, 수지층(23) 상에 투명 도전막(3)을 설치하는 것도 가능하다.

투명 도전막(3)의 재질로서는, 일반적으로 널리 알려진 투명 도전성 재료를 사용할 수 있다. 예를 들면, 산화인듐, 산화주석, 인듐-주석 산화물, 금, 은, 팔라듐 등의 투명 도전성 물질을 사용할 수 있다. 이들은, 진공증착법, 스퍼터링법, 이온플레이팅법, 용액도포법 등에 의해, 광학용 필름의 수지층 면과 반대 면에 박막으로서 형성할 수 있다. 또한, 폴리파라페닐렌, 폴리아세틸렌, 폴리아닐린, 폴리티오펜, 폴리파라페닐렌비닐렌, 폴리피롤, 폴리푸란, 폴리셀레노펜, 폴리피리딘 등의 도전성 고분자로 되는 유기도전성 재료를 사용하여, 투명 도전막을 형성하는 것도 가능하다. 특히, 투명성, 도전성이 우수하고, 비교적 저비용으로 얻어지는 산화인듐, 산화주석 또는 산화인듐주석 중 어느 하나를 주성분으로 한 투명 도전성 재료를 바람직하게 사용할 수 있다.

투명 도전막(3)의 두께는, 적용하는 재료에 따라서도 상이하기 때문에 일률적으로는 말할 수 없지만, 표면저항률로 1000 Ω 이하, 바람직하게는 500 Ω 이하가 되는 두께인 것이 바람직하다. 예를 들면, 10 ㎚ 이상인 것이 바람직하고, 20 ㎚ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 경제성을 고려하면, 80 ㎚ 이하, 바람직하게는 70 ㎚ 이하의 범위가 바람직하다. 이와 같은 박막에 있어서는 투명 도전막(3)의 두께 불균일에 기인하는 가시광의 간섭무늬는 발생하기 어렵다. 또한, 전광선 투과율은 통상 80% 이상인 것이 바람직하고, 85% 이상인 경우가 더욱 바람직하다. 88% 이상인 경우에는 특히 바람직하다.

이와 같은 구성의 투명 도전성 부재(4)는 간섭 불균일이 눈에 띄지 않기 때문에, 대전방지 필름이나 적외선 차폐 필름, 반사방지 필름, 투명 전극용 부재로서 사용할 수 있다.

다음으로, 본 발명의 투명 터치 패널(1)의 실시형태에 대해 도 2를 사용하여 설명한다. 본 발명의 투명 터치 패널(1)은, 적어도 편면에 투명 도전막이 설치된 2장의 투명 전극 기판이, 투명 도전막끼리 서로 마주보도록 배치되며, 한쪽을 가동 전극으로 하는 구성이다. 가동측의 투명 전극 기판으로서 본 발명의 투명 도전성 부재(4)를 사용하고 있다.

또한 구체적으로 설명하자면, 도 2와 같이, 비가동측의 투명 전극 기판인 유리 기판(6) 상에는 투명 도전막(7)이 형성되고, 그 위에 도트형상의 스페이서(5)가 배치되어 있다. 전술한 실시형태의 투명 도전성 부재(4)는, 투명 도전막(3)이 스페이서(5)와 마주보도록 유리 기판(6)에 대해 대향 배치되어 있다. 투명 도전성 부재(4) 및 유리 기판(6)의 단부에는 도시하지 않은 전극이 배치되어 있다. 이것에 의해, 저항막 방식의 투명 터치 패널(1)이 구성되어 있다.

이와 같은 투명 터치 패널(1)은, 유저가 손가락이나 펜 등으로 투명 도전성 부재(4)를 눌러내림으로써, 투명 도전막(3)이 유리 기판(6) 상의 투명 도전막(7)과 접촉한다. 이 접촉을 단부의 전극을 매개로 전기적으로 검출함으로써, 눌러내려진 위치가 검출된다.

투명 터치 패널(1)은 가동 전극으로서 투명 도전성 부재(4)를 사용하고 있기 때문에, 간섭 불균일을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명의 광학용 필름(2)은 높은 하드코트성 및 높은 투시 해상성을 갖기 때문에, 투명 터치 패널(1)은 흠집이 생기기 어렵고, 터치 패널(1)의 아래에 배치되는 액정표시 패널의 표시가 보기 쉽다는 효과가 얻어진다. 또한, 스페이서(5)는 필요에 따라 배치하면 되고, 스페이서(5)를 배치하지 않는 구성으로 하는 것도 가능하다.

또한, 비가동 전극(유리 기판(6) 및 투명 도전막(7)) 대신에, 본 발명의 투명 도전성 부재(4)를 사용하는 것도 가능하다. 이것에 의해, 보다 가볍고, 보다 박형이며, 깨지기 어려운 터치 패널로 할 수 있다.

이하, 실시예에 의해 본 발명을 추가적으로 설명한다. 또한, 「부」, 「%」는 특별히 나타내지 않는 한, 중량기준으로 한다.

[실시예 1]

기재층(21)으로서 두께 188 ㎛의 투명 고분자 필름(폴리에틸렌테레프탈레이트 굴절률: 1.65)을 사용하였다. 기재층(21)의 한쪽 표면에 하기 조성의 하지층용 도포액을 하드코팅에 의해 도포하고, 가열 경화시켜, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.60의 폴리에스테르계 수지제의 하지층(22)을 형성하였다. 추가적으로, 하지층(22) 상에, 하기 조성의 수지층용 도포액을 하드코팅에 의해 도포·건조하고, 고압수은등에 의해 자외선 조사를 행하여 경화시킴으로써, 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.50의 전리방사선 경화성 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 1의 광학용 필름을 얻었다.

<하지층용 도포액: 굴절률 1.60>

·폴리에스테르계 수지 1부

(엘리텔 UE3200: 유니티카사)

·희석용제 32부

<수지층용 도포액: 굴절률 1.50>

·전리방사선 경화성 수지 10부

(빔세트 575: 아라카와 화학공업사)

·광중합개시제 0.5부

(이루가큐어 184: 씨바스페셜티케미컬즈사)

·희석용제 10부

[실시예 2]

기재층(21)으로서, 굴절률 1.75의 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 사용하였다. 그 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 광학용 필름을 얻었다.

[실시예 3]

기재층(21)은 실시예 2와 동일한 굴절률 1.75의 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액 및 수지층용 도포액으로서 각각 하기의 것을 사용하고, 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.50의 아크릴 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 3의 광학용 필름을 얻었다. 단, 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

<하지층용 도포액: 굴절률 1.50>

·아크릴계 수지 1부

(쥴리머 FC-60: 니혼준야쿠사)

·희석용제 7부

<수지층용 도포액: 굴절률 1.45>

·폴리초산비닐 10부

(고세놀 GL-05: 닛폰 합성화학공업사)

·희석용제 10부

[실시예 4]

기재층(21)은 실시예 1과 동일한 굴절률 1.65의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액은 하기의 것을 사용하였다. 수지층용 도포액은 실시예 1과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.60의 폴리스티렌계 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.50의 전리방사선 경화 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 4의 광학용 필름을 얻었다.

<하지층용 도포액: 굴절률 1.60>

·폴리스티렌계 수지 1부

(HI 스타이런 470: 아사히카세이코교사)

·희석용제 32부

[실시예 5]

기재층(21)은 실시예 1과 동일한 굴절률 1.65의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액은 하기의 것을 사용하였다. 수지층용 도포액은 실시예 1과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.60의 염화비닐리덴 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.50의 전리방사선 경화 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 5의 광학용 필름을 얻었다.

<하지층용 도포액: 굴절률 1.60>

·염화비닐리덴 수지 2부

(사란라텍스 L-504: 아사히카세이코교사)

·희석용제 31부

[실시예 6]

기재층(21)은 굴절률 1.49의 폴리프로필렌 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액은 실시예 3과 동일한 것을 사용하였다. 수지층용 도포액은 하기의 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.50의 아크릴 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.60의 폴리에스테르계 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 6의 광학용 필름을 얻었다. 단, 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

<수지층용 도포액: 굴절률 1.60>

·폴리에스테르계 수지 10부

(엘리텔 UE3200: 유니티카사)

·희석용제 10부

[실시예 7]

기재층(21)은 실시예 2와 동일한 굴절률 1.75의 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액은 실시예 1과 동일한 것을 사용하였다. 수지층용 도포액으로서 실시예 3과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.60의 폴리에스테르 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 7의 광학용 필름을 얻었다. 단, 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

[실시예 8]

기재층(21)은 실시예 2와 동일한 굴절률 1.75의 폴리에틸렌나프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액은 실시예 1과 동일한 것을 사용하였다. 수지층용 도포액으로서 하기의 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.60의 폴리에스테르 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.35의 불소 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 8의 광학용 필름을 얻었다. 단, 실시예 8에서는, 하지층(22) 형성 후, 하지층(22)의 표면에 코로나 방전처리를 행하고, 그 위에 수지층(23)을 형성하였다. 이것에 의해, 하지층과 수지층(23)의 밀착성을 향상시켰다. 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

<수지층용 도포액: 굴절률 1.35>

·불소계 수지 10부

(사이토프 CTX-107AP: 아사히글래스사)

·희석용제는 사용하지 않음

[실시예 9]

실시예 4와 동일한 기재층(21), 하지층용 도포액 및 수지층용 도포액을 사용하여, 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 실시예 4와 동일한 층 구성의 실시예 9의 광학용 필름을 얻었다. 단, 실시예 9에서는, 하지층(22) 형성 후, 하지층(22)의 표면에 코로나 방전처리를 행하고, 그 위에 수지층(23)을 형성하였다. 이것에 의해, 하지층과 수지층(23)의 밀착성을 실시예 4보다도 향상시켰다. 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

[실시예 10]

실시예 3과 동일한 기재 필름, 하지층용 도포액, 수지층용 도포액을 사용하였다. 단, 수지층용 도포액에, 입경 1 ㎛의 실리카 비즈를 0.3부 추가하였다. 실시예 3과 동일한 수법에 의해, 굴절률 1.75의 폴리에틸렌나프탈레이트 필름의 기재층(21), 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.50의 아크릴 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐(입경 1 ㎛의 실리카 비즈 첨가)제의 수지층(23)을 형성하여, 실시예 10의 광학용 필름을 얻었다.

실시예 10의 광학용 필름은 수지층(23)에 실리카 비즈가 첨가되어 있지만, 수지층(23)의 막두께(10 ㎛)에 대해 입경이 작기(1 ㎛) 때문에, 수지층(23)의 표면에 요철은 없어, 외부 헤이즈는 발생하지 않았다. 실리카 비즈에 의한 내부 헤이즈만이 발생하였다.

[비교예 1]

기재층(21)은 실시예 1과 동일한 굴절률 1.65의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액은 하기의 것을 사용하였다. 수지층용 도포액은 실시예 1과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.50의 전리방사선 경화 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 비교예 1의 광학용 필름을 얻었다.

<하지층용 도포액: 굴절률 1.45>

·폴리초산비닐 1부

(고세놀 GL-05: 닛폰 합성화학공업사)

·희석용제 32부

[비교예 2]

기재층(21)은 굴절률 2.0의 금속 미립자 함유 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액 및 수지층용 도포액으로서 비교예 1과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일하게, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.50의 전리방사선 경화 수지의 수지층(23)을 형성하여, 비교예 2의 광학용 필름을 얻었다.

[비교예 3]

기재층(21)은 실시예 1과 동일한 굴절률 1.65의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름을 사용하였다. 하지층용 도포액 및 수지층용 도포액으로서 비교예 1과 동일한 것을 사용하였다. 단, 수지층용 도포액에는 입경 5 ㎛의 실리카 비즈를 10부 첨가하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.50의 전리방사선 경화 수지제(입경 5 ㎛의 실리카 비즈 첨가)의 수지층(23)을 형성하여, 비교예 3의 광학용 필름을 얻었다.

비교예 3의 광학용 필름은 수지층(23)의 막두께(10 ㎛)에 대해 입경이 큰(5 ㎛) 실리카 비즈가 첨가되어 있기 때문에, 수지층(23)의 표면에 비즈에 의해 요철이 형성되어, 외부 헤이즈가 발생하였다.

[비교예 4]

비교예 3과 동일한 기재층(21), 하지층용 도포액 및 수지층용 도포액을 사용하여, 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 비교예 3과 동일한 층 구성인 비교예 4의 광학용 필름을 얻었다. 단, 수지층용 도포액에 첨가하는 실리카 비즈로서 입경 1 ㎛의 것을 사용하였다. 첨가량은 0.3부로 하였다.

비교예 4의 광학용 필름은 비교예 3과는 달리, 수지층(23)의 막두께(10 ㎛)에 대해 실리카 비즈의 입경이 작기(1 ㎛) 때문에, 수지층(23)의 표면에 요철은 없어, 외부 헤이즈는 발생하지 않았다. 실리카 비즈에 의한 내부 헤이즈만이 발생하였다.

[비교예 5]

기재층(21)으로서 비교예 2와 동일한 것을 사용하였다. 하지층용 도포액 및 수지층용 도포액은 실시예 3과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 굴절률 2.0의 금속 미립자 함유 필름의 기재층(21) 상에, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.50의 아크릴계 수지제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 수지층(23)을 형성하여, 비교예 5의 광학용 필름을 얻었다. 단, 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

[비교예 6]

기재층(21) 및 하지층용 도포액으로서 비교예 2와 동일한 것을 사용하였다. 수지층용 도포액으로서 실시예 8과 동일한 것을 사용하였다. 실시예 1과 동일한 수법에 의해, 굴절률 2.0의 금속 미립자 함유 필름의 기재층(21) 상에, 두께 약 0.2 ㎛, 굴절률 1.45의 폴리초산비닐제의 하지층(22), 및 두께 약 10 ㎛, 굴절률 1.35의 불소 수지제의 수지층(23)을 형성하여, 비교예 6의 광학용 필름을 얻었다. 단, 수지층(23)의 형성시에는, 자외선 조사는 행하지 않았다.

상기의 실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 얻어진 광학용 필름의 기재층(21)의 굴절률 na, 하지층(22)의 굴절률 nb 및 수지층(23)의 굴절률 nc의 각 값과, 각 층의 굴절률의 대소관계(＞ 또는 ＜)를 표 1에 나타내었다. 또한, 기재층(21)과 수지층(23)의 굴절률의 차(│na-nc│), 인접하는 기재층(21)과 하지층(22)의 굴절률의 차(│na-nb│), 인접하는 하지층(22)과 수지층(23)의 굴절률의 차(│nb-nc│)에 대해서도, 표 1에 나타내었다.

[습윤장력]

다음으로, 실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 얻어진 광학용 필름의 하지층의 습윤장력을, JIS K6768: 1999를 토대로 측정하였다. 시험용 혼합액으로서는 습윤장력 40.0 mN/m의 것을 사용하였다. 습윤장력이 40.0 mN/m 이상인 것을 「40≤」, 40.0 mN/m 미만인 것을 「＜40」으로 하여, 표 1에 나타낸다.

[용해도 계수]

실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 사용된 하지층(22) 및 수지층(23)의 주성분의 용해도 계수를 산출하여, 그 차가 1 이내였던 것을 「≤1」, 1보다 큰 것을 「1＜」로 하여, 표 1에 나타낸다. 또한, 용해도 계수는 van Kreevelen이 제창한 원자단총화법에 의한 것으로, 구체적으로는 Polymer Handbook, Fourth Edition, John Wiley & Sons, Inc., 1999의 VII/675 페이지~VII/686 페이지에 기재된 방법에 의해 산출하였다.

[간섭 불균일]

흑색 천 상에서, 실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 얻어진 광학용 필름의 수지층에, 삼파장 램프에 의해 조명광을 조사하고, 반사광에 생기는 간섭 불균일을, 반사광에 의한 삼파장 램프의 상이 관찰되는 위치에서 육안으로 관찰하여, 간섭 불균일이 전혀 눈에 띄지 않은 것을 「◎」, 간섭 불균일이 눈에 띄지 않은 것을 「○」, 간섭 불균일이 있지만 눈에 띄지 않는 것을 「△」, 간섭 불균일이 매우 눈에 띄는 것을 「×」로 하여 평가하였다. 또한, 동일한 실시예에서 복수의 시료를 제작하여, 시료에 따라 ◎ 또는 ○로 평가가 상이한 경우에는, 그 실시예의 평가를 「◎~○」로 하였다. 마찬가지로 시료에 따라 ○ 또는 △로 평가가 상이한 경우에는, 그 실시예의 평가를 「○~△」로 하였다. 평가결과를 표 2에 나타낸다.

[밀착성]

실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 얻어진 광학용 필름의 수지층에, JIS K5400의 바둑판눈 테이프법에 준하여, 극간 간격 1 ㎜의 모눈이 100개가 되도록 컷라인을 넣어, JIS-Z1522에서 규정하는 셀로판 점착 테이프를 붙이고, 박리한 후의 도막의 상태를 육안으로 관찰하여, 전혀 박리가 일어나지 않는 것을 「○」, 조금 박리되어 버리는 것을 「△」, 모두 박리되어 버리는 것을 「×」로 하여 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.

[투시 해상성]

실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 얻어진 광학용 필름에 대해, JIS K7105에 준하여, 사상성(寫像性) 측정기(ICM-1DP: 스가시험기사)를 사용하여, 광학 빗 2.0 ㎜의 상 선명도를 측정하고, 측정값이 90% 이상이었던 것을 「○」, 80% 이상 90% 미만이었던 것을 「△」, 80% 미만이었던 것을 「×」로 하였다. 또한, 측정은 수지층을 갖는 면으로부터 빛을 입사시켰다. 결과를 표 2에 나타낸다.

[헤이즈]

SM 컬러 컴퓨터 UGV-5K(스가시험기사)를 사용하여, JIS K7105: 1981을 토대로, 실시예 1~10 및 비교예 1~6에서 얻어진 광학용 필름의 헤이즈를 측정하였다(단위는 「%」). 또한, 측정은 수지층을 갖는 면으로부터 빛을 입사시켰다. 측정한 결과, 5% 이하였던 것을 「○」, 5%를 초과하는 것을 「×」로 하였다.

표 1로부터 명확한 바와 같이, 실시예 1~10의 광학용 필름은 기재층(21)의 굴절률 na, 하지층(22)의 굴절률 nb, 수지층(23)의 굴절률 nc가, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고 있다. 이에 대해, 비교예 1~4의 광학용 필름은 na≤nb≤nc의 관계도, na≥nb≥nc의 관계도 만족시키지 않는다. 표 2에 나타낸 바와 같이, 간섭 불균일의 평가결과는, 실시예 1~10의 광학용 필름이 △~◎인 것에 대해, 비교예 1, 3, 4는, 모두 간섭 불균일이 눈에 띄어 ×였다. 이들 사실에 의해, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시킴으로써 간섭 불균일을 저감할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.

또한, 비교예 3은 na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키지 않음에도 불구하고, 간섭 불균일의 평가가 ○이다. 그 이유는, 비교예 3의 광학용 필름은 수지층(23)에 입경이 큰 비즈가 첨가되어 표면에 요철이 있기 때문에, 외부 헤이즈가 발생하여, 간섭 불균일을 눈에 띄지 않게 하고 있기 때문이다. 그러나, 표 2로부터 명확한 바와 같이, 외부 헤이즈는 비교예 3의 광학용 필름의 투시 해상성을 저하시켜, 평가가 ×로 되어 있다(표 2 참조). 이 사실로부터, 투시 해상성을 유지하면서 간섭 불균일을 억제하는 데에는, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키는 것이 유효한 것을 확인할 수 있다. 즉, 외부 헤이즈에 의해 간섭 불균일을 눈에 띄지 않게 하는 작용은 얻어지지만, 투시 해상성을 유지할 수 없다.

또한, 비교예 4의 광학용 필름은 수지층(23)에 입경이 작은 비즈가 첨가되어 내부 헤이즈가 발생되어 있지만, 표 2로부터 명확한 바와 같이, 간섭 불균일의 평가는 ×이다. 이 사실로부터, 내부 헤이즈로는 간섭 불균일을 억제할 수 없다는 것도 알 수 있다.

다음으로, 비교예 5 및 6의 광학용 필름의 굴절률과 실시예 1~10의 광학용 필름의 굴절률을 대비하면, 표 1 및 표 2와 같이, 비교예 5 및 6은 na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고 있음에도 불구하고, 간섭 불균일이 억제되어 있지 않은 것을 알 수 있다. 이것은, 기재층(21)의 굴절률 na와 수지층의 굴절률 nc의 차 │na-nc│가 0.5보다 크기 때문이다. 이 때문에, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고 있어도, 인접하는 층간의 굴절률 차가 커져, 간섭 불균일이 발생하기 쉽다. 이 사실로부터 na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시킬 뿐 아니라, 기재층(21)의 굴절률 na와 수지층의 굴절률 nc의 차를 0.5 이내로 할 필요가 있는 것을 확인할 수 있었다.

또한, 실시예 3, 8, 10의 광학용 필름은, 실시예 1, 2, 5, 6, 9의 광학용 필름과 비교하면, 간섭 불균일의 평가가 떨어진다. 이것은, 실시예 3 및 10의 광학용 필름은 인접하는 기재층(21)과 하지층(22)의 굴절률 차 │na-nb│가 다른 실시예와 비교하여 크고, 실시예 8의 광학용 필름은 하지층(22)과 수지층(23)의 굴절률 차 │nb-nc│가 다른 실시예와 비교하여 커, 모두 0.2를 초과하고 있기 때문이다. 이 사실로부터, 간섭 불균일을 보다 억제하는 데에는, 인접하는 층의 굴절률 차를 0.2 이하가 되도록 설계하는 것이 바람직한 것을 알 수 있다.

실시예 4의 광학용 필름은, 실시예 1, 2, 5, 6, 9의 광학용 필름과 비교하면, 간섭 불균일의 평가가 떨어진다. 이것은, 하지층(22)의 습윤장력이 40 mN/m보다도 작기 때문에, 습윤장력이 40 mN/m 이상인 다른 실시예와 비교하여, 수지층(23)의 형성시에 도막 두께의 균일성이 낮기 때문이다. 이 사실로부터, 하지층(22)의 습윤장력을 40 mN/m 이상이 되도록 설계하는 것이 바람직한 것을 알 수 있다. 이것에 의해, 수지층의 균일도를 높일 수 있기 때문에, 간섭 불균일을 보다 억제할 수 있다.

또한, 습윤장력은 하지층(22)을 구성하는 수지 본래의 성질에 의해 40 mN/m 이상이 되는 것에 한정되지 않는다. 실시예 8, 9와 같이 코로나 방전처리 등에 의해 습윤장력을 높인 것이어도 된다. 습윤장력 40 mN/m 이상이면 수지층의 균일도를 높일 수 있다. 이 사실은, 실시예 8, 9의 간섭 불균일의 평가가 높은 것으로부터 확인할 수 있다. 특히, 실시예 9는 실시예 4와 동일한 층 구성으로서, 상이점은 코로나 방전처리에 의해 하지층(22)의 습윤장력을 40 mN/m 이상으로 높인 것 뿐이다. 따라서, 실시예 9의 간섭 불균일 평가가 실시예 4보다도 높게 되어 있는 것은, 하지층의 습윤장력을 높인 것에 기인하고 있는 것을 알 수 있다.

또한, 실시예 5의 광학용 필름의 경우에는, 표 1과 같이 하지층(22)과 수지층(23)을 구성하는 수지는, 주성분인 수지의 용해도 계수의 차가 1을 초과하고 있다. 이 때문에, 표 2로부터 명확한 바와 같이, 실시예 5의 광학용 필름은, 층의 밀착성이 상기 용해도 계수의 차가 1 이하인 다른 실시예 1~4, 6~10보다도 떨어진다. 이 사실로부터, 광학용 필름은 하지층(22)과 수지층(23)을 구성하는 수지는, 주성분인 수지의 용해도 계수의 차가 1 이하가 되도록 수지를 선택하는 것이 바람직한 것을 알 수 있다. 이것에 의해, 층간의 밀착성을 향상시킬 수 있다.

또한, 표 2로부터 명확한 바와 같이, 수지층(23)에 비즈가 첨가되고, 헤이즈가 5%보다 큰 실시예 10의 광학용 필름은 헤이즈가 5% 이하인 다른 실시예 1~9의 광학용 필름보다도 투시 해상성이 떨어진다. 이 사실로부터, 본 발명의 광학용 필름은 비록 내부 헤이즈여도 헤이즈가 작은 것이 바람직하고, 구체적으로는, 헤이즈를 5% 이하로 하는 것이 바람직한 것을 알 수 있다.

[실시예 11]

다음으로, 실시예 11로서, 상기 실시예 1~6의 광학용 필름을 사용하여 도 2의 구성인 터치 패널(1)을 제작하였다. 마찬가지로 비교예 1~3, 6의 광학용 필름을 사용하여 비교예의 터치 패널을 제작하였다.

투명 도전성 부재의 제작

상기 실시예 1~6 및 비교예 1~3, 6의 광학용 필름의 수지층(23)과는 반대면에, 투명 도전막(3)으로서 두께 약 20 ㎚의 ITO막을 스퍼터링법으로 형성하여, 실시예 1~6 및 비교예 1~3, 6의 투명 도전성 부재(4)를 제작하였다.

하부전극 패널판의 제작

투명 전극 기판인 유리 기판(6)으로서, 두께 1 ㎜의 강화유리판을 준비하고, 한쪽 면에 투명 도전막(7)으로서 두께 약 20 ㎚의 ITO막을 스퍼터링법으로 형성하고, 4형의 크기(세로 87.3 ㎜, 가로 64.0 ㎜의 직사각형)로 잘라내어, 하부전극의 패널판을 제작하였다.

스페이서의 제작

상기 하부전극의 패널판의 투명 도전막(7)을 갖는 면에, 스페이서용 도포액으로서 전리방사선 경화성 수지(Dot Cure TR5903: 다이요 잉크사)를 스크린 인쇄법에 의해 도트형상으로 인쇄한 후, 고압수은등으로 자외선을 조사하여, 직경 50 ㎛, 높이 8 ㎛의 스페이서(5)를 1 ㎜의 간격으로 배열시켰다.

투명 터치 패널의 제작

상기 투명 도전성 부재(4)와 하부전극의 패널판을 투명 도전막(3)과 투명 도전막(7)이 대향하도록 배치하고, 두께 30 ㎛, 폭 3 ㎜의 양면 접착 테이프로 가장자리를 접착하여, 투명 터치 패널을 제작하였다. 이때, 접착부분이 투명 터치 패널 표시면의 영역 밖이 되도록 하였다.

실시예 1, 2, 5, 6의 광학용 필름을 사용하여 제작한 터치 패널은 간섭 불균일이 눈에 띄지 않아, 양호하게 조작을 할 수 있는 것이었다. 실시예 3, 4의 광학용 필름을 사용한 터치 패널은, 간섭 불균일이 있는 것을 알 수 있지만, 눈에 띄는 정도는 아니라, 양호하게 조작할 수 있는 것이었다.

비교예 1, 2, 6의 터치 패널은 간섭 불균일이 눈에 띄어, 조작하기 어려운 것이었다.

비교예 3의 터치 패널은 수지층에 유리 비즈를 함유하고, 표면에 요철이 있는 것이었기 때문에, 번질거리는 것이 되어, 조작하기 어려운 것이었다.

도 1은 본 발명의 광학용 필름의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.

도 2는 본 발명의 투명 터치 패널의 일 실시형태를 나타내는 단면도이다.

부호의 설명

1 … 투명 터치 패널, 2 … 광학용 필름, 3 … 투명 도전막, 4 … 투명 도전성 부재, 5 … 스페이서, 6 … 유리 기판, 7 … 투명 도전막, 21 … 기재층, 22 … 하지층, 23 … 수지층.

Claims

기재층의 한쪽 면에 하지층, 수지층이 순차 적층된 광학용 필름으로서, 상기 하지층은, 이의 표면의 JIS K6768: 1999에서 규정되어 있는 습윤장력이 40 mN/m 이상으로 조정되어 있고, 기재층의 굴절률을 na, 하지층의 굴절률을 nb, 수지층의 굴절률을 nc로 한 경우에, na≤nb≤nc 또는 na≥nb≥nc의 관계를 만족시키고(단, na≠nc), 기재층의 굴절률과 수지층의 굴절률의 차가 0.5 이내이고,

기재층의 이면을 흑색 천 상에서 대향시켜 배치한 상태에서 수지층에 삼파장 램프에 의해 조명광을 조사했을 때, 그 조명광의 반사광에 의한 삼파장 램프의 상이 관찰되는 위치에서 그 반사광에 간섭 분균일을 발생시키지 않도록 한 것을 특징으로 하는 광학용 필름.
제1항에 있어서,

인접하는 층의 굴절률의 차가 0.2 이내인 것을 특징으로 하는 광학용 필름.
제1항 또는 제2항의 광학용 필름의 JIS K7105: 1981에서 규정되어 있는 헤이즈가 5% 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 필름.
제1항 또는 제2항의 광학용 필름에 있어서, 상기 수지층은 하드코트층인 것을 특징으로 하는 광학용 필름.
제1항 또는 제2항의 광학용 필름에 있어서, 상기 기재층, 하지층 및 수지층의 굴절률의 관계는, 상기 na≥nb≥nc의 관계이고(단, na≠nc), 상기 기재층의 굴절률은 1.45 이상 1.75 이하, 상기 하지층의 굴절률은 1.40 이상 1.70 이하, 상기 수지층의 굴절률은 1.35 이상 1.65 이하인 것을 특징으로 하는 광학용 필름.
제1항 또는 제2항의 광학용 필름과, 이 광학용 필름의 적어도 한쪽 면에 배치된 투명 도전막을 갖는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 부재.
적어도 편면에 투명 도전막이 설치된 2장의 투명 전극 기판이, 투명 도전막끼리 서로 마주보도록 배치되어 구성된 투명 터치 패널에 있어서, 상기 투명 전극 기판 중 적어도 한쪽으로서 제6항의 투명 도전성 부재를 사용한 것을 특징으로 하는 투명 터치 패널.
적어도 편면에 투명 도전막이 설치된 2장의 투명 전극 기판이, 투명 도전막끼리 서로 마주보도록 배치되어 구성된 투명 터치 패널에 있어서, 상기 2장의 투명 전극 기판 중 한쪽은 가동 전극 기판이고, 다른 쪽은 고정 전극 기판이며, 상기 가동 전극 기판으로서 제6항의 투명 도전성 부재를 사용한 것을 특징으로 하는 투명 터치 패널.
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