JP2001003053A - 液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents

液晶組成物および液晶表示素子

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JP2001003053A JP2000009396A JP2000009396A JP2001003053A JP 2001003053 A JP2001003053 A JP 2001003053A JP 2000009396 A JP2000009396 A JP 2000009396A JP 2000009396 A JP2000009396 A JP 2000009396A JP 2001003053 A JP2001003053 A JP 2001003053A
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悦男 中川
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    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/42Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 アクティブ・マトリクス方式液晶表示素子用
の、高温領域で電圧保持率が高く、しきい値電圧が低
く、屈折率異方性が大きい液晶組成物を提供する。 【解決手段】 一般式1−1と1−2の1以上の化合物
からなる成分A、および一般式2−1〜2−5の1以上
の化合物からなる成分Bを含有する液晶組成物。 {R1〜R7は独立してC1〜10のアルキル/アルコキ
シ基またはC2〜10のアルケニル/アルコキシメチル
基;A1〜A6は独立して単結合、−C24−、−COO
−;X1〜X6は独立してHまたはF;B1とB2は、独立
して単結合、シクロヘキシレン、トランス−1,3−ジ
オキサン−2,5−ジイルまたはFで置換されてもよい
1,4−フェニレン;B 3はFで置換されてもよい1,
4−フェニレンまたはシクロヘキシレン;Y1とY2は独
立してF、CF3、OCF3、CF2HまたはCl;nは
0または1である。}

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ネマチック液晶組
成物に関する。さらに詳しくは、アクティブ・マトリク
ス(AM)方式用の液晶組成物およびこの液晶組成物を
用いた液晶表示素子(LCD)に関するものである。
【0002】
【従来の技術】アクティブ・マトリクス方式の液晶表示
素子(AM−LCD)は、高精細な表示が可能なため、
LCDの本命として注目を集めており、、モニター、ノ
ート型パソコン、デジタルスチルカメラ、デジタルビデ
オカメラなどの表示画面に応用されている。AM−LC
D用の液晶組成物に要求される特性は、下記の(1)〜
(5)が挙げられる。
【0003】(1) 液晶表示素子を使用できる温度範
囲を広げるために、液晶組成物は、極力広い温度範囲で
ネマチック相を示すこと(ネマチック相の上限温度を極
力高くし、かつ、ネマチック相の下限温度を極力低くす
ること)。 (2) 液晶表示素子の応答速度を速くするために、液
晶組成物の粘度を極力小さくすること。 (3) 液晶表示素子のコントラストを高くするため
に、液晶組成物の屈折率異方性値(Δn)は、液晶表示
素子のセル厚(d)に応じて適度な値をとり得ること。 (4) 液晶組成物のコントラストを高くするために、
液晶組成物の比抵抗値を高くすること、および液晶組成
物を注入したセルの電圧保持率を高くすること。特に高
温領域での電圧保持率を高くすること。高温領域での電
圧保持率測定は、液晶組成物の耐久性を見極めるための
加速試験に相当する。 (5) 液晶表示素子の駆動電源であるバッテリーを小
型化するために、液晶組成物のしきい値電圧を低くする
こと。
【0004】このような背景にしたがって、特開平8−
73857号には、高い電圧保持率を有し、しきい値電
圧が低く、かつ、屈折率異方性が適度に大きい液晶組成
物が開示されている。また、特開平9−31460号に
は、AM−LCD用液晶組成物に求められる種々の特性
を満たしながら、特に、しきい値電圧の小さく、かつ低
温相溶性に優れ、ネマティック相温度範囲の広い液晶組
成物が開示されている。さらに国際公開WO96/11
897には、AM方式およびSTN方式をはじめ種々の
モードにおける低電圧駆動用液晶化合物として、大きな
誘電異方性を有すると共に著しく低粘性である新規な液
晶化合物、およびこれを含有する液晶組成物が開示され
ている。特開平10−251186には、本発明の一般
式(1−1)と類似する化合物を用いた液晶組成物が開
示されている。ノート型パソコン、デジタルスチルカメ
ラ、デジタルビデオカメラなどの駆動電源は、バッテリ
ーによるものである。これらのバッテリーを1回の充電
で長時間使用するためには、LCDの消費電力を小さく
する必要がある。近年、このバッテリーをさらに小型化
し、さらに、1回の充電で使用時間を長くするようにな
ってきた。このため、液晶組成物には、上記(1)〜
(4)の特性を維持しながら、しきい値電圧を小さくす
ることが望まれるようになってきた。液晶組成物のしき
い値電圧を小さくするためには、誘電率異方性の大きな
液晶化合物を使用する必要がある。誘電率異方性の大き
な液晶化合物を使用して、液晶組成物を作製すると、液
晶組成物の粘度が大きくなる。従って、しきい値電圧の
低い液晶組成物を使用した液晶表示素子は、応答速度も
遅くなってしまう。E.Jakemanなど(Phy
s. Lett., A, 39(1972)69によ
って提唱されているように、応答速度がセルギャップの
二乗に比例することによるもので、応答速度を速くする
ためには、液晶表示素子を構成するセルのセルギャップ
を薄くすれば良い。しかしながら、上記(3)の項目で
示したように、TNモードのファースト・ミニマム条件
では、高コントラストを得るために、液晶表示素子を構
成するセルのセルギャップと液晶組成物の屈折率異方性
の積(Δn・d)で表される値を約0.4から0.5程
度に設定するため、セルギャップを薄くすると、必然的
に、液晶組成物の屈折率異方性を大きくしなければなら
ない。
【0005】上記の特開平8−73857に開示してあ
る組成物は、本願発明の比較例で示すように、しきい値
電圧が低く、屈折率異方性が適度に大きいもののネマチ
ック相の上限温度が低すぎることや、高温領域における
電圧保持率が低いという欠点があったり、屈折率異方性
が適度に大きく、ネマチック相の上限温度が高いものの
しきい値電圧が高すぎたり、高温領域での電圧保持率が
低いという欠点を有している。特開平9−31460に
開示してある組成物は、本願発明の比較例で示すよう
に、屈折率異方性が小さかったり、しきい値電圧が高か
ったり、ネマチック相の上限温度が低いという欠点を有
している。通常シアノ基を有する化合物は電圧保持率が
低いためAM−LCD用の液晶組成物として使用するこ
とはできない。国際公開WO96/11897には末端
にシアノ基を有する化合物を含まないAM−LCD用の
液晶組成物が開示されている。この組成物は本願の比較
例で示すように、しきい値電圧が十分に低くなかった
り、屈折率異方性が小さいという欠点を有している。特
開平10−251186には、分子中に3個のフェニレ
ン環と1個の−CF 2O−結合基を有する化合物が開示
されているが、その実施例に記載されている物性値は、
保持率が高いF系化合物からなる組成物の中で、しきい
値電圧の範囲は1.29Vから2.37Vであり比較的
高くなっている。このように、液晶組成物について種々
検討されているが、AM−LCD用として満足すべき液
晶組成物が得られていない。すなわち、上記(1)〜
(2)の特性を維持しながら、高温領域での電圧保持率
を高く維持したまま低消費電力とするのに必要な低いし
きい値電圧を有し、かつ応答速度を速くするために、セ
ルの狭ギャップ化が必要となるに伴い大きい屈折率異方
性値を有するようなAM−LCD用液晶組成物が望まれ
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、AM
−LCDに求められる一般的な特性を満たし、特に、高
温領域において電圧保持率が高く、しきい値電圧の十分
に低い、かつ屈折率異方性の大きい液晶組成物を提供す
ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、これらの
課題を解決すべく鋭意検討した結果、従来の−CF2
−結合基を有する化合物とは、Fの置換数や置換位置の
異なる特定の液晶化合物を組み合わせることにより本発
明の目的を達成できる液晶組成物が得られることを見出
し、本発明を完成するに至った。
【0008】本発明の液晶組成物は、つぎの1〜2項で
示される。 1. 一般式(1−1)および(1−2)で表される化
合物群から選択される少なくとも1つの化合物からなる
成分A、ならびに一般式(2−1)、(2−2)、(2
−3)、(2−4)および(2−5)で表される化合物
群から選択される少なくとも1つの化合物からなる成分
Bを含有する液晶組成物
【化3】
【化4】 {式中、R1、R2、R3、R4、R5 6およびR7は、各
々独立して1〜10個の炭素原子を有するアルキル基も
しくはアルコキシ基または2〜10個炭素原子を有する
アルケニル基もしくはアルコキシメチル基であり;
1、A2、A3、A4、A5およびA6は各々独立して単結
合、−C24−、−COO−であり;X1、X2、X3
4、X5およびX6は各々独立してHまたはFであり;
1およびB2は、各々独立して単結合、シクロヘキシレ
ン、トランス−1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、
または基中のHがFで置換されてもよい1,4−フェニ
レンであり;B3は基中のHがFで置換されてもよい
1,4−フェニレンまたはシクロヘキシレンであり;Y
1およびY2は各々独立してF、CF3、OCF3、CF2
HまたはClであり;nは0または1である。}。 2. 液晶組成物の全重量に対して、前記成分Aの5〜
95重量%および前記成分Bの5〜95重量%を含有す
る前記1項に記載の液晶組成物。
【0009】本発明の液晶素子は、つぎの3項で示され
る。 3. 前記1、2項のいずれか1項に記載した液晶組成
物を含むことからなる液晶表示素子。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の液晶組成物の一般式(1
−1)で表される化合物として、以下の一般式(1−1
−1)〜(1−1−31)で表される化合物が好ましく
用いられる。。これらの式中、Rは各々独立して、1〜
10個の炭素原子を有するアルキル基もしくはアルコキ
シ基、または2〜10個の炭素原子を有するアルコキシ
メチル基もしくはアルケニル基を示す。
【0011】
【化5】
【0012】
【化6】
【0013】
【化7】
【0014】本発明の一般式(1−2)で表される化合
物として、以下の一般式(1−2−1)〜(1−2−2
1)で表される化合物が好ましく用いられる。これらの
式中、Rは各々独立して、1〜10個の炭素原子を有す
るアルキル基もしくはアルコキシ基、または2〜10個
の炭素原子を有するアルコキシメチル基もしくはアルケ
ニル基を示す。
【0015】
【化8】
【0016】
【化9】
【0017】本発明の一般式(2−1)で表される化合
物として、以下の一般式(2−1−1)〜(2−1−
3)で表される化合物が好ましく用いられる。これらの
式中、Rは各々独立して、1〜10個の炭素原子を有す
るアルキル基もしくはアルコキシ基、または2〜10個
の炭素原子を有するアルコキシメチル基もしくはアルケ
ニル基を示す。
【0018】
【化10】
【0019】本発明の一般式(2−2)で表される化合
物として、以下の一般式(2−2−1)〜(2−2−
7)で表される化合物が好ましく用いられる。これらの
式中、Rは各々独立して、1〜10個の炭素原子を有す
るアルキル基もしくはアルコキシ基、または2〜10個
の炭素原子を有するアルコキシメチル基もしくはアルケ
ニル基を示す。
【0020】
【化11】
【0021】本発明の一般式(2−3)で表される化合
物として、以下の一般式(2−3−1),(2−3−
2)で表される化合物が好ましく用いられる。これらの
式中、Rは各々独立して、1〜10個の炭素原子を有す
るアルキル基もしくはアルコキシ基、または2〜10個
の炭素原子を有するアルコキシメチル基もしくはアルケ
ニル基を示す。
【0022】
【化12】
【0023】本発明の一般式(2−4)で表される化合
物として、以下の一般式(2−4−1)〜(2−4−
3)で表される化合物が好ましく用いられる。これらの
式中、Rは各々独立して、1〜10個の炭素原子を有す
るアルキル基もしくはアルコキシ基、または2〜10個
の炭素原子を有するアルコキシメチル基もしくはアルケ
ニル基を示す。
【0024】
【化13】
【0025】本発明の一般式(2−5)で表される化合
物として、以下の一般式(2−5−1)または(2−5
−2)で表される化合物が好ましく用いられる。これら
の式中、Rは各々独立して、1〜10個の炭素原子を有
するアルキル基もしくはアルコキシ基、または2〜10
個の炭素原子を有するアルコキシメチル基もしくはアル
ケニル基を示す。
【0026】
【化14】
【0027】本発明の液晶組成物を構成する化合物の機
能、役割について説明する。本発明の液晶組成物の成分
Aは、液晶組成物の高温領域における電圧保持率を高く
維持しながら、粘度を比較的小さく保ち、屈折率異方性
を大きくし、しきい値電圧をかなり低くする効果を有す
る。また、成分Aの中で4環化合物は、ほとんどのもの
が、80〜180゜Cの非常に高いTNI(液晶の上限温
度)を有するので、この4環化合物を用いることによ
り、TNIの高い液晶組成物とすることができる。このよ
うな効果は、成分Aである一般式(1−1)または(1
−2)で表される化合物が、−CF2O−基の炭素原子
に結合するフェニル環の3位と5位がフッ素原子によっ
て置換されているので、誘電率異方性が約20以上と非
常に大きく、また、粘度が比較的小さく、屈折率異方性
が大きく、比抵抗値が高いためと考えられる。
【0028】本発明の液晶組成物における成分Bの一般
式(2−1)で表される化合物は、液晶組成物の高温領
域における電圧保持率を高く維持しながら、特に低温で
の粘度を小さくし、TNIおよびしきい値電圧を調整し、
また屈折率異方性を調整する効果がある。この一般式
(2−1)で表される化合物は、2環化合物であり、誘
電率異方性値は前記成分Aの化合物ほどの大きさを示さ
ないが、6〜8程度の正の値を示す。また、前記成分A
の化合物よりも粘度が小さく、TNI(液晶の上限温度)
が0℃以下と非常に低く、屈折率異方性が小さいという
特徴がある。
【0029】本発明の一般式(2−2)で表される化合
物は、液晶組成物の高温領域における電圧保持率を高く
維持しながら、液晶組成物の上限温度を高くし、粘度を
小さくし、しきい値電圧を調整し、屈折率異方性を調整
する効果がある。本発明の一般式(2−2)で表される
化合物は3環化合物であり、本発明の成分Aの化合物ほ
どの誘電率異方性を示さないが9〜13程度の正の値を
示し、比較的TNIが50〜120℃と高く、また、成分
Aの化合物よりも粘度が小さく、比抵抗値が高いという
特徴がある。さらに、成分Aの化合物よりも比較的小さ
い屈折率異方性を示す。
【0030】本発明の一般式(2−3)または(2−
4)で表される化合物は、液晶組成物の誘電率異方性を
大きくし、しきい値電圧を低くし、屈折率異方性を調整
する効果がある。本発明の一般式(2−3)または(2
−4)で表される化合物は、3環化合物であり、本発明
の成分Aの化合物ほどの誘電率異方性を示さないが一般
式(2−1)または(2−4)で表される化合物よりも
大きな値を示し、また成分Aよりも非常に小さい0.0
4〜0.07程度の屈折率異方性を示す。
【0031】本発明の一般式(2−5)で表される化合
物は、液晶組成物の高温領域における電圧保持率を高く
維持しながら、上限温度を高くし、しきい値電圧を調整
する効果がある。本発明の一般式(2−5)で表される
化合物は4環化合物であり、本発明の成分Aの化合物ほ
どの誘電率異方性を示さないが正の値を示し、TNI点が
180℃以上と非常に高く、比抵抗値が高い。
【0032】本発明の液晶組成物を構成する成分の好ま
しい含有比率について説明する。本発明の液晶組成物に
おける成分Aの含有量は、液晶組成物の全重量に対して
5〜95重量%であり、成分Bの含有量は、液晶組成物
の全重量に対して5〜95重量%であることが好まし
い。成分Aによって、しきい値電圧を非常に低下し、成
分Bによりさらにネマチック相範囲、屈折率異方性、し
きい値電圧が調整される。 さらに詳しく説明する
と、成分Aである一般式(1−1)または(1−2)で
表される化合物は、組成物中へできるだけ多く混合する
ことにより、しきい値電圧を低下することができるが、
多量に含有させると液晶組成物のネマチック相下限温度
を高くしてしまうことがあるので、成分Aの好ましい含
有量は液晶組成物の全重量に対して95重量%以下であ
る。また、液晶組成物の高温領域での電圧保持率を高く
維持しながら、しきい値電圧をかなり小さくするために
は、成分Aの含有量は、液晶組成物の全重量に対して5
重量%以上好ましくは15重量%以上である。さらに成
分Aとして3環化合物の含有量が多い場合は、3環化合
物のTNIが比較的低く50℃以下のものが多いので、組
成物のTNIを実用的な温度にするためには、組成物の全
重量に対して70重量%以下であることがより好まし
い。
【0033】本発明の液晶組成物における成分Bの含有
量は、好ましくは5〜95重量%より好ましくは30〜
95重量%である。5重量%未満の場合には、特にネマ
チック相範囲、屈折率異方性の調整に支障をきたすこと
があり、95重量%を超えるとしきい値電圧が低いとい
う本願の効果が少なくなる。成分Bを構成する一般式
(2−1)〜(2−5)の化合物それぞれのより好まし
い含有量の範囲は、つぎのとおりである。
【0034】本発明の一般式(2−1)で表される化合
物の含有量は、液晶組成物の全重量に対して30重量%
以下が好ましく、より好ましくは25重量%以下であ
る。この一般式(2−1)の化合物はTNIが非常に低い
ので、組成物中へ多量に含有させると、液晶組成物のネ
マチック相下限温度を低くしてしまう。
【0035】本発明の液晶組成物の一般式(2−2)で
表される化合物の含有量は、組成物の全重量に対して9
5重量%以下が好ましく、より好ましくは85〜5重量
%である。この一般式(2−2)で表される化合物は、
比較的TNIが高いので、組成物中へ多量に含有させる
と、液晶組成物のネマチック相下限温度を高くしてしま
う。また、含有量が非常に少ないと、液晶組成物の高温
領域での高い電圧保持率と、低いしきい値電圧を維持し
ながら、粘度を小さくする効果は低下し、またネマチッ
ク相の上限温度を高くなる効果は低下する。
【0036】本発明の液晶組成物の一般式(2−3)ま
たは(2−4)で表わされる化合物の含有量は、好まし
くは50重量%以下である。この化合物を多量に含有さ
せると、液晶組成物のネマチック相下限温度を高くな
り、比抵抗値が低下する。
【0037】本発明の液晶組成物の一般式(2−5)で
表される化合物の含有量は、組成物全重量に対して20
重量%以下が好ましい。この化合物の含有量多いと液晶
組成物のネマチック相下限温度を高くなる。
【0038】本願発明の一般式(1−1)または(1−
2)で表される化合物の合成法は、例えば、一般式(1
−1−1)、(1−1−16)、(1−2−12)で示
される化合物について特開平10−251186に記載
されている。本願発明の一般式(2−1−3)、(2−
2−1)または(2−2−4)で表される化合物の合成
法は、特開平2−233626に記載されている。本発
明の一般式(2−4−1)で表される化合物の合成法に
関しては、特開平9−141206に記載されている。
このように、本願発明の組成物を構成する各成分の化合
物は、先行技術によって合成し得られるものである。
【0039】本発明の液晶組成物には、本発明の目的を
害さない範囲で、前記に示した成分Aおよび成分B以外
の液晶化合物を混合して使用することもできる。本発明
の液晶組成物は、それ自体慣用な方法で調製される。一
般には、種々の化合物を混合し、高い温度で互いに溶解
させる方法をとる。本発明の液晶組成物には、液晶分子
のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整するため
にコレステリルノナノエート(CN)や以下のCM−4
3Lなどのキラルドープ材を添加して使用してもよい。
【化15】 また、本発明の液晶組成物は、メロシアニン系、スチリ
ル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロ
ン系、アントラキノン系およびテトラジン系の二色性色
素を添加してゲストホストモードの液晶組成物としても
使用することができるし、ポリマー分散型液晶表示素
子、複屈折制御モードおよび動的散乱モードの液晶組成
物としても使用することができる。イン・プレイン・ス
イッチング方式の液晶組成物としても使用することがで
きる。
【0040】
【実施例】以下に、実施例により本発明を詳細に説明す
る。本発明は、以下に示す実施例に限定されるもではな
い。実施例および比較例に示した組成比は全て重量%で
表した。実施例および比較例で用いる化合物は、表1に
示した定義に基づき記号で表した。液晶組成物の特性
は、ネマチック液晶相の上限温度をTNI、ネマチック液
晶相の下限温度をTC、粘度をη、屈折率異方性をΔ
n、しきい値電圧をVth、25℃における電圧保持率
をVHR(25℃)、100℃における電圧保持率をV
HR(100℃)、応答速度をτで表した。TNIは、偏
光顕微鏡を用い、昇温過程において、ネマチック相から
等方相液体に変化するときの温度を測定することにより
求めた。TCは、10℃、0℃、−10℃、−20℃、
−30℃、−40℃の各々のフリーザー中に、液晶組成
物を30日間放置し、液晶相で判断した(例えば、一つ
の液晶組成物について、−20℃でネマチック状態をと
り、−30℃で結晶化またはスメクチック状態となった
場合には、その液晶組成物のTCは、<−20℃と表現
した)。ηは、20℃で測定した。Δnは、589nm
の波長を有する光源ランプを使用し、25℃で測定し
た。Vthは、25℃で測定した。なお、Vthは、セ
ルギャップが(0.5/Δn)μm、ツイスト角が80
°のセルを用い、ノーマリーホワイトモードで、周波数
が32Hzの矩形波を印加し、セルを通過する光の透過
率が90%になったときに印加されている電圧の値とし
た。電圧保持率は、面積法にて求めた。τは、液晶組成
物にコレステリックノナノエートをねじれのピッチが8
0μmになるように添加し、調整したものをセルギャッ
プが(0.5/Δn)μm、ツイスト角が90°のセル
に入れ、これを周波数が1KHzの5V矩形波を印加
し、液晶が立ち上がるときの応答速度(τon)と液晶
が立ち下がるときの応答速度(τoff)とし、τはτ
onとτoffの和の値と定義した。このときの測定温
度は25℃である。
【0041】
【表1】
【0042】特開平10−251186の実施例(32
〜42,44,45)に示される組成物に使用される化
合物は、本発明の一般式(1−1)と類似するが同一の
化合物ではない。本発明の一般式(1−1)で示される
化合物とこの特開平10−251186の化合物との相
違をつぎに示す。つぎの組成と特性を有する母液晶を調
製し、 3−HB−C 24% TNI=71.7℃ 5−HB−C 36% △ε=11.0 5−HB−C 25% Δn=0.137 3−HBB−C 15% η =27.0 mPa・s この母液晶に以下の化合物a、b、c a: 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F<
本発明の式(1−1−3)のR=C37> b: 3−B(F,F)CF2OBB(F,F)−F<
本発明の式(1−2−4)のR=C37> c: 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F<特開
平10−251186(実施例34に記載化合物)> をそれぞれ15%混合したものを調製した。それらのの
物性値を測定し、その測定値と母液晶の物性値から外そ
うして得られた化合物a、b、cの物性値を次の表2に
示す。
【0043】
【表2】 この表2から、本発明の式(1−1)で表される化合物
aまたはbは特開平10−251186の実施例34に
記載の化合物cよりも、Δn,△εが大きく、ηが低い
ことが明らかである。さらに4環化合物についても同様
の傾向であった。さらに、以下の実施例、比較例にて詳
細に説明する。
【0044】 実施例 A 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 14% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 14% 成分Bとして、 3−H2HB(F,F)−F 12% 4−H2HB(F,F)−F 10% 5−H2HB(F,F)−F 10% 3−HHB(F,F)−F 10% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 10% 3−HBB(F,F)−F 3% 2−HHBB(F,F)−F 4% 3−HHBB(F,F)−F 4% 4−HHBB(F,F)−F 4% からなる組成物を調製した。組成物の特性は、表3に示
す。
【0045】比較例 A 成分Aを、つぎの成分D{特願平10−251186に
記載の式(1)の化合物}に替える以外は実施例Aと同
様に行ない、液晶組成物を調製した。組成物の特性を表
3に示す。 成分D 2−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F 14% 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F 14%
【0046】
【表3】 表3で明らかなように、実施例Aの組成物は比較例Aの
組成物に比べて、屈折率異方性を大きく、Δεが大き
く、しきい値電圧を低く、応答速度が速い、これは実施
例Aの成分Aの化合物は比較例の成分Dの化合物と比べ
て、フェニレン環の数が多いことによると考えられる。
【0047】 実施例1 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 成分Bとして、 7−HB(F,F)−F 6% 3−H2HB(F,F)−F 9% 4−H2HB(F,F)−F 9% 5−H2HB(F,F)−F 9% 3−HHB(F,F)−F 7% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 13% 4−HH2B(F,F)−F 5% 5−HH2B(F,F)−F 10% 2−HHBB(F,F)−F 3% 3−HHBB(F,F)−F 3% 3−HH2BB(F,F)−F 3% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 74.5℃ TC < −20℃ η = 27.8mPa・s Δn = 0.086 Vth = 1.21V Δε =10.7 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.1% この組成物は、後述の比較例の組成物と比べて、高温に
おけるVHRが高く、Vthが非常に小さく、粘性も小
さい。比較例2の組成物と比較してTNIが高く、保持率
が高く、粘性は低い。
【0048】 実施例2 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 2−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 11% 3−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 12% 成分Bとして、 3−H2HB(F,F)−F 12% 4−H2HB(F,F)−F 10% 5−H2HB(F,F)−F 10% 3−HHB(F,F)−F 8% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 6% 3−HBB(F,F)−F 6% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 73.5℃ TC < −30℃ η =34.0mPa・s Δn = 0.105 Vth = 1.01V Δε = 13.6 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.3% この組成物は、後述の比較例の組成物と比べて高温にお
けるVHRが高く、Vthが非常に小さい。
【0049】 実施例3 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 12% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 13% 3−HBB(F,F)CF2OB(F)−F 5% 2−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 2−BB(F,F)CF2OBB(F)−F 5% 3−BB(F,F)CF2OBB(F)−F 5% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)B(F)−F 3% 2−BBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 3% 3−BBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 4% 成分Bとして、 3−HHB(F,F)−F 8% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−H2HB(F,F)−F 10% 3−H2BB(F,F)−F 7% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 78.7℃ TC < −20℃ Δn = 0.139 Vth = 1.00V Δε = 16.4 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.2% この組成物は、比較例の組成物と比べて、高温における
VHRが高く、Vthが非常に小さい。
【0050】 実施例4 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 15% 2−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 2−BB(F,F)CF2OBB(F)−F 9% 3−BB(F,F)CF2OBB(F)−F 9% 3−BB(F,F)CF2OBB(F)−OCF3 7% 成分Bとして、 3−HHB(F,F)−F 7% 4−HHB(F,F)−F 4% 3−H2HB(F,F)−F 7% 3−HDB(F,F)−F 6% 3−DHB(F,F)−F 6% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 76.1℃ TC < −20℃ Δn = 0.132 Vth = 0.96V Δε = 17.7 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.0% この組成物は、比較例の組成物と比べて、高温における
VHRが高く、Vthが非常に小さい。
【0051】 実施例5 成分Aとして、 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 3−BB(F,F)CF2OB(F)−F 5% 3−BB(F,F)CF2OB(F)−OCF3 5% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−OCF2H 5% 成分Bとして、 3−H2HB(F,F)−F 9% 4−H2HB(F,F)−F 9% 5−H2HB(F,F)−F 9% 3−HHB(F,F)−F 7% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 10% 5−HH2B(F,F)−F 10% 3−HHEB(F,F)−F 8% 2−HHBB(F,F)−F 3% 3−HHBB(F,F)−F 3% 3−HH2BB(F,F)−F 3% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 80.0℃ TC < −20℃ η = 28.8mPa・s Δn = 0.091 Vth = 1.23V Δε = 10.7 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.3%
【0052】 実施例6 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 成分Bとして、 7−HB(F,F)−F 6% 3−H2HB(F,F)−F 9% 4−H2HB(F,F)−F 9% 5−H2HB(F,F)−F 9% 3−HHB(F,F)−F 7% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 4% 3−HHBB(F,F)−F 3% その他の成分として 3−HB−O2 3% 3−HH−4 10% 3−HH−5 5% 3−HHB−1 2% 4−HHB−CL 4% 2−HHHB(F,F)−F 2% 3−HHHB(F,F)−F 2% 4−HHBB(F,F)−F 2% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 72.9℃ TC < −20℃ η = 20.8mPa・s Δn = 0.082 Vth = 1.23V Δε = 8.0 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.3%
【0053】 実施例7 成分Aとして、 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 6% 2−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 3−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 9% 成分Bとして、 3−H2HB(F,F)−F 12% 4−H2HB(F,F)−F 9% 5−H2HB(F,F)−F 9% 3−HHB(F,F)−F 7% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 15% 3−HBB(F,F)−F 6% 5−HBB(F,F)−F 4% 3−HB(F)B(F,F)−F 4% 2−HHHB(F,F)−F 2% 3−HHHB(F,F)−F 3% からなる組成物を調製した。上記組成物の特性は、以下
のようになった。 TNI = 90.2℃ TC < −20℃ η = 32.8mPa・s Δn = 0.103 Vth = 1.26V Δε = 10.2 VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.2%
【0054】 実施例8 成分Aとして、 3−B(F)B(F,F)CF2OB(F,F)−F 4% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−BB(F,F)CF2OB(F)−F 4% 3−DBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−B(F)BB(F,F)CF2OB(F)−F 5% 3−BB(F)B(F,F)CF2OB(F)−CL 5% 3−BB(F)B(F,F)CF2OB(F,F)−F 5% 成分Bとして、 3−H2HB(F,F)−F 12% 5−H2HB(F,F)−F 10% 3−HHB(F,F)−F 8% 4−HHB(F,F)−F 5% 3−HH2B(F,F)−F 7% その他の成分 3−HHB(F)−F 5% 4−HHB(F)−F 5% 3−HHB(F,F)CF2OB(F,F)−F 5% CM−43L 0.23%
【0055】 実施例9 成分Aとして、 2−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 12% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 12% 3−HBB(F,F)CF2OB(F)−F 5% 2−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−F 10% 3−HBB(F,F)CF2OB(F)−OCF3 9% 3−HBB(F,F)CF2OB(F,F)−OCF3 7% 3−HB(F,F)CF2OBB(F)−F 5% 3−B(F)BB(F,F)CF2OB(F,F)−F 8% 3−BB(F)B(F,F)CF2OB(F,F)−F 8% 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)B(F)−F 5% 成分Bとして、 3−HHB(F,F)−F 9% その他の成分 CM−43L 0.21%
【0056】比較例1 特開平8−73857に開示してある組成物の中で△n
が最も大きいの実施例7に記載のつぎの組成物を調製し
た。 2−HBEB(F,F)−F 5% 5−HHEB(F,F)−F 5% 3−BBEB(F,F)−F 5% 4−HHB−CL 10% 3−HBB(F,F)−F 10% 5−HBB(F,F)−F 10% 3−H2BB(F,F)−F 10% 4−H2BB(F,F)−F 10% 5−H2BB(F,F)−F 10% 3−HVHB(F)−F 5% 4−HVHB(F,F)−F 7% 3−H2BVB2 3% 3−HB(F)VB−4 10% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 101.5℃ η = 36.9mPa・s Δn = 0.138 Vth = 1.73V VHR(25℃) = 98.5% VHR(100℃)= 91.0% τ = 37ms この組成物は、TNIが高く、応答速度が比較的速いもの
の、Vthが高く、この組成物には、エステル基を有す
る化合物が使用されており、高温でのVHRが低いとい
う欠点を有している。
【0057】比較例2 特開平8−73857に開示してある組成物の中でVt
hが最も低い実施例2に記載のつぎの組成物を調製し
た。 5−HHEB(F,F)−F 5% 2−HBEB(F,F)−F 5% 3−HBEB(F,F)−F 5% 5−HBEB(F,F)−F 5% 3−BBEB(F,F)−F 5% 4−BBEB(F,F)−F 5% 5−BBEB(F,F)−F 5% 4−HEB(F,F)−F 10% 4−HB−CL 10% 7−HB(F)−F 3% 7−HB(F,F)−F 9% 3−HBB(F,F)−F 10% 5−HHB(F,F)−F 10% 3−H2BB(F,F)−F 13% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 46.1℃ TC < −10℃ η = 36.3mPa・s Δn = 0.096 Vth = 0.91V VHR(25℃) = 98.3% VHR(100℃)= 92.3% この組成物は、Vthが低いもののTNIが低く、比較例
1と同様にエステル基を有する化合物が使用されてお
り、高温でのVHRが低いという欠点を有している。
【0058】比較例3 特開平9−31460に開示してある組成物の中でVt
hが最も低い実施例7に記載のつぎの組成物を調製し
た。 7−HB(F,F)−F 7% 3−HHB(F,F)−F 7% 3−H2HB(F,F)−F 3% 3−HH2B(F,F)−F 7% 5−HH2B(F,F)−F 5% 3−HBB(F,F)−F 21% 5−HBB(F,F)−F 21% 2−HBEB(F,F)−F 3% 3−HBEB(F,F)−F 5% 5−HBEB(F,F)−F 3% 3−HHEB(F,F)−F 10% 4−HHEB(F,F)−F 3% 5−HHEB(F,F)−F 5% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 61.4℃ TC < −30℃ η = 30.7mPa・s Δn = 0.094 Vth = 1.05V VHR(25℃) = 98.3% VHR(100℃)= 92.5% この組成物は、Vthが低いものの、TNIが低く、高温
におけるVHRが低いという欠点を有している。
【0059】比較例4 特開平9−31460に開示してある組成物の中で最も
Δnが大きい実施例12に記載のつぎの組成物を調製し
た。 7−HB(F,F)−F 9% 3−HHB(F,F)−F 10% 3−HH2B(F,F)−F 7% 5−HH2B(F,F)−F 5% 3−HBB(F,F)−F 18% 5−HBB(F,F)−F 18% 3−HBEB(F,F)−F 5% 5−HBEB(F,F)−F 3% 3−HHEB(F,F)−F 8% 5−HHEB(F,F)−F 5% 2−HHBB(F,F)−F 4% 3−HHBB(F,F)−F 4% 5−HH2BB(F,F)−F 4% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 78.3℃ TC < −30℃ η = 30.2mPa・s Δn = 0.103 Vth = 1.21V VHR(25℃) = 98.4% VHR(100℃)= 91.5% この組成物は、Vthが高く、高温におけるVHRが低
いという欠点を有している。
【0060】比較例5 WO96/11897に開示してある組成物の中で最も
Vthが低い実施例36に記載のつぎの組成物を調製し
た。 3−HBCF2OB(F,F)−F 5% 5−HBCF2OB(F,F)−F 10% 5−HBCF2OB−CF3 5% 5−HBCF2OB(F)−F 5% 3−HBCF2OB−OCF3 5% 7−HB(F,F)−F 8% 3−HHB(F,F)−F 6% 4−HHB(F,F)−F 3% 3−H2HB(F,F)−F 10% 4−H2HB(F,F)−F 6% 5−H2HB(F,F)−F 6% 3−HH2B(F,F)−F 10% 5−HH2B(F,F)−F 5% 3−HBB(F,F)−F 5% 5−HBB(F,F)−F 5% 3−HHBB(F,F)−F 3% 3−HH2BB(F,F)−F 3% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 61.8℃ TC < −20℃ η = 23.6mPa・s Δn = 0.083 Vth = 1.50V VHR(25℃) = 98.7% VHR(100℃)= 95.6% この組成物は、粘性が低く、Vthが低く、高温でのV
HRは高いものの、T NIが低いという欠点を有してい
る。
【0061】比較例6 WO96/11897に開示してある組成物の中で最も
Δnが大きい実施例37に記載してあるつぎの組成物を
調製した。 3−HBCF2OB(F,F)−F 5% 3−HBCF2OB−OCF3 5% 3−HB−CL 4% 5−HB−CL 4% 7−HB−CL 5% 2−HHB−CL 6% 3−HHB−CL 7% 5−HHB−CL 6% 2−HBB(F)−F 6% 3−HBB(F)−F 6% 5−HBB(F)−F 12% 3−HBB(F,F)−F 13% 5−HBB(F,F)−F 13% 3−H2HB(F)−CL 3% 3−HB(F)TB−2 3% 3−HB(F)VB−2 2% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 89.3℃ TC < −20℃ η = 21.9mPa・s Δn = 0.128 Vth = 2.08V VHR(25℃) = 98.4% VHR(100℃)= 93.5% この組成物は、粘性が低く、TNIは高いものの、Vth
が高く、高温におけるVHRが若干低いという欠点を有
している。
【0062】比較例7 特開平10−251186に開示してある組成物の中で
最もΔnが大きい実施例41に記載のつぎの組成物を調
製した。 3−HB(F,F)CF2OB(F,F)−F 5% 5−HBBCF2OB(F,F)−F 5% 2−HHB(F)−F 2% 3−HHB(F)−F 2% 5−HHB(F)−F 2% 2−HBB(F)−F 6% 3−HBB(F)−F 6% 2−H2BB(F)−F 9% 3−H2BB(F)−F 9% 3−HBB(F,F)−F 25% 5−HBB(F,F)−F 19% 1O1−HBBH−4 5% 1O1−HBBH−5 5% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 95.8℃ η = 35.5mPa・s Δn = 0.132 Vth = 1.72V VHR(25℃) = 98.2% VHR(100℃)= 95.1% この組成物は、高温でのVHRは高いものの、Vthが
高いという欠点を有している。
【0063】
【発明の効果】本発明によって、アクティブ・マトリク
ス方式の液晶表示素子(AM−LCD)に求められる一
般的な特性を満たしながら、特に、高温領域において電
圧保持率の高い、しきい値電圧の十分に低い、屈折率異
方性の大きい液晶組成物を提供することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年4月24日(2000.4.2
4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0030
【補正方法】変更
【補正内容】
【0030】本発明の一般式(2−3)または(2−
4)で表される化合物は、液晶組成物の誘電率異方性を
大きくし、しきい値電圧を低くし、屈折率異方性を調整
する効果がある。本発明の一般式(2−3)または(2
−4)で表される化合物は、3環化合物であり、本発明
の成分Aの化合物ほどの誘電率異方性を示さないが一般
式(2−1)または(2−2)で表される化合物よりも
大きな値を示し、また成分Aよりも非常に小さい0.0
4〜0.07程度の屈折率異方性を示す。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0042
【補正方法】変更
【補正内容】
【0042】特開平10−251186の実施例(32
〜42,44,45)に示される組成物に使用される化
合物は、本発明の一般式(1−1)と類似するが同一の
化合物ではない。本発明の一般式(1−1)で示される
化合物とこの特開平10−251186の化合物との相
違をつぎに示す。つぎの組成と特性を有する母液晶を調
製し、 3−HB−C 24% TNI=71.7℃ 5−HB−C 36% △ε=11.07−HB −C 25% Δn=0.137 3−HBB−C 15% η =27.0 mP
a・s この母液晶に以下の化合物a、b、c a: 3−BB(F,F)CF2OB(F,F)−F<
本発明の式(1−1−3)のR=C37> b: 3−B(F,F)CF2OBB(F,F)−F<
本発明の式(1−2−4)のR=C37> c: 3−B(F)CF2OBB(F,F)−F<特開
平10−251186(実施例34に記載化合物)> をそれぞれ15%混合したものを調製した。それらのの
物性値を測定し、その測定値と母液晶の物性値から外そ
うして得られた化合物a、b、cの物性値を次の表2に
示す。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0056
【補正方法】変更
【補正内容】
【0056】比較例1 特開平8−73857に開示してある組成物の中で△n
が最も大きいの実施例7に記載のつぎの組成物を調製し
た。 2−HBEB(F,F)−F 5% 5−HHEB(F,F)−F 5% 3−BBEB(F,F)−F 5% 4−HHB−CL 10% 3−HBB(F,F)−F 10% 5−HBB(F,F)−F 10% 3−H2BB(F,F)−F 10% 4−H2BB(F,F)−F 10% 5−H2BB(F,F)−F 10% 3−HVHB(F)−F 5% 4−HVHB(F,F)−F 7% 3−H2BVB−2 3% 3−HB(F)VB−4 10% 上記組成物の特性は、以下のようになった。 TNI = 101.5℃ η = 36.9mPa・s Δn = 0.138 Vth = 1.73V VHR(25℃) = 98.5% VHR(100℃)= 91.0% τ = 37ms この組成物は、TNIが高く、応答速度が比較的速いもの
の、Vthが高く、この組成物には、エステル基を有す
る化合物が使用されており、高温でのVHRが低いとい
う欠点を有している。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(1−1)および(1−2)で表
    される化合物群から選択される少なくとも1つの化合物
    からなる成分A、ならびに一般式(2−1)、(2−
    2)、(2−3)、(2−4)および(2−5)で表さ
    れる化合物群から選択される少なくとも1つの化合物か
    らなる成分Bを含有する液晶組成物 【化1】 【化2】 {式中、R1、R2、R3、R4、R5 6およびR7は、各
    々独立して1〜10個の炭素原子を有するアルキル基も
    しくはアルコキシ基または2〜10個炭素原子を有する
    アルケニル基もしくはアルコキシメチル基であり;
    1、A2、A3、A4、A5およびA6は各々独立して単結
    合、−C24−、−COO−であり;X1、X2、X3
    4、X5およびX6は各々独立してHまたはFであり;
    1およびB2は、各々独立して単結合、シクロヘキシレ
    ン、トランス−1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、
    または基中のHがFで置換されてもよい1,4−フェニ
    レンであり;B3は基中のHがFで置換されてもよい
    1,4−フェニレンまたはシクロヘキシレンであり;Y
    1およびY2は各々独立してF、CF3、OCF3、CF2
    HまたはClであり;nは0または1である。}。
  2. 【請求項2】 液晶組成物の全重量に対して、前記成分
    Aの5〜95重量%および前記成分Bの5〜95重量%
    を含有する請求項1に記載の液晶組成物。
  3. 【請求項3】 請求項1、2のいずれか1項に記載した
    液晶組成物を含むことからなる液晶表示素子。
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