CN101523241B - 光学用薄膜及使用它的透明导电性构件、透明触控面板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种光学用薄膜,其可维持硬涂性及透视分辨率、并且使干涉不均不明显。该光学用薄膜,在基材层(21)与具有硬涂性的树脂层(23)之间配置底涂层(22)。当设基材层(21)的折射率为na、底涂层(22)的折射率为nb、树脂层(23)的折射率为nc时,满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系(其中,na≠nc)。且基材层(21)的折射率与树脂层(23)的折射率的差为0.5以内。由此,能减少相邻的层的折射率差,从而能抑制干涉不均,并能维持透视分辨率。
Description
技术领域
本发明是涉及可维持其硬涂性及透视分辨率、并且抑制干涉横纹的光学用薄膜及使用它的透明导电性构件、透明触控面板。
背景技术
近年来,作为影像显示元件,液晶显示装置备受瞩目。液晶显示装置被应用于手机用的电子记事本、信息终端机等,例如用作手机用电子记事本、信息终端机等的输入装置。当使用液晶显示元件作为输入装置时,是采用液晶显示元件上搭载透明的触控面板的构造。特别是由价格等的观点而言,一般是使用电阻膜方式的触控面板。
电阻膜方式的触控面板,一般是使用以适当的间隙隔开透明导电性薄膜与附有透明导电膜的玻璃而配置的构造。透明导电性薄膜是通过手指或笔压下而与对置的附有透明导电膜的玻璃接触,使两者通电。因此,压下的动作可通过是否通电而检验出。
作为透明导电性薄膜,一般使用在塑料薄膜等基材薄膜的下面(与附有透明导电膜的玻璃相对置的面)形成铟-锡氧化物(以下简称ITO)等透明导电膜的薄膜。作为基材薄膜,可使用在透明高分子薄膜的表面上设置透明硬涂膜的透明硬涂薄膜。通过使用透明硬涂薄膜作为透明导电性薄膜的基材薄膜,而使透明导电性薄膜的耐久性提高。
另外,在使用手机用电子记事本、信息终端机等输入装置的环境下,多使用三波长荧光灯作为照明。其原因在于,三波长荧光灯是使特定的三波长的发光强度大,具有可确实地看见物体的特性。
但是,如专利文献1上所记载的,组装入目前触控面板等的透明硬涂薄膜,会发生因透明硬涂膜的厚度不均所引起的干涉横纹,特别是在以三波长荧光灯作为照明的环境下,将会有干涉横纹很明显的问题发生。此干涉横纹虽可通过使构成透明硬涂薄膜的透明高分子薄膜与透明硬涂膜的 折射率相同而消除,但要一边维持透明硬涂膜的硬涂性一边调整折射率是困难的。此外,通过使透明硬涂膜上含有消光(matt)剂后,使其表面为凹凸面,从而虽也可使干涉横纹不明显,但透过透明硬涂薄膜所看到的像的分辨率(透视分辨率)将会降低。在专利文献1中,揭示了通过调整透明硬涂膜的色调与彩度来抑制干涉横纹。
为了抑制由于设置在硬涂膜上的抗反射层的厚度不均而发生的干涉横纹,在专利文献2中,揭示了使抗反射层在固定的折射率范围下成为高折射率层与低折射率层的2层构造。
〔专利文献1〕日本特开2003-334891号公报(背景技术)
〔专利文献2〕日本特开2005-257840号公报(背景技术)
发明内容
本发明是以提供一种可维持其硬涂性及透视分辨率、且干涉横纹不明显的光学用薄膜为其目的。此外,也以提供使用此光学用薄膜作为基材的透明导电性构件为目的。而且,以提供使用此透明导电性构件的触控面板为目的。
经本发明者们专致研究的结果发现,通过使构成光学用薄膜的各层的折射率呈特定关系,而可使干涉横纹不明显,上述课题则获得解决。
也即,本发明的光学用薄膜,是在基材层的至少一侧的面上依次层叠了底涂层、树脂层,当设基材层的折射率为na、底涂层的折射率为nb、树脂层的折射率为nc时,满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系(其中,na≠nc),且基材层的折射率与树脂层的折射率的差为0.5以内。
此外,本发明的光学用薄膜,其特征例如,相邻的层的折射率的差为0.2以内。
本发明的光学用薄膜,其特征例如,前述底涂层的以JIS K6768:1999所规定的表面湿润张力为40mN/m以上。
本发明的光学用薄膜的特征例如,以JIS K7105:1981所规定的雾度为5%以下。
此外,本发明的光学用薄膜,其特征例如,前述树脂层为硬涂层。
本发明的光学用薄膜,其特征例如,前述基材层、底涂层及树脂层的 折射率的关系为na≥nb≥nc(其中,na≠nc),且基材层的折射率为1.45以上1.75以下,底涂层的折射率为1.40以上1.70以下,树脂层的折射率为1.35以上1.65以下。
本发明的透明导电性构件,其特征在于,上述光学用薄膜的至少一侧的面上具有透明导电膜。
而且,本发明的透明触控面板,其特征是至少在单面上设置有透明导电膜的2片透明电极基板,以相互的透明导电膜彼此相对置的方式进行配置而构成的透明触控面板,其中,使用上述的透明导电性构件作为透明电极基板中的至少一个。
此外,本发明的透明触控面板,其特征例如,2片透明电极基板之中,一个为可动电极基板,另一个为固定电极基板,且使用上述透明导电性构件作为可动电极基板。
根据本发明,可提供能够既维持硬涂性及透视分辨率,又通过使构成光学用薄膜的各层的折射率呈特定关系而让干涉横纹不明显的光学用薄膜以及使用光学用薄膜作为基材的透明导电性构件。进而,可提供使用此透明导电性构件的触控面板。
附图说明
图1表示本发明的光学用薄膜的一实施方式的剖视图。
图2表示本发明的透明触控面板的一实施方式的剖视图。
图中:1-透明触控面板;2-光学用薄膜;3-透明导电膜;4-透明导电性构件;5-间隔物;6-玻璃基板;7-透明导电膜;21-基材层;22-底涂层;23-树脂层
具体实施方式
对本发明的光学用薄膜的实施方式进行说明。
本发明的光学用薄膜2如图1所示,具有基材层21、配置于基材层21的至少一侧的面上的底涂层22与层叠于底涂层22上面的树脂层23。树脂层23是具有硬涂性的层。而此3层的折射率则设计成具有规定的关系。更具体地,当基材层21的折射率为na、底涂层22的折射率为nb、树脂层23的折射率为nc时,是满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系(其中,na≠nc),且设计基材层21的折射率与树脂层23的折射率的差在0.5以内。
如此,基材层21与树脂层23之间,配置有底涂层22,当基材层21、底涂层22、树脂层23的折射率在满足上述关系时,因这3层的界面的折射率差变小,从而能够抑制因树脂层23的厚度不均引起的干涉纹。由此,可使干涉横纹及因干涉横纹引起的色彩不均(以下简称干涉不均)变得不明显。但即使满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系,若基材层21与树脂层23的折射率的差大于0.5,则发生于各层界面的折射率变化变大,以至于无法抑制干涉不均的发生。
更优选,基材层21、底涂层22与树脂层23是其相邻的层的折射率差在0.2以内。如此,可因相邻的层的折射率差变小而对于抑制干涉不均更为有利。
特别优选,设计各层的折射率为na≥nb≥nc。具体而言,是使基材层的折射率在1.45以上1.75以下,底涂层的折射率在1.40以上1.70以下,树脂层的折射率在1.35以上1.65以下的范围。
为了防止树脂层23的硬涂性降低的主要原因,底涂层22优选为单层,并适当地设计其材质及厚度。此外,通过适当地设计底涂层22的材质及厚度,可产生使基材层21与树脂层23的密着性提高的作用。
一般而言,为了抑制干涉不均,虽可考虑使具有硬涂性的树脂层23由氟树脂等来形成,而使基材层21与树脂层23的折射率差变小,但此树脂层23容易变脆,且与基材层21的密着性也会降低的缘故而不为优选。此外,一般因基材层21要比树脂层23的折射率大,为使两者的折射率差变小,也可考虑通过混合如金属等折射率高的物质而使树脂层23的折射率提高,但因会导致硬涂性降低而不为优选。本发明中,通过配置底涂层22,且适当地设计3层的折射率差,从而并不会产生如此的问题且抑制了干涉不均的发生。
作为本发明的光学用薄膜的基材层21,只要是透过率高者皆可,例如可使用聚酯系树脂、丙烯系树脂、丙烯氨基甲酸乙酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸乙酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、聚甲醛系树脂、乙烯系树脂、聚乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、三聚氰胺系树脂、苯酚系树脂、聚硅氧烷系树脂、氟系树脂、环状烯烃等的1种或混合2种以上的透明性优异的高分子薄膜。特别是经二轴延伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜因机械性强度、尺寸稳定性优异而很适合使用。此外,因耐热性优异,在需要耐热性的用途上,可使用聚萘二甲酸乙二醇酯。作为基材的厚度,并无特别限制,若为便于操作的厚度即可,一般为10μm~500μm左右,优选为12μm~350μm。
底涂层22既可以设置于基材层21的至少一侧的面上,也可以设置于基材层21的两面。底涂层22是可由例如热可塑性树脂或热固化性树脂而形成。作为底涂层22的厚度,优选为0.03~1μm程度。0.03μm以上为了提高基材层21与树脂层23的密着性,而1μm以下则是为了抑制因底涂层22的厚度不均所引起的干涉不均,而且不降低树脂层23的硬涂性。
作为用于底涂层22的热可塑性树脂或热固化性树脂,可使用聚酯系树脂、丙烯系树脂、丙烯基氨基甲酸乙酯系树脂、聚酯丙烯酸酯系树脂、聚氨酯丙烯酸酯系树脂、环氧丙烯酸酯系树脂、氨基甲酸乙酯系树脂、环氧系树脂、聚碳酸酯系树脂、纤维素系树脂、聚甲醛系树脂、聚乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、三聚氰胺系树脂、苯酚系树脂、聚硅氧烷系树脂等的1种或2种以上。
此外,底涂层22优选是以JIS K6768:1999所规定的表面湿润张力为40mN/m以上。因表面湿润张力为40mN/m以上,而使树脂层23的不均消失呈均匀平滑的涂膜,从而可抑制因树脂层23的厚度不均所导致的干涉不均。且可抑制基材层21与树脂层23的密着性不良。此外,通过防止干涉不均,可防止因反射状态所导致透视分辨率变差的问题。而表面湿润张力依树脂本来的性质,不一定为40mN/m以上。在底涂层22的表面上,通过施以电晕放电处理等可提高表面湿润张力,也可使其成为40mN/m以上。
作为树脂层23,可使用热可塑性树脂、热固化性树脂、电离辐射线固化性树脂等的树脂。特别是当其由电离辐射线固化性树脂所形成时,因表面硬度等所代表的硬涂性可获得发挥而为优选。作为树脂层23,当其作为 光学用薄膜时的表面硬度,优选为H以上,更优选为3H以上。若小于H时,因为容易磨损而不为优选。
光学用薄膜的用途若是被要求要有显著的视觉辨识性及透过性的用途时,则希望树脂层23中不要添加颜料。因其会成为视觉辨识性及透过性降低的主要原因,而且,会损及光泽感等外观性。例如,作为光学用薄膜时于JIS K7105:1981所规定雾度(haze)在5%以下为优选,而更优选在3%以下。
作为构成树脂层23的热可塑性树脂、热固化性树脂,可使用上述底涂层22中所用的树脂。作为电离辐射线固化性树脂,则可使用通过电离辐射线(紫外线或电子线)的照射而可进行交联固化的光聚合性预聚物(pre-polymer),作为此光聚合性预聚物,特别优选使用1分子中具有2个以上丙烯酰基,且通过交联固化而可成为3维网状构造的丙烯系预聚物。作为此丙烯系预聚物,可使用氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、聚氟烷基丙烯酸酯、聚硅氧烷丙烯酸酯等。而且,这些丙烯系预聚物也可以单独使用,但若是为了提高交联固化性且使表面保护膜的硬度更得以提高,则优选添加光聚合性单体(monomer)。
作为光聚合性单体,可使用2-乙基己基丙烯酸酯、2-羟基乙基丙烯酸酯、2-羟基丙基丙烯酸酯、丁氧基乙基丙烯酸酯等的单官能(mono-functional)丙烯单体;1,6-己烷二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸酯新戊二醇二丙烯酸酯等的双官能(bi-functional)丙烯单体;二季戊四醇六丙烯酸酯、三甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯等的多官能(multi-functional)丙烯单体等的1种或2种以上。
当使电离辐射线固化性树脂通过紫外线照射而固化时,除了使用上述的光聚合性预聚体以及光聚合性单体之外,优选使用光聚合起始剂或光聚合促进剂等的添加剂。
作为光聚合起始剂,可举出苯乙酮、二苯甲酮、米希勒酮(Michler′sketone)、二苯乙醇酮、苄基甲基缩酮、苯酰苯甲酸酯、α-酰基肟酯、硫杂蒽酮类等。
此外,作为光聚合促进剂,能减轻因固化时的空气所引起的聚合阻碍 并加速固化速度,可举例如p-二甲基胺基安息香酸异戊酯、p-二甲基胺基安息香酸乙基酯等。
此外,构成底涂层22与树脂层23各层的树脂,为了提高层与层之间的密着性,优选选择成为主成分的树脂的溶解度系数互相接近的树脂。特别优选溶解度系数的差在1以内的树脂。例如,树脂层23中使用电离辐射线固化性树脂时所选择的树脂,是使构成电离辐射线固化性树脂的预聚物的主要的预聚物成分的溶解度系数与构成底涂层22主要的树脂的单体成分的溶解度系数差为1以内的树脂。具体而言,当形成树脂层23的电离辐射线固化性树脂的预聚物成分为氨基甲酸酯丙烯酸酯时,其溶解度系数为10,可通过使用与此溶解度系数10的差为1以内的饱和聚酯树脂,形成底涂层22。
此外,树脂层23的厚度因使用的树脂等而不同,但为发挥硬涂性,一般为0.5μm~15μm,更优选为2μm~10μm左右。使树脂层23的厚度为0.5μm以上,是为了能够赋予足够的硬涂性。而使其为15μm以下则可防止因树脂层的固化收缩所发生的弯曲,此外,也是为了可以防止因紫外线照度不够所引发的固化不足以及与底涂层的密着性降低等问题。
另外,在基材层21的与树脂层23相反的面上,可设置粘着层。粘着层的材质是可使用公知的,例如天然橡胶系、再生橡胶系、氯丁二烯橡胶系、硝基橡胶系、苯乙烯·丁二烯系等的弹性体粘着剂;丙烯系、聚酯系、环氧系、氨基甲酸乙酯系、氰基丙烯酸酯系等的合成树脂粘着剂;此外,还有乳剂系粘着剂等。为了发挥粘着性,一般粘着层的厚度为15μm以上,因而对于干涉不均几乎不产生影响。
作为以上所述的底涂层22、树脂层23、粘着层的形成方法,可使用如下方法:即搭配各自的构成成分或根据需要的其它成分,进而在适当的溶剂中使其溶解或分散来调制涂敷液,并将该涂敷液通过辊筒涂敷法、杆式涂敷(bar-coating)法、喷雾涂敷法、气刀涂敷(air knife coating)法等公知的方法进行涂敷、干燥之后,利用适当而必要的固化方法使其固化。
此外,在以上说明的各层21~23及粘着层中,也可使其保有紫外线 吸收性能。特别是使350~380nm范围的光线透过率为0.1%~70%左右时,既可保持硬涂性,也可赋予耐候性。当在树脂层23中使用了电离辐射线固化性树脂时,通过调整电离辐射线固化性树脂固化的紫外线区域与吸收的紫外线区域,可不影响树脂层23的固化,而赋予紫外线吸收性。例如,优选使用在与紫外线吸收剂的吸收波长区域的波峰差异20nm以上的位置上具有吸收波长区域的波峰的光聚合起始剂。由此,可使树脂层23充分地固化,且可赋予优异的硬涂性。
此外,在本实施方式中,虽已如图1所示说明了基材层21的单面上设置树脂层23的情况,但树脂层23也可设置于基材层21的两面,在此情况下,优选以基材层21为中心,在一侧的面与另一侧的面均分别设置底涂层22及树脂层23,且两面分别符合上述的折射率条件(na≤nb≤nc或na≥nb≥nc,且|na-nc|≤0.5)。此时,关于na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的条件,基材层21的两面是可满足相同的条件,也可满足不同的条件。例如,可以在基材层21的一侧的面侧满足na≤nb≤nc,另一侧的面侧满足na≥nb≥nc。
接着,关于使用上述光学用薄膜而构成的透明导电性构件的实施方式,以图2来进行说明。
图2所示的透明导电性构件4,在上述所构成的光学用薄膜2的至少一侧的面上具备有透明导电膜3。在此,在光学用薄膜2的与设置树脂层23的面为反侧的面上设置透明导电膜3的情况为例来进行说明,但也可在树脂层23上设置透明导电膜3。
作为透明导电膜3的材质,可使用一般广为人知的透明导电性材料。例如,可使用氧化铟、氧化锡、铟-锡氧化物、金、银、钯等的透明导电性物质。它们可通过真空蒸镀法、溅射法、离子喷涂法、溶液涂敷法等,在光学用薄膜的与树脂层面的反侧面上形成薄膜。此外,可使用由聚对苯、聚乙炔、聚苯胺、聚噻吩、聚对苯乙烯、聚吡咯、聚呋哺、聚硒吩、聚吡啶等的导电性高分子所成的有机导电性材料来形成透明导电膜。特别优选使用透明性、导电性优异,且较低成本即可取得的氧化铟、氧化锡或氧化铟锡的任一为主要成分的透明导电性材料。
透明导电膜3的厚度,会因使用的材料而不同,故不能一概而论,但 一般希望为表面电阻率在1000Ω以下的厚度,优选为500Ω以下的厚度。例如,优选为10nm以上,而更优选为20nm以上。考虑其经济性,则优选为80nm以下,更优选为70nm以下的范围。在如此的薄膜中,难以产生因透明导电膜3的厚度不均所导致的可见光的干涉横纹。此外,全光线透过率通常优选为80%以上,更优选为85%以上,而特别优选为88%以上。
如此构成的透明导电性构件4,因可使干涉不均不明显,从而可作为抗静电薄膜或红外线屏蔽薄膜、抗反射薄膜、透明电极用构件来使用。
其次,关于本发明的透明触控面板1的实施方式,以图2来进行说明。本发明的透明触控面板1,是使至少于单面上设置有透明导电膜的2片透明电极基板以相互的透明导电膜彼此相对置的方式配置,且使一侧为可动电极的构成。作为可动侧的透明电极基板使用了本发明的透明导电性构件4。
更具体而言,如图2所示,在非可动侧的透明电极基板的玻璃基板6上,形成透明导电膜7,而其上配置有点状的间隔物(spacer)5。上述实施方式的透明导电性构件4是使透明导电膜3以与间隔物5相对置的方式与玻璃基板6相对置而配置。在透明导电性构件4以及玻璃基板6的端部则配置有未图示的电极。由此,可构成电阻膜方式的透明触控面板1。
如此的透明触控面板1可由使用者以指头或笔等押下透明导电性构件4,而使透明导电膜3与玻璃基板6上的透明导电膜7接触。此接触可通过端部的电极进行电检测,而检测出被押下的位置。
透明触控面板1因使用透明导电性构件4作为可动电极的缘故,可抑制干涉不均。而且,本发明的光学用薄膜2因具有高硬涂性以及高透视分辨率的缘故,而使透明触控面板1不容易受损,可使配置于触控面板1下方的液晶显示面板的显示具有易于观赏的效果。此外,间隔物5只要根据需要予以配置即可,也可使其为不配置间隔物5的构成。
也可使用本发明的透明导电性构件4取代非可动电极(玻璃基板6以及透明导电膜7)。由此,可成为更轻、更薄,不易破裂的触控面板。
〔实施例〕
以下,通过实施例进一步说明本发明。而且,「份」、「%」若无特 别限定,则作为重量基准。
〔实施例1〕
作为基材层21,使用了厚度188μm的透明高分子薄膜(聚对苯二甲酸乙二醇酯、折射率:1.65)。在基材层21一侧的表面上是通过杆式涂敷下述组成的底涂层用涂敷液进行涂敷,使其加热固化,形成厚度约0.2μm、折射率1.60的聚酯系树脂制的底涂层22。再者,在底涂层22上,通过杆式涂敷下述组成的树脂层用涂敷液进行涂敷·干燥,并以高压水银灯实施紫外线照射使其固化之后,形成厚度约10μm、折射率1.50的电离辐射线固化性树脂制的树脂层23,而获得实施例1的光学用薄膜。
<底涂层用涂敷液:折射率1.60>
·聚酯系树脂 1份
(Elitel UE3200:尤尼吉可公司(UNITIKA LTD))
·稀释溶剂 32份
<树脂层用涂敷液:折射率1.50>
·电离辐射线固化性树脂 10份
(Beamset575:荒川化学工业公司)
·光聚合起始剂 0.5份
(Irgacure184:巴塞尔化学工业公司(Ciba Specialty Chemicals K.K.))
·稀释溶剂 10份
〔实施例2〕
使用折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜作为基材层21。此外,与实施例1同样获得了实施例2的光学用薄膜。
〔实施例3〕
基材层21使用了与实施例2相同的折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。作为底涂层用涂敷液与树脂层用涂敷液分别使用了下述组成,通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.50的丙烯树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的树脂层23,而获得实施例3的光学用薄膜。其中,在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
<底涂层用涂敷液:折射率1.50>
·丙烯树脂 1份
(JURIMA FC-60:日本纯药公司)
·稀释溶剂 7份
<树脂层用涂敷液:折射率1.45>
·聚乙酸乙烯酯 10份
(柯赛罗(Gohsenol)GL-05:日本合成化学工业公司)
·稀释溶剂 10份
〔实施例4〕
基材层21使用了与实施例1相同的折射率1.65的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂层用涂敷液使用了下述组成。树脂层用涂敷液使用了与实施例1相同组成。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.60的聚苯乙烯系树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.50的电离辐射线固化性树脂制的树脂层23,而获得实施例4的光学用薄膜。
<底涂层用涂敷液:折射率1.60>
·聚苯乙烯系树脂 1份
(HI Styron 70:旭化成工业公司)
·稀释溶剂 7份
〔实施例5〕
基材层21使用了与实施例1相同的折射率1.65的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂层用涂敷液使用了下述组成。树脂层用涂敷液使用了与实施例1相同组成。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.60的聚偏氯乙烯树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.50的电离辐射线固化性树脂制的树脂层23,而获得实施例5的光学用薄膜。
<底涂层用涂敷液:折射率1.60>
·聚偏氯乙烯树脂 2份
(SalanLatex L-504:旭化成工业公司)
·稀释溶剂 31份
〔实施例6〕
基材层21使用了折射率1.49的聚丙烯薄膜。底涂层用涂敷液使用了与实施例3相同组成。树脂层用涂敷液使用了下述组成。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.50的丙烯树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.60的聚酯系树脂制的树脂层23,而获得实施例6的光学用薄膜。其中,在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
<树脂层用涂敷液:折射率1.60>
·聚酯系树脂 10份
(Elitel UE3200:尤尼吉可公司(UNITIKA LTD))
·稀释溶剂 10份
〔实施例7〕
基材层21使用了与实施例2相同的折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂层用涂敷液使用了与实施例1相同组成。使用了与实施例3相同组成作为树脂层用涂敷液。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.60的聚酯系树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的树脂层23,而获得实施例7的光学用薄膜。其中,在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
〔实施例8〕
基材层21是使用了与实施例2相同的折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂层用涂敷液使用了与实施例1相同组成。使用了下述组成作为树脂层用涂敷液。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.60的聚酯系树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.35的氟树脂制的树脂层23,而获得实施例8的光学用薄膜。其中,在实施例8中,底涂层22形成之后,在底涂层22的表面上实施电晕放电处理,且在其上形成了树脂层23。由此,可使底涂层与树脂层23的密着性提高。在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
<树脂层用涂敷液:折射率1.35>
·氟树脂 10份
(Cytop CTX-107AP:旭硝子公司)
·稀释溶剂 未使用
〔实施例9〕
使用与实施例4相同的基材层21、底涂层用涂敷液及树脂层用涂敷液后,通过与实施例1同样的方法,获得与实施例4具有同样层构成的实施例9的光学用薄膜。其中,在实施例9中,底涂层22形成之后,在底涂层22的表面上实施电晕放电处理,且于其上形成树脂层23。由此,可使底涂层与树脂层23的密着性比实施例4更加提高。在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
〔实施例10〕
使用了与实施例3相同的基材层薄膜、底涂层用涂敷液及树脂层用涂敷液。其中,在树脂层用涂敷液中,追加了0.3份粒径1μm的二氧化硅粒子。通过与实施例3同样的方法,形成折射率1.75的聚萘二甲酸乙二醇酯薄膜的基材层21,与厚度约0.2μm、折射率1.50的丙烯树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯(添加粒径1μm的二氧化硅粒子)制的树脂层23,而获得实施例10的光学用薄膜。
实施例10的光学用薄膜虽在树脂层23添加有二氧化硅粒子,但因为对树脂层23的膜厚(10μm)而言粒径小(1μm)的缘故,在树脂层23的表面上无凹凸,未产生外部雾度。只产生二氧化硅粒子所导致的内部雾度。
〔比较例1〕
基材层21使用了与实施例1相同的折射率1.65的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。底涂层用涂敷液使用了下述组成。树脂层用涂敷液使用了与实施例1相同组成。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.50的电离辐射线固化性树脂制的树脂层23,而获得比较例1的光学用薄膜。
<底涂层用涂敷液:折射率1.45>
·聚乙酸乙烯酯 1份
(柯赛罗(Gohsenol)GL-05:日本合成化学工业公司)
·稀释溶剂 32份〔比较例2〕
基材层21使用了折射率2.0含金属微粒子的薄膜。作为底涂层用涂敷液以及树脂层用涂敷液,使用了与比较例1相同组成。与实施例1同样地,形成厚度约0.2μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂层22, 以及厚度约10μm、折射率1.50的电离辐射线固化性树脂制的树脂层23,而获得比较例2的光学用薄膜。
〔比较例3〕
基材层21使用了与实施例1相同的折射率1.65的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。作为底涂层用涂敷液以及树脂层用涂敷液,使用了与比较例1相同组成。其中,在树脂层用涂敷液中,添加了10份粒径5μm的二氧化硅粒子。通过与实施例1同样的方法,形成厚度约0.2μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.50的电离辐射线固化性树脂制(添加粒径5μm的二氧化硅粒子)的树脂层23,而获得比较例3的光学用薄膜。
比较例3的光学薄膜,虽对树脂层23的膜厚(10μm)而言添加有粒径大(5μm)的二氧化硅粒子的缘故,树脂层23的表面上因粒子而形成了凹凸,产生外部雾度。
〔比较例4〕
使用与比较例3相同的基材层21、底涂层用涂敷液及树脂层用涂敷液后,通过与实施例1同样的方法,获得与比较例3具有同样层构成的比较例4的光学用薄膜。其中,添加于树脂层用涂敷液的二氧化硅粒子,使用了粒径1μm的二氧化硅粒子。添加量为0.3份。
比较例4的光学薄膜与比较例3不同,因对树脂层23的膜厚(10μm)而言,二氧化硅粒子的粒径小(1μm)的缘故,树脂层23的表面上无凹凸,未产生外部雾度。只产生二氧化硅粒子所导致的内部雾度。
〔比较例5〕
基材层21使用了与比较例2相同组成。底涂层用涂敷液及树脂层用涂敷液使用了与实施例3相同组成。通过与实施例1同样的方法,在折射率2.0含金属微粒子的薄膜的基材层21上,形成厚度约0.2μm、折射率1.50的丙烯树脂制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的树脂层23,而获得比较例5的光学用薄膜。其中,在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
〔比较例6〕
基材层21及底涂层用涂敷液使用了与比较例2相同组成。树脂层用涂敷液使用了与实施例8相同组成。通过与实施例1同样的方法,在折射率2.0含金属微粒子的薄膜的基材层21上,形成厚度约0.2μm、折射率1.45的聚乙酸乙烯酯制的底涂层22,以及厚度约10μm、折射率1.35的氟树脂制的树脂层23,而获得比较例6的光学用薄膜。其中,在树脂层23形成时,未实施紫外线照射。
上述于实施例1~10以及比较例1~6所得的光学用薄膜的基材层21的折射率na、底涂层22的折射率nb以及树脂层23的折射率nc的各数值与各层的折射率大小关系(>或<)列示于表1。而且,关于基材层21与树脂层23的折射率差(|na-nc|)、相邻的基材层21与底涂层22的折射率差(|na-nb|)、相邻的底涂层22与树脂层23的折射率差(|nb-nc|)也列示于表1。
〔表面湿润张力〕
其次,对实施例1~10以及比较例1~6所得的光学用薄膜的底涂层的表面湿润张力,根据JIS K6768:1999进行了测定。作为试验用混合液使用了表面湿润张力为40.0mN/m的试验用混合液。使表面湿润张力为40.0mN/m以上者为「40≤」、未达40.0mN/m者为「<40」,列示于表1。
〔溶解度系数〕
计算出实施例1~10以及比较例1~6中所用的底涂层22以及树脂层23的主成分的溶解度系数,使该差在1以内者为「≤1」,而比1大者为「1<」,列示于表1。此外,溶解度系数是按van Kreevelen所提出的原子团加和法所规定的,具体而言,是通过Polymer Handbook,FourthEdition,John Wiley & Sons,Inc.,1999的VII/675页~VII/686页所记载的方法所计算出的。
〔干涉不均〕
在黑色的布上,通过三波长灯使照明光照射到实施例1~10以及比较例1~6所得的光学用薄膜的树脂层上,在可观察到因反射光所成的三波长灯的像的位置上以目视来观察在反射光上产生的干涉不均。使完全看不出干涉不均者为「◎」,干涉不均不明显者为「○」,虽有干涉不均但不甚明显者为「△」,干涉不均非常明显者为「×」来进行评价。此外,在相同实施例中制作多个试验样品,若依据试验样品有◎或○的评价不同的 状况时,则评价该实施例为「◎~○」,同样地,若因试验样品有○或△的评价不同的状况时,使该实施例的评价为「○~△」。评价结果列示于表2。
〔密着性〕
在实施例1~10以及比较例1~6所得的光学用薄膜的树脂层上,以JIS K5400的棋盘格胶带法为基准,以间隙间隔1mm的方格子切割出100个格子,粘贴JIS-Z1522中规定的玻璃纸粘着胶带,剥离后的涂膜的状态以目视进行观察,使全部无发生剥离者为「○」,稍微剥离者为「△」,全部剥离者为「×」来进行评价。评价结果列示于表2。
〔透视分辨率〕
关于实施例1~10以及比较例1~6所得的光学用薄膜,是依JISK7105为标准,使用影像清晰度(image clarity)测定器(ICM-1DP:须贺试验机公司),测定光栅2.0mm的影像鲜明度,使测定值为90%以上者为「○」,80%以上未达90%者为「△」,未达80%者为「×」进行评价。而且,测定是由具有树脂层的面使光射入。结果列示于表2。
〔雾度〕
使用SM彩色计算机UGV-5K(须贺试验机公司),以JIS K7105:1981为基准,测定了实施例1~10以及比较例1~6所得的光学用薄膜的雾度(单位为「%」)。而且,测定是由具有树脂层的面使光射入。测定的结果,使5%以下者为「○」,超过5%者为「×」。
[表1]
na | nb | nc | |na-nc| | |na-nb| | |nb-nc| | 表面湿 润张力 mN/m | 溶解 度系 数差 | 备注 | |||
实施例1 | 1.65 | > | 1.60 | > | 1.50 | 0.15 | 0.05 | 0.10 | 40≤ | ≤1 | |
实施例2 | 1.75 | > | 1.60 | > | 1.50 | 0.25 | 0.15 | 0.10 | 40≤ | ≤1 | |
实施例3 | 1.75 | > | 1.50 | > | 1.45 | 0.30 | 0.25 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | |
实施例4 | 1.65 | > | 1.60 | > | 1.50 | 0.15 | 0.05 | 0.10 | <40 | ≤1 | |
实施例5 | 1.65 | > | 1.60 | > | 1.50 | 0.15 | 0.05 | 0.10 | 40≤ | 1< | |
实施例6 | 1.49 | < | 1.50 | < | 1.60 | 0.11 | 0.01 | 0.10 | 40≤ | ≤1 | |
实施例7 | 1.75 | > | 1.60 | > | 1.45 | 0.30 | 0.15 | 0.15 | 40≤ | ≤1 | |
实施例8 | 1.75 | > | 1.60 | > | 1.35 | 0.40 | 0.15 | 0.25 | 40≤ | ≤1 | 电晕放电 |
实施例9 | 1.65 | > | 1.60 | > | 1.50 | 0.15 | 0.05 | 0.10 | 40≤ | ≤1 | 电晕放电 |
实施例10 | 1.75 | > | 1.50 | > | 1.45 | 0.30 | 0.25 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | 粒径1μm |
比较例1 | 1.65 | > | 1.45 | < | 1.50 | 0.15 | 0.20 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | |
比较例2 | 2.0 | > | 1.45 | < | 1.50 | 0.50 | 0.55 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | |
比较例3 | 1.65 | > | 1.45 | < | 1.50 | 0.15 | 0.20 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | 粒径5μm |
比较例4 | 1.65 | > | 1.45 | < | 1.50 | 0.15 | 0.20 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | 粒径1μm |
比较例5 | 2.0 | > | 1.50 | > | 1.45 | 0.55 | 0.50 | 0.05 | 40≤ | ≤1 | |
比较例6 | 2.0 | > | 1.45 | > | 1.35 | 0.65 | 0.55 | 0.10 | 40≤ | ≤1 |
[表2]
干涉不均 | 密着性 | 透视 分辨率 | 雾度 | |
实施例1 | ◎ | ○ | ○ | ○ |
实施例2 | ◎~○ | ○ | ○ | ○ |
实施例3 | ○ | ○ | ○ | ○ |
实施例4 | ○ | ○ | ○ | ○ |
实施例5 | ◎ | △ | ○ | ○ |
实施例6 | ◎ | ○ | ○ | ○ |
实施例7 | ○ | ○ | ○ | ○ |
实施例8 | ○~△ | ○ | ○ | ○ |
实施例9 | ◎~○ | ○ | ○ | ○ |
实施例10 | ○ | ○ | △ | × |
比较例1 | × | ○ | ○ | ○ |
比较例2 | × | ○ | ○ | ○ |
比较例3 | ○ | ○ | × | × |
比较例4 | × | ○ | △ | × |
比较例5 | × | ○ | ○ | ○ |
比较例6 | × | ○ | ○ | ○ |
由表1可知,实施例1~10的光学用薄膜,其基材层21的折射率na、底涂层22的折射率nb、树脂层23的折射率nc,是满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系的。相对于此,比较例1~4的光学用薄膜,既不满足na≤nb≤nc的关系,也不满足na≥nb≥nc的关系。如表2所示,干涉不均的评价结果,是相对于实施例1~10的光学用薄膜为△~◎,比较例1、3、4任一者其干涉不均皆评价为明显的×。因此,可确认满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系可降低干涉不均。
此外,比较例3则尽管不满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系,干涉不均的评价仍为○。其理由是,比较例3的光学用薄膜,因在树脂层23 中添加了粒径大的粒子,使表面上有凹凸,而产生外部雾度让干涉不均变得不明显的缘故。但是,由表2清楚得知,外部雾度会使比较例3的光学用薄膜的透视分辨率降低,使评价为×(参考表2)。由此可确认,若要既维持透视分辨率又抑制干涉不均,则满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系是有效的。也即,虽因外部雾度而获得干涉不均不明显的作用,但却无法维持透视分辨率。
而比较例4的光学薄膜,虽因在树脂层23中添加了粒径小的粒子而产生内部雾度,但由表2清楚得知干涉不均的评价为×。由此可知,内部雾度并无法抑制干涉不均。
接着,当将比较例5以及6的光学用薄膜的折射率与实施例1~10的光学用薄膜的折射率对比时,如表1及表2所示,比较例5及6尽管满足了na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系,但仍无法抑制干涉不均。这是因基材层21的折射率na与树脂层的折射率nc的差(|na-nc|)大于0.5的缘故。因此,即使满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系,但若相邻层之间的折射率差变大,则容易产生干涉不均。由此可确认,不仅要满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系,还有必要使基材层21的折射率na与树脂层的折射率nc的差为0.5以内。
此外,若实施例3、8、10的光学用薄膜与实施例1、2、5、6、9的光学用薄膜进行比较,则其干涉不均的评价较差。这是因实施例3以及实施例10的光学用薄膜,其相邻的基材层21与底涂层22的折射率差|na-nb|比其它实施例大,而实施例8的光学用薄膜,其底涂层22与树脂层23的折射率差|nb-nc|比其它实施例大,而不管任一者的差都超过了0.2。由此可知,若想更加抑制干涉不均,则优选设计相邻的层的折射率差在0.2以下。
若实施例4的光学用薄膜与实施例1、2、5、6、9的光学用薄膜进行比较,则其干涉不均的评价较差。这是因底涂层22的表面湿润张力比40mN/m还小,与表面湿润张力为40mN/m以上的其它实施例相比,树脂层23形成时的涂膜的厚度均匀性低的缘故。由此可知,底涂层22的表面湿润张力优选设计成40mN/m以上。由此,因可提高树脂层的均匀度,而可进一步抑制干涉不均。
此外,表面湿润张力,依构成底涂层22的树脂原本的性质,不受限于为40mN/m以上。如实施例8、9,也可通过电晕放电处理等而提高表面湿润张力。若表面湿润张力40mN/m以上,则可提高树脂层的均匀度。此时,可由实施例8、9的干涉不均的评价高而得以确认。特别是实施例9,是与实施例4的层构成相同,唯一差异的只有实施例9是由电晕放电处理而使底涂层22的表面湿润张力提高至40mN/m以上。由此可知,实施例9的干涉不均的评价比实施例4更高,是因其提高了底涂层的表面湿润张力的缘故。
在实施例5的光学用薄膜中,如表1所示,构成底涂层22与树脂层23的树脂,其主要成份的树脂的溶解度系数差大于1。因此,由表2可清楚得知,实施例5的光学用薄膜,其层的密着性比上述溶解度系数差为1以下的其它实施例1~4、6~10变差。由此可知,光学用薄膜的构成底涂层22与树脂层23的树脂,优选选择主要成份的树脂的溶解度系数差为1以下的树脂。由此可使层间的密着性提高。
而且,由表2中清楚可知,树脂层23中添加粒子、雾度较5%大的实施例10的光学用薄膜,其透视分辨率比雾度为5%以下的其它实施例1~9的光学用薄膜变差。由此可知,本发明的光学用薄膜,例如即使是内部雾度都希望雾度小,具体来说,优选使雾度在5%以下。
〔实施例11〕
其次,作为实施例11,使用上述实施例1~6的光学用薄膜来制作了图2构成的触控面板1。同样地,使用比较例1~3、6的光学用薄膜来制作了比较例的触控面板。
制作透明导电性构件
在与上述实施例1~6以及比较例1~3、6的光学用薄膜的树脂层23相反一侧的面上,以溅射法形成了厚度约20nm的ITO膜作为透明导电膜3,制作了实施例1~6以及比较例1~3、6的透明导电性构件4。
制作下部电极的面板
作为透明电极基板即玻璃基板6,准备好厚度1mm的强化玻璃板,在一侧的面上,以溅射法形成厚度约20nm的ITO膜作为透明导电膜7,切取成4型的大小(纵87.3mm、横64.0mm的长方形),制作了下部电极的 面板。
制作间隔物
在上述下部电极的面板的具有透明导电膜7的面上,作为间隔物用涂敷液,是将电离辐射线固化性树脂(Dot Cure TR5903:太阳油墨公司)通过网版印刷法点状印刷后,以高压水银灯照射紫外线,使直径50μm、高度8μm的间隔物5以1mm的间隔排列。
制作透明触控面板
将上述透明导电性构件4与下部电极的面板,以透明导电膜3与透明导电膜7相对置的方式进行配置,再以厚度30μm、宽幅3mm的双面粘贴胶带粘住边缘,制作了透明触控面板。此时,使粘着部分尽量在透明触控面板的表示面的区域外。
使用实施例1、2、5、6的光学用薄膜所制作的触控面板,除了干涉不均不明显之外,还易于操作。使用了实施例3、4的光学用薄膜制得的触控面板,虽有干涉不均,但未到明显的程度,而可易于操作。
比较例1、2、6的触控面板是干涉不均明显,且难以操作。
比较例3的触控面板,因在树脂层中含有玻璃粒子而使表面上呈凹凸的缘故,闪烁炫目而难以操作。
Claims (8)
1.一种光学用薄膜,其在基材层的至少一侧的面上依次层叠了底涂层、树脂层,其特征在于,
前述底涂层的以JIS K6768:1999所规定的表面湿润张力被调整为40mN/m以上,
当设基材层的折射率为na、底涂层的折射率为nb、树脂层的折射率为nc时,满足na≤nb≤nc或na≥nb≥nc的关系,且基材层的折射率与树脂层的折射率的差为0.5以内,其中,na≠nc。
2.根据权利要求1所述的光学用薄膜,其特征在于,
相邻的层的折射率的差为0.2以内。
3.根据权利要求1~2中任一项所述的光学用薄膜,其特征在于,
以JIS K7105:1981所规定的雾度为5%以下。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学用薄膜,其特征在于,
前述树脂层为硬涂层。
5.根据权利要求1~4项中任一项所述的光学用薄膜,其特征在于,
前述基材层、底涂层及树脂层的折射率的关系为前述na≥nb≥nc的关系,且前述基材层的折射率为1.45以上1.75以下,前述底涂层的折射率为1.40以上1.70以下,前述树脂层的折射率为1.35以上1.65以下,其中na≠nc。
6.一种透明导电性构件,其特征在于,具有:
权利要求1~5中任一项所述的光学用薄膜;和
在该光学用薄膜的至少一侧的面上配置的透明导电膜。
7.一种透明触控面板,其是至少在单面上设置有透明导电膜的2片透明电极基板,以相互的透明导电膜彼此相对置的方式进行配置而构成的透明触控面板,其特征在于,
使用权利要求6所述的透明导电性构件作为前述透明电极基板中的至少一个。
8.根据权利要求7所述的透明触控面板,其特征在于,
前述2片透明电极基板之中,一个为可动电极基板,另一个为固定电极基板,且使用权利要求6所述的透明导电性构件作为前述可动电极基板。
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