JP2001074901A - 光学材料及びそれを用いた光学系 - Google Patents

光学材料及びそれを用いた光学系

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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低屈折率材料と屈折率の波長分散が大きな材
料を混合することにより低屈折率で高分散の光学材料及
びそれを用いた光学系を得ること。 【解決手段】 ｄ線の屈折率が１．４５以下の第１材料
と可視域での波長分散を示すアッベ数が２５以下の第２
材料を含む複数材料の混合物であってｄ線の屈折率（ｎ
d）と可視域での波長分散を示すアッベ数（νd）の関係
が、ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０になるこ
と。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学材料及びそれを
用いる光学系に関し、例えばレンズ，フィルター，ミラ
ー，屈折光学素子、そして回折光学素子等の光学素子に
適用可能な低屈折率で高分散の光学材料やそれを用いる
カメラ，双眼鏡，顕微鏡等の光学機器の光学系に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より屈折系のみによって構成される
光学系の色収差を補正する方法の１つとして、分散特性
の異なる硝材を組み合わせる方法がある。例えば、望遠
鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材で正レンズ、分
散の大きい硝材で負レンズを構成し、これらを組み合わ
せて用いることで軸上色収差を補正している。この為、
レンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材
が限られている場合等では色収差が十分に補正すること
はできないことがあった。
【０００３】このときの色収差を補正する目的で硝材の
光学定数の範囲を広げる為に、屈折率とアッベ数を制御
し、低屈折率高分散の硝材を得る方法が、例えば特開平
６−３２６３１号公報，特開昭６１−９２６２号公報，
特公平４−３３７４０号公報等で提案されている。
【０００４】硝材の組み合わせにより色収差を減じる方
法に対して、レンズ面やあるいは光学系の一部に回折作
用を有する回折格子を設けた回折光学素子を用いて色収
差を減じる方法がSPIE Vol.1354 International Lens D
esign Conference(1990)等の文献により開示されてい
る。
【０００５】これは、光学系中の屈折面と回折面とで
は、ある基準波長の光線に対する色収差の出方が逆方向
になるという物理現象を利用したものである。
【０００６】さらに、この様な回折光学素子は、その回
折格子の周期的構造の周期を変化させることで非球面レ
ンズ的な効果を持たせることができ、収差の低減に大き
な効果がある。
【０００７】ここで、光線の屈折作用において比較する
と、レンズ面では１本の光線は屈折後も１本の光線であ
るのに対し、回折面では１本の光線が回折されると、各
次数に光が複数に分かれてしまう。
【０００８】そこで、レンズ系として回折光学素子を用
いる場合には、使用波長領域の光束が特定次数（以後
「設計次数」とも言う）に集中するように格子構造を決
定する必要がある。特定の次数に光が集中している場合
では、それ以外の回折光の光線の強度は低いものとな
り、強度が０の場合にはその回折光は存在しないものと
なる。
【０００９】その為、前記特長を有する為には設計次数
の光線の回折効率が十分高いことが必要になる。また、
設計次数以外の回折次数を持った光線が存在する場合
は、設計次数の光線とは別な所に結像する為、フレア光
となる。
【００１０】この回折効率の低下を減少できる構成が特
開平９−１２７３２１号公報，特開平１１−４４８０８
号公報に提示されている。これは異なる材質の分散と各
格子厚を最適に選ぶことで、広波長範囲で高い回折効率
を有する構成となっている。
【００１１】具体的には基盤上に複数の光学材料（層）
を積層し、互いに異なる光学材料の境界面の少なくとも
１つにレリーフパターン，階段形状，キノフォーム等を
形成して成る回折光学素子を開示している。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】特開平９−１２７３２
１号公報，特開平１１−４４８０８号公報のいずれの場
合も広波長範囲で高い回折効率を有する構成を得る為
に、相対的に高屈折率低分散の材料と低屈折率高分散の
材料の組み合わせを用いている。具体的には特開平９−
１２７３２１号公報の場合はＢＭＳ８１（ｎd＝１．６
４，νd＝６０．１：オハラ製）とプラスチック光学材
料ＰＣ（ｎd＝１．５８，νd＝３０．５：帝人化成）、
特開平１１−４４８０８号公報の場合はＣＯＯ１（ｎd
＝１．５２５０，νd＝５０．８：大日本インキ製）、
プラスチック光学材料ＰＣ（ｎd＝１．５８，νd＝３
０．５：帝人化成）、ＢＭＳ８１（ｎd＝１．６４，νd
＝６０．１：オハラ製）等を用いている。
【００１３】我々がさらに光学性能をあげる為、光学材
料として市販、もしくは研究開発されている光学材料を
調べたところ図１の様な分布となっていた。
【００１４】特開平９−１２７３２１号公報，特開平１
１−４４８０８号公報に記載の積層回折光学素子の材料
も図１の分布内にあてはまる。
【００１５】また、屈折光学系の硝材の光学定数の範囲
を広げる目的で、低屈折率高分散をめざし、屈折率とア
ッベ数を制御したものが、例えば特開平６−３２６３１
号公報，特開昭６１−９２６２号公報，特公平４−３３
７４０号公報等で提案されている。これらの各公報で
は、それぞれ制御する屈折率、屈折率分散が（ｎd＝
１．５８５−１．６６０、νd＝４０．５−３２．
５）、（ｎd＝１．５９４５−１．６９２５、νd＝２
７．３−３６．６）、（ｎd＝１．５５−１．６５、νd
＝２７−３５）となっており、図１の既存の物質の分布
内に収まっている。
【００１６】高屈折率低分散に対して、より低屈折率高
分散（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０）の領
域の材料を組み合わせることにより可視域（４００〜７
００ｎｍ）全域の回折効率が向上し、また屈折光学系に
おいては色収差の補正が向上すると考えられるが、この
低屈折率高分散（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．
７０）の領域としては、2-ethoxy-ethyl methacrylate
（ｎd＝１．４８３，νd＝３２）しか、見受けられず、
これまでほとんど開発されていなかった。
【００１７】本発明の目的は、従来にない低屈折率高分
散の光学材料であって、例えば屈折光学系、積層回折光
学素子の高性能化に欠かすことの出来ない光学材料及び
それを用いた光学系の提供を目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の光学材
料は、ｄ線の屈折率が１．４５以下の第１材料と可視域
での波長分散を示すアッベ数が２５以下の第２材料を含
む複数材料の混合物であってｄ線の屈折率（ｎd）と可
視域での波長分散を示すアッベ数（νd）の関係が、 ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０ になることを特徴としている。
【００１９】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、可視域での波長分散を示すアッベ数（νd）が４０
未満であることを特徴としている。
【００２０】請求項３の発明は請求項１又は２の発明に
おいて、前記第２材料は粒径が２〜１００ｎｍの微粒子
を含むことを特徴としている。
【００２１】請求項４の発明は請求項１，２又は３の発
明において、前記第１材料が非晶性フッ素樹脂であるこ
とを特徴としている。
【００２２】請求項５の発明は請求項１から４のいずれ
か１項の発明において、前記第２材料としてアッベ数
（νd）を２４．４に調整したチタンとシリコンの複合
金属酸化物の微粒子（Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）を用いる
ことを特徴としている。
【００２３】請求項６の発明は請求項１から５のいずれ
か１項の発明において、前記第１材料として非晶性フッ
素樹脂、前記第２材料としてアッベ数（νd）を２４．
４に調整したチタンとシリコンの複合金属酸化物の微粒
子（Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）を用い、微粒子とフッ素樹
脂の重量比が４５：１００〜７５：１００であることを
特徴としている。
【００２４】請求項７の発明は請求項１,２又は３の発
明において、前記材料Ａがジメチルシリコーン樹脂であ
ることを特徴としている。
【００２５】請求項８の発明は請求項１から３又は７の
いずれか１項の発明において、前記材料Ｂは酸化チタン
（ＴｉＯ2）の微粒子を含むことを特徴としている。
【００２６】請求項９の発明は請求項７又は８の発明に
おいて、前記材料Ａはジメチルシリコーン樹脂であり、
前記材料Ｂは酸化チタン（ＴｉＯ2）の微粒子を用い、
酸化チタンとジメチルシリコーン樹脂の混合する重量比
が１８：１００〜７０：１００であることを特徴として
いる。
【００２７】請求項１０の発明の光学材料は、ｄ線の屈
折率（ｎd）と可視域での波長分散を示すアッベ数
（νd）の関係が、ｎd≦−０．０１νd＋１．７０を満
足することを特徴としている。
【００２８】請求項１１の発明の光学材料は、ｄ線の屈
折率が１．４０以下の第１材料と可視域での波長分散を
示すアッベ数が１５以下の第２材料を含む複数材料の混
合物であってｄ線の屈折率（ｎd）と可視域での波長分
散を示すアッベ数（νd）の関係が、 ｎd≦−０．０１νd＋１．７０ になることを特徴としている。
【００２９】請求項１２の発明は請求項１０又は１１の
発明において、前記可視域での波長分散を示すアッベ数
（νd）が４０以下であることを特徴としている。
【００３０】請求項１３の発明は請求項１１の発明にお
いて、前記第２材料が粒径２〜１００ｎｍの微粒子を含
むことを特徴としている。
【００３１】請求項１４の発明は請求項１１又は１３の
発明において、前記第１材料が非晶性フッ素樹脂を含む
ことを特徴としている。
【００３２】請求項１５の発明は請求項１１，１３又は
１４のいずれか１項の発明において、前記第２材料は酸
化チタン（ＴｉＯ2）の微粒子を含むことを特徴として
いる。
【００３３】請求項１６の発明は請求項１１，１３，１
４又は１５の発明において、前記第１材料は非晶性フッ
素樹脂であり、前記第２材料は酸化チタン（ＴｉＯ 2）
の微粒子を用い、酸化チタンと非晶性フッ素樹脂の混合
する重量比が７：１００〜９０：１００であることを特
徴としている。
【００３４】請求項１７の発明の光学材料は、ｄ線の屈
折率が１．４５以上１．５５以下の範囲内にある第１材
料と可視域での波長分散を示すアッベ数が１０以下の第
２材料との複合材料の混合物であってｄ線の屈折率（ｎ
d）とアッベ数（νd）の関係が ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０ になることを特徴としている。
【００３５】請求項１８の発明は請求項１７の発明にお
いて、前記光学材料は可視域での波長分散を示すアッベ
数（νd）が４０以下であることを特徴としている。
【００３６】請求項１９の発明は請求項１７の発明にお
いて、前記第２材料の粒径が２〜１００ｎｍの微粒子を
含むことを特徴としている。
【００３７】請求項２０の発明は請求項１７，１８また
は１９の発明において、前記第２材料としてＩＴＯ（Ｉ
ｎ2Ｏ3）を用いることを特徴としている。
【００３８】請求項２１の発明は請求項１７から２０の
いずれか１項の発明において、前記第１材料がポリメタ
クリル酸メチルであることを特徴としている。
【００３９】請求項２２の発明は請求項１７から２１の
いずれか１項の発明において、前記第１材料としてポリ
メタクリル酸メチル、前記第２材料としてＩＴＯの微粒
子（Ｉｎ2Ｏ3）を用い、微粒子と樹脂の重量比が第１材
料：第２材料＝３０：１００〜２５０：１００であるこ
とを特徴としている。
【００４０】請求項２３の発明は請求項１７から２０の
いずれか１項の発明において、前記第１材料がアモルフ
ァスポリオレフィンであることを特徴としている。
【００４１】請求項２４の発明は請求項１７から２０の
いずれか１項の発明において、前記第１材料としてアモ
ルファスポリオレフィン、前記第２材料としてＩＴＯの
微粒子（Ｉｎ2Ｏ3）を用い、微粒子と樹脂の重量比が第
１材料：第２材料＝４４：１００〜１５０：１００であ
ることを特徴としている。
【００４２】請求項２５の発明は請求項１７から２０の
いずれか１項の発明において、前記第１材料がメタクリ
ル酸メチルとスチレンの共重合体であることを特徴とし
ている。
【００４３】請求項２６の発明は請求項１７から２０の
いずれか１項の発明において、前記第１材料としてメタ
クリル酸メチルとスチレンの共重合体の樹脂、前記第２
材料としてＩＴＯの微粒子（Ｉｎ2Ｏ3）を用い、微粒子
と樹脂の重量比が第１材料：第２材料＝４３：１００〜
１４０：１００であることを特徴としている。
【００４４】請求項２７の発明の光学部材は請求項１か
ら２６，３３のいずれか１項の光学材料より成ることを
特徴としている。
【００４５】請求項２８の発明の光学系は請求項２７の
光学部材を有することを特徴としている。
【００４６】請求項２９の発明の回折光学素子は請求項
１から２６，３３のいずれか１項の光学材料を用いたこ
とを特徴としている。
【００４７】請求項３０の発明の光学系は請求項２９の
回折光学素子を有することを特徴としている。
【００４８】請求項３１の発明の光学機器は請求項２８
又は３０の光学系を有することを特徴としている。
【００４９】請求項３２の発明の光学材料の製造方法
は、第１材料の充填率を下げ該第１材料の充填率を下げ
た隙間に該第１材料とアッベ数が異なる第２材料を埋め
こむことにより所望の屈折率とアッベ数を有する光学材
料を製造することを特徴としている。
【００５０】請求項３３の発明の光学部材は請求項３２
に記載の製造方法により作られた材料を含むことを特徴
としている。
【００５１】
【発明の実施の形態】本発明の光学材料の実施形態につ
いて説明する。
【００５２】一般に物質は分子や原子によってできてい
る為、原子、分子構造によって振動子特性、密度が決ま
っている。この為、光学材料のｄ線（波長５８７ｎｍの
光）に対する屈折率ｎdと可視域の波長分散を示すアッ
ベ数νd等の光学定数は図１の様な分布となっている。
屈折率ｎと物質の分極χ’の関係は式（１）の様に表せ
る。 ｎ2＝１＋χ’…式（１） 大きさ２〜１００ｎｍの微粒子を仮定すると微粒子内部
の分極特性はバルク的な特性を示す。しかし、波長４０
０〜７００ｎｍの可視波長域の光への分極特性は図２の
様な物質の充填率を減らした構造物を考えた場合、光学
的に不均一性を無視できるレベルの大きさである。従っ
て、図２の様な構造では式（２）のＤｒｕｄｅ理論に近
い光学特性を示す。 ｎ2＝１＋χ1＝１＋Ｔ（ｎ1 2−１）…式（２） （０≦Ｔ≦１）ｎ１：バルクの屈折率 図３は物質の充填率を変えたときの屈折率ｎdとアッベ
数νdの関係を示す説明図である。図３に示すように曲
線Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３に示すように屈折率ｎ、屈折率
ｎd、分散νdは見かけの密度を変化させても屈折率は変
化するがアッベ数はほとんど変化しない。従って図２の
構造にて屈折率を低下させれば、（ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０、及びｎd≦−０．
０１νd＋１．７０，νd≦４０）の領域の物質を作るこ
とはできる。
【００５３】レンズ面への薄膜蒸着等による反射防止膜
を形成する際、成膜の条件によっては膜の充填率が下が
り、図２の様な構造となり、波長分散の大きな（アッベ
数ν dの小さい）材料の屈折率がある程度低下する。
【００５４】しかし、物質の充填率を極端に低くした場
合、真空中から通常の大気中にさらすと、多孔質である
為に空気や水の分子が吸着してしまい、屈折率の低下を
妨げるばかりかアッベ数を大きくしてしまう傾向にあ
る。また、非常にもろい物質となる。
【００５５】そこで図４の様に、まず波長分散の大きな
物質（高分散物質）の充填率を下げ、隙間を屈折率の低
い低屈折率物質で埋めてしまい、これによって低屈折率
でアッベ数の小さな材料を実現している。
【００５６】高屈折率で屈折率の波長分散の大きな材料
として（ｎd，νd）＝（２．７４，１１．１）、（３．
３１，８．４０）、低屈折率で波長分散の小さな物質と
して（ｎd，νd）＝（１．２９，８７．４）、（１．３
４，７３．０）、（１．４３，５７．５）を仮定し、式
（１）にて分極率を求め、式（３） ｎ2＝１＋Ｔχ1＋（１−Ｔ）χ2 ＝１＋Ｔ（ｎ1 2−１）＋（１−Ｔ）（ｎ2 2−１）…式（３） （０≦Ｔ≦１）ｎχ：それぞれのバルクの屈折率に入
れ、それぞれを混合した場合の屈折率とアッベ数を計算
した。
【００５７】その結果、図５に示す様になり、低屈折率
物質（ｎd≦１．４５）と屈折率の波長分散の大きな材
料（νd≦２５）を混合することにより、（ｎd≦−６．
６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）の領域の光
学材料を実現している。
【００５８】この際、同じ割合であってもより低屈折率
物質と混合した場合、屈折率分散があまり変わらず、低
屈折率へシフトし、より高分散な材料に混ぜた場合は屈
折率はあまり変化せず、屈折率分散が大きくなる傾向に
ある。
【００５９】屈折率の波長分散の大きな物質と低屈折率
物質の混合は光の波長よりも小さく散乱にほとんど寄与
しないサイズ（１００ｎｍ以下のユニット）であればど
んな方法でもよい。
【００６０】具体的には図６に示すように屈折率高分散
材料の微粒子の場合は、 ・通常の場合 有機ポリマーを主鎖とするなら、 ・ゲスト−ホスト型 ・主鎖型 ・側鎖型 が考えられる。
【００６１】また、真空蒸着による膜形成なら屈折率の
波長分散の大きな物質と低屈折率物質の２次元蒸着のほ
か、それぞれの物質を数ｎｍ単位で積層して等価膜等を
作成する形態も適用できる。
【００６２】ただ、分極率の高分散を示すユニットが２
ｎｍ以下となり、分子レベルになるにしたがい、高分散
ユニットの環境がバルクの状態からかけ離れる為、Ｄｒ
ｕｄｅ理論よりも局所電界を考慮したＬｏｒｅｎｔｚ−
Ｌｏｒｅｎｚ理論（式（４））に従う傾向にある。この
場合は同じ割合で混合をした場合、式（３）に比べ屈折
率が低分散になる傾向にある。
【００６３】
【数１】
【００６４】混合する材料は屈折率の波長分散が大きい
材料、もしくは低屈折率の特性を示すものであれば有機
・無機物どれでもかまわない。物質は限定しないが具体
的には低屈折率（ｎd≦１．４５）の物質として、有機
物では
【００６５】
【化１】
【００６６】で表せる非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．２
８〜１．３８）等が挙げられ、無機物ではＭｇＦ2（ｎd
＝１．３８）、ＣａＦ2（ｎd＝１．４４）等が挙げられ
る。
【００６７】波長分散の大きな材料（νd≦２５）とし
て特に限定はしないが、具体的なものとしてＴｉＯ
2（ｎd，νd＝２．２６５２，１１．８），Ｎｂ2Ｏ
5（ｎd，νd＝２．３６７，１４．０），ＩＴＯ（ｎd，
νd＝１．８５８１，５．５３），Ｃｒ2Ｏ3（ｎd，νd
＝２．２１７８，１３．４），ＢａＴｉＯ3（ｎd，νd
＝２．４３６２，１１．３）等、及びこれらを少なくと
も１種類以上含む混合物が挙げられる。
【００６８】この他の発明として低屈折率材料にｎd≦
１．４５、屈折率の波長分散の大きな材料にνd≦２５
で大きさ粒径２〜１００ｎｍの微粒子を用いて、（ｎd
≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）の
領域の光学材料を実現している。
【００６９】低屈折率の材料としては特に限定はしない
が、非晶性のフッ素樹脂であることが望ましい。屈折率
が低く安定であり反応性が小さい為、混合したとき計算
値からのズレが少ないからである。
【００７０】波長分散の大きさ（即ちアッベ数が小さ
い）材料としては特に限定はしないがチタンとシリコン
の複合金属酸化物の微粒子（Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）を
用いることが望ましい。チタンとシリコンの複合金属酸
化物は任意の割合で金属の比率を調整することが可能で
あり、アッベ数の調整が容易である。ここではアッベ数
（νd）≦２５：２４．５に調整したチタンとシリコン
の複合金属酸化物の微粒子を用いた。
【００７１】チタンとシリコンの複合金属酸化物（Ｓｉ
x−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）の微粒子の粒子径は無視できない光
の散乱を起こすものでなければ、特に制約はないが、１
００ｎｍ以下であることが望ましい。
【００７２】また、例えば上記非晶性フッ素樹脂中に、
上記Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2微粒子を均一に分散させる為
には、Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2微粒子表面をフルオロアル
キル基の様な親フッ素で修飾して用いることができる。
【００７３】フッ素樹脂とチタンとシリコンの複合金属
酸化物（Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）の混合する割合が４
５：１００〜７５：１００であるとき、領域（ｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）を満た
す光学材料となる。
【００７４】このようにして低屈折率（ｎd≦１．４
５）の材料と屈折率の波長分散が大きな材料（νd≦２
５）とを混合することにより領域（ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）の光学材料を作っ
ている。
【００７５】本実施形態では以上のようにして低屈折率
高分散の光学材料を実現している。
【００７６】なお、先に挙げた2-ethoxy-ethyl methacr
ylateは構造上、低密度化により（ｎd＝１．４８３，ν
d＝３２）を実現している物質であると考えられる。本
実施形態での低屈折率（ｎd≦１．４５）の材料と屈折
率の波長分散が大きな材料（νd≦２５）の混合物を形
成することにより、領域（ｎd≦−６．６６７×１０-3
νd＋１．７０，νd≦４０）の光学材料とこの2-ethoxy
-ethyl methacrylateとは異なる構成であり、また、本
方法に比べ、この2-ethoxy-ethyl methacrylateは、屈
折率や波長分散の度合を調整する自由度に劣る。
【００７７】この他の発明として低屈折率材料としてｎ
d≦１．４０、屈折率の分散の大きな材料としてνd≦１
５で粒径２〜１００ｎｍの微粒子を用いることにより、
（ｎd≦−０．０１νd＋１．７０，νd≦４０）の領域
のすぐれた光学材料を実現している。
【００７８】低屈折率の材料としては特に限定はしない
が非晶性のフッ素樹脂であることが望ましい。屈折率が
低く安定であり、反応性が小さい為、混合した時、計算
値からのズレが少ないからである。
【００７９】屈折率の分散の大きな材料としては特に限
定はしないがＴｉＯ2の微粒子であることは望ましい。
ＴｉＯ2微粒子は比較的入手が容易で、さらに一般的に
市販されている光学用の微粒子の中で最も高い屈折率波
長分散を示す部類に属する。
【００８０】ＴｉＯ2微粒子の粒子径は無視できない光
の散乱を生じさせなければ、特に制約はないが、１００
ｎｍ以下であることが望ましい。
【００８１】また、例えば、上記、非晶性フッ素樹脂中
に、上記ＴｉＯ2微粒子を均一に分散させる為には、Ｔ
ｉＯ2微粒子表面をフルオロアルキル基の様な親フッ素
で修飾して、用いることができる。
【００８２】フッ素樹脂と酸化チタン（ＴｉＯ2）の混
合する割合が７：１００〜９０：１００であるとき、領
域（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦
４０）を満たし、９：１００〜４０：１００の範囲では
領域（ｎd≦−０．０１νd＋１．７０，νd≦４０）を
満たす光学材料となる。
【００８３】このようにして、低屈折率（ｎd≦１．４
０）の材料と屈折率の波長分散が大きな材料（νd≦１
５）にすることにより領域（ｎd≦−６．６６７×１０
-3νd＋１．７０，νd≦４０）および領域（ｎd≦−
０．０１νd＋１．７０，νd≦４０）の光学材料を作る
ことができる。
【００８４】この他の発明としては次の構成の光学材料
がある。
【００８５】屈折率分散の大きな物質としてＴｉＯ
2（ｎd，νd＝２．２６５２，１１．８），Ｎｂ2Ｏ
5（ｎd，νd＝２．３６７，１４．０），ＩＴＯ（ｎ
d＝，νd＝１．８５８１，５．５３），Ｃｒ2Ｏ
3（ｎd，νd＝２．２１７８，１３．４）ＢａＴＩＯ
3（ｎd，νd＝２．４３６２，１１．３）等の物質の中
でＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８１，５．５３）は他の
屈折率高分散な物質に較べ、アッベ数（νd）が１／２
以下となり極端に大きな分散性を示す。
【００８６】その為、ＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８
１，５．５３）に関しては、低屈折物質としてｎd≧
１．４５の物質であってもｎd≦１．５５であれば（ｎd
≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）の
領域を満たす。
【００８７】ｎd≦１．５５と物質としてポリメタクリ
ル酸メチル（以下ＰＭＭＡと記述ｎd＝１．４８）、ア
モルファスポリオレフィン（以下ＡＰＯと記述ｎd＝
１．５２５）、メタクリル酸メチルとスチレンの共重合
体（以下ＭＳと記述ｎd＝１．５３〜１．５７１）の一
部等の様に代表される様な汎用的な光学材料が混合する
材料として選択できる。
【００８８】また、ＩＴＯは導電性物質である為、光学
用樹脂に特有の帯電によるレンズ表面の埃の付着も軽減
される。
【００８９】また、ＩＴＯは紫外領域で吸収がある為、
ＵＶ吸収剤として作用し、紫外線による樹脂の劣化が軽
減する。
【００９０】この発明においては低屈折率物質として
１．４５≦ｎd≦１．５５と屈折率の波長分散の大きな
材料としてνd≦１０で２〜１００ｎｍの微粒子を用い
ることにより（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７
０，νd≦４０）の領域の光学材料を実現している。
【００９１】低屈折率の材料としては特に限定はしない
がＰＭＭＡ（ｎd＝１．４８）、ＡＰＯ（ｎd＝１．５２
５）、ＭＳの一部（ｎd＝１．５３３メタクリル酸メチ
ルとスチレンモノマーの共重合体比率により屈折率が異
なる）などが汎用的な光学樹脂としてあげられる。
【００９２】混合するＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８
１，５．５３）が望ましい。何故なら、可視域（４００
〜７００ｎｍの光）でアッベ数が１０以下の物質はＩＴ
Ｏ（ｎ d，νd＝１．８５８１，５．５３）を含むものし
か存在しない。
【００９３】ＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８１，５．５
３）の微粒子の粒子径は光の散乱に影響を与えなけれ
ば、特に制約はないが、１００ｎｍ以下であることが望
ましい。
【００９４】また、例えば、上記、ＰＭＭＡ（ｎd＝
１．４８）、ＡＰＯ（ｎd＝１．５２５）、ＭＳの一部
（ｎd＝１．５３３）中に、上記、ＩＴＯ微粒子を均一
に分散させる為には、ＩＴＯ微粒子を均一に分散させる
為には、ＩＴＯ微粒子表面をＰＭＭＡになじむ様なアル
キル基で修飾して、用いることができる。
【００９５】ＰＭＭＡとＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８
１，５．５３）の混合する割り合いが３０：１００〜２
５０：１００であるとき、ＡＰＯ（ｎd＝１．５２５）
とＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８１．５．５３）の場合
は混合する割り合いが４４：１００〜１５０：１００で
あるとき、ＭＳ（ｎd＝１．５３３）とＩＴＯ（ｎd，ν
d＝１．８５８１．５．５３）の場合は混合する割り合
いが４３：１００〜１４０：１００であるとき、領域
（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，ν d≦４
０）を満たす、光学材料となる。
【００９６】また、ＩＴＯは導電性物質である為、上
記、光学材料の帯電性も軽減された。
【００９７】本発明では以上の様にして低屈折率高分散
の光学材料を実現している。
【００９８】なお、先に挙げた2-ethoxy-ethyl methacr
ylateは構造上、低密度化により（ｎd＝１．４８３，ν
d＝３２）を実現している物質である。低屈折率（ｎd≦
１．５５）の材料と屈折率の波長分散が大きな材料（ν
d≦１０）にすることにより、領域（ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）の光学材料とは異
なる構成であり、また、本方法に較べ、屈折率、屈折率
分散を調整する自由度に劣る。
【００９９】次に本発明の光学材料の具体的な実施例に
ついて説明する。
【０１００】＜実施例１＞後述するの［方法１］にて表
面にフッ素の界面活性剤を修飾した屈折率と、屈折率分
散を（ｎd，νd）＝（１．７０３，２４．４）を調整し
たＳｉx−Ｔｉ(1- x)Ｏ2微粒子と、
【０１０１】
【化２】
【０１０２】で表せる非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．２
９）を非晶性フッ素樹脂の可溶溶剤であるフッ素溶剤
［分子構造（Ｃ4Ｆ9）3Ｎ］に重量分率Ｓｉx−Ｔｉ
(1-x)Ｏ2：非晶性フッ素樹脂＝１８．３：１００，４
１．１：１００，７０．５：１００，８８．５：１００
の割合で混合した。非晶性フッ素樹脂の溶剤に対する割
合を４％とした。Φ４５×２ｔのＢＫ７の基材の上にデ
ップコート法により上記溶液をコーティングした後、１
８０℃の炉の中で２０分加熱し、非晶性フッ素樹脂とＳ
ｉ x−Ｔｉ(1-x)Ｏ2の微粒子の混合した膜が得られた。
【０１０３】上記混合膜の屈折率と屈折率分散は分光エ
プリソーター（VASE：J.A.Woollam.Co.,Inc製）にて測
定した。
【０１０４】上記混合膜の両面反射率と透過率は分光光
度計（U4000：日立製作所製）にて行った。
【０１０５】上記混合膜の反射率，透過率を測定し、下
記式にて、 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１０６】屈折率と分散の結果を表１に示す。
【０１０７】Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2：非晶性フッ素樹脂
＝１８．３：１００，４１．１：１００の混合物は、屈
折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．３３７，５
３．９）、（１．３８３，４１．０）となり、ｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０からはず
れた領域になる。吸収・散乱（率）が０．０１以下とな
り光学膜として問題ない。
【０１０８】Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2：非晶性フッ素樹脂
＝７０．５：１００の混合物の屈折率と屈折率分散は
（ｎd，νd）＝（１．３３７，５３．９）となり、ｎd
≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領
域が存在する。吸収・散乱（率）が０．０１以下となり
光学膜として問題ない。
【０１０９】重量分率Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2：非晶性フ
ッ素樹脂＝８８．５：１００は吸収・散乱（率）が０．
０４と散乱が大きくなり、屈折率，屈折率分散を測定す
ることはできなかった。
【０１１０】［方法１］フッ素系界面活性剤を修飾した
Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2微粒子分散溶液の調整 Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2の微粒子（５〜２０ｎｍ）２０
ｇ、２，２，３，３，３−５フッ化プロパノール５００
ｇ中に入れた溶液にフッ素系界面活性剤Ｎ−（３−（ト
リトキシシリル）プロピル）−Ｎ−プロピルパ−フルオ
ロオクタンスルフォンアミドを４ｇ加え、その後１規定
の塩酸０．２１ｍｌに加え、２５℃で２４時間攪拌を行
ない微粒子表面に修飾した。その後、フッ素溶剤［分子
構造（Ｃ4Ｆ9）3Ｎ］を２５０ｇ加え、９０℃で分離蒸
留することにより５−フッ化プロパノール、加水分解に
より生じるイソプロパノール等を取り除き、Ｓｉx−Ｔ
ｉ(1- x)Ｏ2微粒子を分散させたフッ素溶剤溶液を作っ
た。
【０１１１】本実施形態では以上の方法で作成した光学
材料を撮像光学系，投影光学系，照明系等の光学系やカ
メラ，顕微鏡，双眼鏡等の光学機器に用いている。
【０１１２】＜比較例１＞ ＜実施例１＞と異なり、屈折率，屈折率分散を（ｎd，
νd）＝（１．６３６、２９．１）と調整したＳｉx−Ｔ
ｉ(1-x)Ｏ2微粒子を用い、高分散材料の屈折率分散をν
d＞２５とした。
【０１１３】［方法１］にて表面にフッ素の界面活性剤
を修飾した屈折率、屈折率分散を（ｎd，νd）＝（１．
６３６，２９．１）を調整したＳｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2微
粒子を、
【０１１４】
【化３】
【０１１５】で表せる非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．２
９）を非晶性フッ素樹脂の可溶溶剤であるフッ素溶剤
［分子構造（Ｃ4Ｆ9）3Ｎ］に重量分率Ｓｉx−Ｔｉ
(1-x)Ｏ2：非晶性フッ素樹脂＝１７．３：１００，３
８．９：１００，６６．７：１００，８３．８：１００
の割合で混合した。非晶性フッ素樹脂の溶剤に対する割
合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ７の基材の上にデ
ップコート法により上記溶液をコーティングした後、１
８０℃の炉の中で２０分加熱し、非晶性フッ素樹脂とＳ
ｉ x−Ｔｉ(1-x)Ｏ2の微粒子の混合した膜が得られた。
【０１１６】上記混合膜の屈折率と屈折率分散は分光エ
リプソメーター（VASE：J.A.Woollam.Co.,Inc製）にて
測定した。
【０１１７】上記混合膜の両面反射率と透過率は分光光
度計（U4000：日立製作所製）にて行った。
【０１１８】上記混合膜の反射率，透過率を測定し、下
記式にて、 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１１９】屈折率と分散の結果を表１に示す。
【０１２０】Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2：非晶性フッ素樹脂
＝８３．８：１００の混合物は、吸収・散乱（率）が
０．０４と散乱が大きくなり、屈折率，屈折率分散を測
定することはできなかった。
【０１２１】Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2：非晶性フッ素樹脂
＝１７．３：１００，３８．９：１００，６６．７：１
００の混合物の屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．３２９，６２．１）、（１．３６６，４８．
９）、（１．４０３，４２．１）となり、ｎd≦−６．
６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領域は全く
存在しない。
【０１２２】＜実施例２＞ ＜実施例１＞と異なり、Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2の微粒子
を用いず、屈折率、屈折率分散（ｎd，νd）＝（２．２
６５２，１１．８）のＴｉＯ2微粒子を用いた。
【０１２３】後述する［方法２］にて表面にフッ素の界
面活性剤を修飾したＴｉＯ2微粒子を、
【０１２４】
【化４】
【０１２５】とで表せる非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．
２９）を非晶性フッ素樹脂の可溶溶剤であるフッ素溶剤
［分子構造（Ｃ4Ｆ9）3Ｎ］に重量分率ＴｉＯ2：非晶性
フッ素樹脂＝４．５：１００，９．３：１００，１９：
１００，３９：１００，７４：１００，１２０：１００
の割合で混合した。非晶性フッ素樹脂の溶剤に対する割
合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ７の基材の上にデ
ップコート法により上記溶液をコーティングした後、１
８０℃の炉の中で２０分加熱し、非晶性フッ素樹脂とＴ
ｉＯ2の微粒子の混合した膜が得られた。
【０１２６】上記混合膜の屈折率と屈折率分散は分光エ
リプソメーター（VASE：J.A.Woollam.Co.,Inc製）にて
測定した。
【０１２７】上記混合膜の両面反射率と透過率は分光光
度計（U4000：日立製作所製）にて行った。
【０１２８】上記混合膜の反射率，透過率を測定し、下
記式にて、 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１２９】屈折率と分散の結果を表２に示す。
【０１３０】ＴｉＯ2：非晶性フッ素樹脂＝４．５：１
００の混合物質の屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．３１７，４８．３）となり、ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域に
存在する。吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光学
膜として問題ない。
【０１３１】ＴｉＯ2：非晶性フッ素樹脂＝９．３：１
００，１９：１００，３９：１００，７４：１００の混
合物の屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．３４
３，３４．２）、（１．３９４，２３．８）、（１．４
７８，１７．８）、（１．５９１，１４．８）となり、
ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０
の領域に存在する。吸収・散乱（率）が０．０１以下と
なり光学膜として問題ない。
【０１３２】ＴｉＯ2：非晶性フッ素樹脂＝１２０：１
００の混合物は吸収・散乱（率）が０．０６と散乱が大
きくなり、屈折率，屈折率分散を測定することはできな
かった。
【０１３３】＜実施例１＞と比べ、ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０領域を重量比（Ｔｉ
Ｏ2：非晶性フッ素樹脂＝）７：１００〜９０：１００
範囲で取ることが可能となり、さらにｎd≦−０．０１
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領域も実現され
る。
【０１３４】［方法２］フッ素系界面活性剤を修飾した
ＴｉＯ2微粒子分散溶液の調整 ＴｉＯ2の微粒子（５〜２０ｎｍ）２０ｇ、２，２，
３，３，３−５フッ化プロパノール５００ｇ中に入れた
溶液にフッ素系界面活性剤Ｎ−（３−（トリトキシシリ
ル）プロピル）−Ｎ−プロピルパ−フルオロオクタンス
ルフォンアミドを４ｇ加え、その後１規定の塩酸０．２
１ｍｌを加え２５℃で２４時間攪拌を行い、微粒子表面
に修飾した。その後フッ素溶剤［分子構造（Ｃ4Ｆ9）3
Ｎ］を２５０ｇ加え、９０℃で分離蒸留することにより
５−フッ化プロパノール、加水分解により生じるイソプ
ロパノール等を取り除き、ＴｉＯ2微粒子を分散させた
フッ素溶剤溶液を作った。
【０１３５】＜比較例２＞ ＜実施例２＞と異なり、非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．
２９）のかわりに屈折率（ｎd＝１．５２）のポリマー
を用いた。
【０１３６】ＴｉＯ2微粒子とＰＶＡ（ｎd＝１．５２）
を溶液（水：ＭｅＯＨ＝１：１）に重量分率ＴｉＯ2：
ＰＶＡ＝２〜２００：１００の割合で混合した。ＰＶＡ
の溶剤に対する割合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ
７の基材の上にデップコート法により上記溶液をコーテ
ィングした後、１８０℃の炉の中で２０分加熱し、ＰＶ
ＡとＴｉＯ2の微粒子の混合した膜が得られた。
【０１３７】上記混合膜の屈折率と屈折率分散は分光エ
リプソメーター（VASE：J.A.Woollam.Co.,Inc製）にて
測定した。
【０１３８】上記混合膜の両面反射率と透過率は分光光
度計（U4000：日立製作所製）にて行った。
【０１３９】上記混合膜の反射率，透過率を測定し、下
記式にて、 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１４０】屈折率と分散の結果を表３に示す。
【０１４１】屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．５６４，３３．０）、（１．５９０，２３．
９）、（１．６３３，１８．１）、（１．６９１，１
５．２）となり、ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．
７０，νd≦４０の領域に全て存在しない。
【０１４２】＜実施例３＞ ＜実施例２＞に記載の、
【０１４３】
【化５】
【０１４４】で表せる非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．２
９）を非晶性フッ素樹脂とＴｉＯ2の微粒子を重量分率
ＴｉＯ2非晶性フッ素樹脂＝５１：１００の割合で混合
し、（ｎd，νd）＝（１．５２３、１６．４）に調整し
た光学材料を図７に示す構造にて、ＰＳＫ５０：スミタ
光学工業（ｎd，νd）＝（１．５９３８，６０．９）と
組み合わせた。格子の高さdは８μｍで回折効率は４０
０〜７００ｎｍ可視域の波長の光において、回折効率が
９８％以上となる。比較例３に比べ、格子の高さが１／
２となり、レンズの成型加工上優位となる。
【０１４５】＜比較例３＞従来の材料であるp-methoxyb
enzyl methacrylate：（ｎd，νd）＝１．５５２，３
２．５）とＰＳＫ５０：（ｎd，νd）＝（１．５９３
８、６０．９）と組み合わせた。格子の高さdは１５μ
ｍで回折効率は４００〜７００ｎｍ可視域の波長の光に
おいて回折効率が９８％以上となる。
【０１４６】
【表１】
【０１４７】
【表２】
【０１４８】
【表３】
【０１４９】＜実施例４＞後述する［方法３］にて表面
にＰＭＭＡとの相溶性を高める為にアルキル基を修飾し
たＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８１，５．５３）微粒子
とＰＭＭＡ（ｎd＝１．４８）をＰＭＭＡの可溶溶剤で
あるメチルエチルケトン（以下ＭＥＫと記述）に重量分
率 ＩＴＯ：ＰＭＭＡ＝２０：１００、３０：１００、
５０：１００、１２０：１００、２００：１００、３０
０：１００の割合で混合した。ＰＭＭＡの溶剤に対する
割合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ７の基材の上に
デップコート法により上記溶液をコーティングした後、
８０℃の炉の中で２０分加熱しＰＭＭＡとＩＴＯの微粒
子の混合した膜が得られた。
【０１５０】上記、混合膜の屈折率と屈折率分散は分光
エリプソメーター(VASE:J.A.Woollam.Co.,Inc製)にて測
定した。
【０１５１】上記、混合膜の両面反射率と透過率は分光
光度計（Ｕ４０００：日立製作所製）にて行った。
【０１５２】上記、混合膜の反射率、透過率を測定し、
下記式にて吸収・散乱（率）を求めた。
【０１５３】屈折率と分散の結果を表４に示す。
【０１５４】重量分率 ＩＴＯ：ＰＭＭＡ＝２０：１０
０の混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．５０７，３２）となり、ｎd≦−６．６６７×１
０-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域にな
る。
【０１５５】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０１５６】ＩＴＯ：ＰＭＭＡ＝３０：１００、５０：
１００、１２０：１００、２００：１００の混合物の屈
折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．５１５，２
６．６）、（１．５３１，２０．１）、（１．５７１，
１３．２）、（１．６０９，１０．２）となりｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領域が
存在する。
【０１５７】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０１５８】重量分率 ＩＴＯ：ＰＭＭＡ＝３００：１
００の混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．６４７，８．６）となり、ｎd≦−６．６６７×
１０-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域にな
る。
【０１５９】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。ＰＭＭＡ単体では３ｋｖの帯電性が見
られたが混合物は全て帯電が見受けられなかった。
【０１６０】［方法３］アルキル基を修飾したＩＴＯ微
粒子分散溶液の調整 ＩＴＯの微粒子（５〜２０ｎｍ）２０ｇをＭＥＫ５００
ｇ中に入れた溶液にγ−メタクロリキシプロピルトリメ
トキシシランを４ｇ加え、その後、１規定の塩酸０．２
ｍｌ加え、２５℃で２４時間撹拌を行い、微粒子表面に
修飾した。
【０１６１】＜比較例４＞ ＜実施例４＞と異なりＴｉＯ2（ｎd，νd＝２．２６５
２，１１．８）微粒子を用い、高分散材料の屈折率分散
をνd＞１０とした。
【０１６２】後述する［方法４］にて表面にＰＭＭＡと
の相溶性を高める為にアルキル基を修飾したＴｉＯ2微
粒子をＴｉＯ2（ｎd＝１．２９）を可溶溶剤であるＭＥ
Ｋに重量分率 ＴｉＯ2：ＰＭＭＡ＝２０：１００、５
０：１００、８５：１００、１６０：１００の割合で混
合した。ＰＭＭＡの溶剤に対する割合を４％とした。Φ
４９×２ｔのＢＫ７の基材の上にデップコート法により
上記溶液をコーティングした後、８０℃の炉の中で２０
分加熱しＰＭＭＡとＴｉＯ2の微粒子の混合した膜が得
られた。
【０１６３】上記、混合膜の両面反射率と透過率は分光
光度計（Ｕ４０００：日立製作所製）にて行った。
【０１６４】上記、混合膜の反射率、透過率を測定し、
下記式にて 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１６５】屈折率と分散の結果を表４に示す。
【０１６６】重量分率 ＴｉＯ2：ＰＭＭＡ＝２０：１
００、５０：１００、８５：１００、１６０：１００混
合物の屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．５１
９，４０．２）、（１．５８５，２６）、（１．６３，
２１．７）、（１．７１７，１７．５）となりｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領域は
全く存在しない。
【０１６７】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。ＰＭＭＡ単体では３ｋｖの帯電性が見
られた。混合物は１ｋｖ〜２ｋｖの帯電性が見られた。
【０１６８】［方法４］アルキル基を修飾したＴｉＯ2
微粒子分散溶液の調整 ＴｉＯ2の微粒子（５〜２０ｎｍ）２０ｇをＭＥＫ５０
０ｇ中に入れた溶液にγ−メタクロリキシプロピルトリ
メトキシシランを４ｇ加え、その後、１規定の塩酸０．
２ｍｌ加え、２５℃で２４時間撹拌を行い、微粒子表面
に修飾した。
【０１６９】＜比較例５＞ ＜実施例４＞と異なりＰＭＭＡ（ｎd＝１．４８）のか
わりに屈折率（ｎd＝１．５９）のポリカーボネート
（以下ＰＣと記述）を用いた。
【０１７０】ＩＴＯ微粒子とＰＣ（ｎd＝１．５９）を
重量分率 ＩＴＯ：ＰＣ＝２０：１００、５０：１０
０、８５：１００、１６０：１００の割合でジクロロエ
タン中で混合した。溶剤ジクロロエタンに対する溶質の
割合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ７の基材の上に
デップコート法により上記溶液をコーティングした後、
１１０℃の炉の中で２０分加熱しＡＰＯとＩＴＯの微粒
子の混合した膜が得られた。
【０１７１】上記、混合膜の屈折率と屈折率分散を分光
エリプソメーター(VASE:J.A.Woollam.Co.,Inc製)にて測
定した。
【０１７２】上記、混合膜の両面反射率と透過率は分光
光度計（Ｕ４０００：日立製作所製）にて行った。
【０１７３】上記、混合膜の反射率、透過率を測定し、
下記式にて 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１７４】屈折率と分散の結果を表４に示す。
【０１７５】屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．５１９，４０）、（１．５８５，２５．８）、
（１．６３０，２１．７）、（１．７１７，１７．５）
となり、ｎ d≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，ν
d≦４０の領域に全て存在しない。
【０１７６】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。ＰＣ単体では３ｋｖの帯電性が見られ
たが混合物は全て帯電が見受けられなかった。
【０１７７】＜実施例５＞後述する［方法５］にて表面
にＡＰＯ（ｎd＝１．５２５）との相溶性を高める為に
アルキル基を修飾したＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８
１，５．５３）微粒子とＡＰＯ（ｎd＝１．５２５）を
ＡＰＯの可溶溶剤であるキシレンに重量分率ＩＴＯ：Ａ
ＰＯ＝２５：１００、４５：１００、７０：１００、１
００：１００、１３５：１００、１７０：１００の割合
で混合した。ＡＰＯの溶剤に対する割合を４％とした。
Φ４９×２ｔのＢＫ７の基材の上にデップコート法によ
り上記溶液をコーティングした後、１１０℃の炉の中で
２０分加熱しＡＰＯとＩＴＯの微粒子の混合した膜が得
られた。
【０１７８】上記、混合膜の屈折率と屈折率分散を分光
エリプソメーター(VASE:J.A.Woollam.Co.,Inc製)にて測
定した。
【０１７９】上記、混合膜の両面反射率と透過率は分光
光度計（Ｕ４０００：日立製作所製）にて行った。
【０１８０】上記、混合膜の反射率、透過率を測定し、
下記式にて 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１８１】屈折率と分散の結果を表５に示す。
【０１８２】重量分率 ＩＴＯ：ＡＰＯ＝２５：１００
の混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．
５４８，２６．６）となり、ｎd≦−６．６６７×１０
-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域になる。
【０１８３】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０１８４】ＩＴＯ：ＡＰＯ＝４５：１００、７０：１
００、１００：１００、１３５：１００の混合物の屈折
率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．５６２，２０．
５）、（１．５８０，１６．２）、（１．５９８，１
３．６）、（１．６１５，１１．８）となりｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領域が
存在する。
【０１８５】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０１８６】重量分率 ＩＴＯ：ＡＰＯ＝２２０：１０
０の混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝
（１．６５０，９．６３）となり、ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域に
なる。
【０１８７】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。ＡＰＯ単体では３ｋｖの帯電性が見ら
れたが混合物は全て帯電が見受けられなかった。
【０１８８】［方法５］アルキル基を修飾したＩＴＯ微
粒子分散溶液の調整 ＩＴＯの微粒子（５〜２０ｎｍ）２０ｇをｎ−ブタノー
ル５００ｇ中に入れた溶液にβ−（３，４エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン４ｇを加え、そ
の後、１規定の塩酸０．２ｍｌ加え、２５℃で２４時間
撹拌を行い、微粒子表面に修飾した。
【０１８９】その後、キシレンを２５０ｇ加えた後、蒸
留によりｎ−ブタノールを除き、ＩＴＯ微粒子のキシレ
ン溶液を作った。
【０１９０】＜実施例６＞ ［方法３］にて表面にＭＳ（ｎd＝１．５３４）との相
溶性を高める為にアルキル基を修飾した。
【０１９１】ＩＴＯ（ｎd，νd＝１．８５８１，５．５
３）微粒子とＭＳ（ｎd＝１．５３４）をＭＳの可溶溶
剤であるＭＥＫに重量分率ＩＴＯ：ＭＳ＝２５：１０
０、４５：１００、７０：１００、１００：１００、１
３５：１００、１７０：１００の割合で混合した。ＭＳ
の溶剤に対する割合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ
７の基材の上にデップコート法により上記溶液をコーテ
ィングした後、８０℃の炉の中で２０分加熱しＡＰＯと
ＩＴＯの微粒子の混合した膜が得られた。
【０１９２】上記、混合膜の屈折率と屈折率分散は分光
エリプソメーター(VASE:J.A.Woollam.Co.,Inc製)にて測
定した。
【０１９３】上記、混合膜の両面反射率と透過率は分光
光度計（Ｕ４０００：日立製作所製）にて行った。
【０１９４】上記、混合膜の反射率、透過率を測定し、
下記式にて 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０１９５】屈折率と分散の結果を表５に示す。
【０１９６】重量分率 ＩＴＯ：ＭＳ＝２５：１００の
混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．５
５５，２４．１）となり、ｎd≦−６．６６７×１０-3
νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域になる。
【０１９７】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０１９８】ＩＴＯ：ＭＳ＝４５：１００、７０：１０
０、１００：１００、１３５：１００の混合物の屈折率
と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．５６９，１９．
２）、（１．５８７，１５．５）、（１．６０４，１
３．２）、（１．６２１，１１．６）となり、ｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０の領域が
存在する。
【０１９９】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０２００】重量分率 ＩＴＯ：ＭＳ＝２２０：１００
の混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．
６５５，９．５１）となり、ｎd≦−６．６６７×１０
-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域になる。
【０２０１】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。ＰＭＭＡ単体では３ｋｖの帯電性が見
られたが混合物は全て帯電が見受けられなかった。
【０２０２】＜実施例７＞実施例４に記載のＰＭＭＡと
ＩＴＯ微粒子を重量分率ＩＴＯ：ＰＭＭＡ＝５０：１０
０の割合で混合し、（ｎd，νd）＝（１．５３１，２
０．１）に調整した光学材料を図８に示す構造にて、Ｐ
ＳＫ５０：スミタ光学工業（ｎd，νd）＝（１．５９３
８，６０．９）と組み合わせた。格子の高さｄは９．９
８μｍで回折効率は４００〜７００ｎｍ可視域の波長の
光において、回折効率が９８％以上となる。
【０２０３】比較例３に比べ、格子の高さがおよそ２／
３となり、レンズの成型加工上優位となる。
【０２０４】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。帯電が見受けられなかった。
【０２０５】＜比較例６＞従来の材料であるp-methoxyb
enzyl methacrylate：（ｎd，νd）＝１．５５２，３
２．５）とＰＳＫ５０：（ｎd，νd）＝（１．５９３
８、６０．９）と組み合わせた。格子の高さｄは１５μ
ｍで回折効率は４００〜７００ｎｍ可視域の波長の光に
おいて回折効率が９８％以上となる。
【０２０６】また、帯電性は拭き布（サ゛ウィーナミニマックス：カ
ネボウ合繊株式会社製）で２０回拭いた後、静電電圧計
で測定を行った。１ｋｖの帯電が見られた。
【０２０７】
【表４】
【０２０８】
【表５】
【０２０９】＜実施例７＞ ＜実施例１＞と異なり、Ｓｉx−ＴｉＯ2の微粒子を用い
ず、屈折率、屈折率分散（ｎd，νd）＝（２．２６５
２，１１．８）のＴｉＯ2微粒子を用い、また、非晶性
フッ素樹脂を用いず、ジメチルシリコーン樹脂を用い
た。
【０２１０】方法（２）にて表面にジメチルシリコーン
の官能基を修飾したＴｉＯ2微粒子とで表せるジメチル
シリコーン樹脂（ｎd＝１．４３）のエラストマーをジ
メチルシリコーン樹脂のエラストマーの可溶溶剤である
ｎ−ヘプタンに重量分率 ＴｉＯ2：ジメチルシリコー
ン樹脂＝５：１００、１０：１００、２０：１００、３
８：１００、５５：１００、８８：１００の割合で混合
した。
【０２１１】ジメチルシリコーン樹脂の溶剤に対する割
合を４％とした。Φ４９×２ｔのＢＫ７の基材の上にデ
ップコート法により上記溶液をコーティングした後、１
５０℃の炉の中で２０分加熱しジメチルシリコーン樹脂
とＴｉＯ2の微粒子の混合した膜が得られた。
【０２１２】上記、混合膜の屈折率と屈折率分散は分光
エリプソメーター（VASE:J.A.Woollam.Co.,Inc製）にて
測定した。
【０２１３】上記、混合膜の両面反射率と透過率は分光
光度計（U4000：日立製作所製）にて行った。
【０２１４】上記、混合膜の反射率、透過率を測定し、
下記式にて 吸収・散乱（率）＝１−（両面反射率）−（透過率） により吸収・散乱（率）を求めた。
【０２１５】屈折率と分散の結果を表６に示す。
【０２１６】ＴｉＯ2：ジメチルシリコーン樹脂＝５：
１００，１０：１００の混合物質の屈折率と屈折率分散
は（ｎd，νd）＝（１．４３９５，４４．６），（１．
４５０１，３９．９）となりｎd≦−６．６６７×１０
-3νd＋１．７０，νd≦４０からはずれた領域に存在す
る。
【０２１７】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。
【０２１８】ＴｉＯ2：ジメチルシリコーン樹脂＝２
０：１００、３８：１００、５５：１００の混合物の屈
折率と屈折率分散は（ｎd，νd）＝（１．４７１３，３
３．５）、（１．５０２４，２７．７）、（１．５３２
９，２４．２）となり、ｎd≦−６．６６７×１０-3ν
d ＋１．７０，νd≦４０の領域に存在する。
【０２１９】吸収・散乱（率）が０．０１以下となり光
学膜として問題ない。ＴｉＯ2：ジメチルシリコーン樹
脂＝８８：１００の混合物は屈折率と屈折率分散は（ｎ
d，νd）＝（１．５８２４，２０．６）となりｎd≦−
６．６６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０からはず
れた領域に存在する。
【０２２０】吸収・散乱（率）が０．０２となる。
【０２２１】ホストになるポリマーが屈折率がｎd＝
１．４３と＜実施例１＞よりも大きくとも、νd）＝
（２．２６５２，１１．８）のＴｉＯ2微粒子の様にア
ッベ数の小さな物質を用いることによりｎd≦−６．６
６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０領域を重量比
（ＴｉＯ2：ジメチルシリコーン樹脂＝）１８：１００
〜７０：１００範囲で同様に取ることが可能となり
（２）シリコーン官能基を修飾したＴｉＯ2微粒子分散
溶液の調整ＴｉＯ2の微粒子（５〜２０ｎｍ）２０ｇを
ｎ−ブタノール５００ｇ中に入れた溶液にシリコーン系
界面活性剤を４ｇ加え、その後、１規定の塩酸０．２ｍ
ｌ加え、２５℃で２４時間撹拌を行い、微粒子表面に修
飾した。
【０２２２】その後、ｎ−ヘプタンを２５０ｇ加え、１
００℃で分離蒸留することによりｎ−ブタノール、およ
び、加水分解により生じるアルコール等を取りのぞき、
ＴｉＯ2微粒子を分散させたｎ−ヘプタン溶液を作っ
た。
【０２２３】
【表６】
【０２２４】
【発明の効果】本発明によれば、領域（ｎd≦−６．６
６７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）または（ｎd
≦−０．０１νd＋１．７０，νd≦４０）を満足した屈
折光学系、積層光学素子の高性能化に欠かすことの出来
ない光学材料及びそれを用いた光学系を達成することが
できる。
【０２２５】特に本発明によれば上記の様に低屈折率材
料（ｎd≦１．４５）と屈折率の波長分散が大きな材料
（νd≦２５）を混合することにより、低屈折率高分散
の領域（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０，ν
d≦４０）を満足した光学材料を実現することができ
る。
【０２２６】その際、屈折率の波長分散性の大きな材料
としてチタン／シリコンの複合金属酸化物（Ｓｉx−Ｔ
ｉ(1-x)Ｏ2）（νd＝２４．４）の微粒子（２〜１００
ｎｍ）を用い、低屈折率材料として非晶性フッ素樹脂
（ｎd＝１．２９〜１．３８）を用い、重量比（Ｓｉx−
Ｔｉ(1-x)Ｏ2：フッ素樹脂）４５：１００〜７５：１０
０で混合するとより領域（ｎd≦−６．６６７×１０-3
νd＋１．７０，νd≦４０）を満たす、光学材料とな
る。
【０２２７】さらには、低屈折率材料（ｎd≦１．４
０）と屈折率の波長分散が大きな材料（νd≦１５）の
微粒子を混合することにより低屈折率高分散の領域（ｎ
d≦−０．０１νd＋１．７０，νd≦４０）を実現する
ことができる。
【０２２８】その際、屈折率の波長分散性の大きな材料
としてＴｉＯ2（ｎd，νd＝２．２６５２，１１．８）
の微粒子（２〜１００ｎｍ）を用い、低屈折率材料とし
て非晶性フッ素樹脂（ｎd＝１．２９〜１．３８）を用
い、重量比（ＴｉＯ2：フッ素樹脂）７：１００〜９
０：１００で混合するとより低屈折率高分散となる。
【０２２９】このことにより、領域（ｎd≦−６．６６
７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）及び領域（ｎd
≦−０．０１νd＋１．７０，νd≦４０）の光学材料を
供給することができ、屈折光学系、積層光学素子等の光
学系の高性能化を容易にすることが可能としている。
【０２３０】又、本発明によれば、上記の様に低屈折率
材料（１．４５≦ｎd≦１．５５）と屈折率の波長分散
が大きな材料（νd≦１０）を混合することにより低屈
折率高分散の領域（ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋
１．７０，νd≦４０）を実現することができる。
【０２３１】その際、屈折率の波長分散性の大きな材料
としてＩＴＯ（νd＝５．５３）の微粒子（２〜１００
ｎｍ）を用い、低屈折率材料としてポリメタクリル酸メ
チル（ＰＭＭＡ ｎd＝１．４８）、アモルファスポリ
オレフィン（ＡＰＯ ｎd＝１．５２５）、メタクリル
酸メチルとスチレン共重合体（ＭＳ ｎd＝１．５３
３）を用い、重量比（ＩＴＯ：ＰＭＭＡ）３０：１００
〜２５０：１００、（ＩＴＯ：ＡＰＯ）４４：１００〜
１５０：１００、（ＩＴＯ：ＭＳ）４３：１００〜１４
０：１００で混合するとより領域（ｎd≦−６．６６７
×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）を満たす、光学材
料となる。
【０２３２】このことにより、領域（ｎd≦−６．６６
７×１０-3νd＋１．７０，νd≦４０）の光学材料を汎
用的に光学材料として使用されているＰＭＭＡ（ｎd＝
１．４８）、ＡＰＯ（ｎd＝１．５２５）、ＭＳ（ｎd＝
１．５３３）等１．４５≦ｎ d≦１．５５を用いて、供
給することができ、屈折光学系、積層回折光学素子の高
性能化を容易にすることができる。
【０２３３】また、同時にＩＴＯは導電性物質である
為、上記、光学樹脂材料の帯電性を軽減し、埃等の付着
による光学系の透過光の減少や散乱光の増加を押えるこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 光学材料の屈折率と分散との関係を示す説明
図
【図２】 物質の充填率の構造の説明図
【図３】 物質の充填率を変えたときの屈折率と分散と
の関係を示す説明図
【図４】 低屈折率材料への高分散材料を分散させる説
明図
【図５】 低屈折率材料と高分散材料を混合したときの
屈折率と分散との関係を示す説明図
【図６】 物質の混合の説明図
【図７】 回折光学素子の要部断面図
【図８】 回折光学素子の要部断面図
【符号の説明】
１ 光学材料 ２ 高分散材料 ３ 低屈折率材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｌ 27/18 Ｃ０８Ｌ 27/18 29/10 29/10 33/12 33/12 37/00 37/00 83/04 83/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ｄ線の屈折率が１．４５以下の第１材料
    と可視域での波長分散を示すアッベ数が２５以下の第２
    材料を含む複数材料の混合物であってｄ線の屈折率（ｎ
    d）と可視域での波長分散を示すアッベ数（νd）の関係
    が、 ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０ になることを特徴とする光学材料。
  2. 【請求項２】 可視域での波長分散を示すアッベ数（ν
    d）が４０未満であることを特徴とする請求項１の光学
    材料。
  3. 【請求項３】 前記第２材料は粒径が２〜１００ｎｍの
    微粒子を含むことを特徴とする請求項１または２の光学
    材料。
  4. 【請求項４】 前記第１材料が非晶性フッ素樹脂である
    ことを特徴とする請求項１，２または３の光学材料。
  5. 【請求項５】 前記第２材料としてアッベ数（νd）を
    ２４．４に調整したチタンとシリコンの複合金属酸化物
    の微粒子（Ｓｉx−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）を用いることを特徴
    とする請求項１から４のいずれか１項の光学材料。
  6. 【請求項６】 前記第１材料として非晶性フッ素樹脂、
    前記第２材料としてアッベ数（νd）を２４．４に調整
    したチタンとシリコンの複合金属酸化物の微粒子（Ｓｉ
    x−Ｔｉ(1-x)Ｏ2）を用い、微粒子とフッ素樹脂の重量
    比が４５：１００〜７５：１００であることを特徴とす
    る請求項１から５のいずれか１項の光学材料。
  7. 【請求項７】 前記材料Ａがジメチルシリコーン樹脂で
    あることを特徴とする請求項１,２又は３の光学材料。
  8. 【請求項８】 前記材料Ｂは酸化チタン（ＴｉＯ2）の
    微粒子を含むことを特徴とする請求項１から３及び請求
    項７のいずれか１項の光学材料。
  9. 【請求項９】 前記材料Ａはジメチルシリコーン樹脂で
    あり、前記材料Ｂは酸化チタン（ＴｉＯ2）の微粒子を
    用い、酸化チタンとジメチルシリコーン樹脂の混合する
    重量比が１８：１００〜７０：１００であることを特徴
    とする請求項７又は８の光学材料。
  10. 【請求項１０】 ｄ線の屈折率（ｎd）と可視域での波
    長分散を示すアッベ数（νd）の関係が、 ｎd≦−０．０１νd＋１．７０ を満足することを特徴とする光学材料。
  11. 【請求項１１】 ｄ線の屈折率が１．４０以下の第１材
    料と可視域での波長分散を示すアッベ数が１５以下の第
    ２材料を含む複数材料の混合物であってｄ線の屈折率
    （ｎd）と可視域での波長分散を示すアッベ数（νd）の
    関係が、 ｎd≦−０．０１νd＋１．７０ になることを特徴とする光学材料。
  12. 【請求項１２】 前記可視域での波長分散を示すアッベ
    数（νd）が４０以下であることを特徴とする請求項１
    ０又は１１の光学材料。
  13. 【請求項１３】 前記第２材料が粒径２〜１００ｎｍの
    微粒子を含むことを特徴とする請求項１１の光学材料。
  14. 【請求項１４】 前記第１材料が非晶性フッ素樹脂を含
    むことを特徴とする請求項１１又は１３の光学材料。
  15. 【請求項１５】 前記第２材料は酸化チタン（Ｔｉ
    Ｏ2）の微粒子を含むことを特徴とする請求項１１,１３
    又は１４の光学材料。
  16. 【請求項１６】 前記第１材料は非晶性フッ素樹脂であ
    り、前記第２材料は酸化チタン（ＴｉＯ2）の微粒子を
    用い、酸化チタンと非晶性フッ素樹脂の混合する重量比
    が７：１００〜９０：１００であることを特徴とする請
    求項１１,１３,１４又は１５の光学材料。
  17. 【請求項１７】 ｄ線の屈折率が１．４５以上１．５５
    以下の範囲内にある第１材料と可視域での波長分散を示
    すアッベ数が１０以下の第２材料との複合材料の混合物
    であってｄ線の屈折率（ｎd）とアッベ数（νd）の関係
    が ｎd≦−６．６６７×１０-3νd＋１．７０ になることを特徴とする光学材料。
  18. 【請求項１８】 前記光学材料は可視域での波長分散を
    示すアッベ数（νd）が４０以下であることを特徴とす
    る請求項１７の光学材料。
  19. 【請求項１９】 前記第２材料の粒径が２〜１００ｎｍ
    の微粒子を含むことを特徴とする請求項１７または１８
    の光学材料。
  20. 【請求項２０】 前記第２材料としてＩＴＯ（Ｉｎ
    2Ｏ3）を用いることを特徴とする請求項１７、１８また
    は１９の光学材料。
  21. 【請求項２１】 前記第１材料がポリメタクリル酸メチ
    ルであることを特徴とする請求項１７から２０のいずれ
    か１項の光学材料。
  22. 【請求項２２】 前記第１材料としてポリメタクリル酸
    メチル、前記第２材料としてＩＴＯの微粒子（Ｉｎ
    2Ｏ3）を用い、微粒子と樹脂の重量比が第１材料：第２
    材料＝３０：１００〜２５０：１００であることを特徴
    とする請求項１７から２１のいずれか１項の光学材料。
  23. 【請求項２３】 前記第１材料がアモルファスポリオレ
    フィンであることを特徴とする請求項１７から２０のい
    ずれか１項の光学材料。
  24. 【請求項２４】 前記第１材料としてアモルファスポリ
    オレフィン、前記第２材料としてＩＴＯの微粒子（Ｉｎ
    2Ｏ3）を用い、微粒子と樹脂の重量比が第１材料：第２
    材料＝４４：１００〜１５０：１００であることを特徴
    とする請求項１７から２０のいずれか１項の光学材料。
  25. 【請求項２５】 前記第１材料がメタクリル酸メチルと
    スチレンの共重合体であることを特徴とする請求項１７
    から２０のいずれか１項の光学材料。
  26. 【請求項２６】 前記第１材料としてメタクリル酸メチ
    ルとスチレンの共重合体の樹脂、前記第２材料としてＩ
    ＴＯの微粒子（Ｉｎ2Ｏ3）を用い、微粒子と樹脂の重量
    比が第１材料：第２材料＝４３：１００〜１４０：１０
    ０であることを特徴とする請求項１７から２０のいずれ
    かの１項の光学材料。
  27. 【請求項２７】 請求項１から２６，３３のいずれか１
    項の光学材料より成ることを特徴とする光学部材。
  28. 【請求項２８】 請求項２７の光学部材を有することを
    特徴とする光学系。
  29. 【請求項２９】 請求項１から２６，３３のいずれか１
    項の光学材料を用いたことを特徴とする回折光学素子。
  30. 【請求項３０】 請求項２９の回折光学素子を有するこ
    とを特徴とする光学系。
  31. 【請求項３１】 請求項２８又は３０の光学系を有する
    ことを特徴とする光学機器。
  32. 【請求項３２】 第１材料の充填率を下げ該第１材料の
    充填率を下げた隙間に該第１材料とアッベ数が異なる第
    ２材料を埋めこむことにより所望の屈折率とアッベ数を
    有する光学材料を製造することを特徴とする光学材料の
    製造方法。
  33. 【請求項３３】 請求項３２に記載の製造方法により作
    られた材料を含むことを特徴とする光学部材。
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