JP2000315864A - セラミック多層基板の製造方法 - Google Patents

セラミック多層基板の製造方法

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JP2000315864A JP11307083A JP30708399A JP2000315864A JP 2000315864 A JP2000315864 A JP 2000315864A JP 11307083 A JP11307083 A JP 11307083A JP 30708399 A JP30708399 A JP 30708399A JP 2000315864 A JP2000315864 A JP 2000315864A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 焼成時の平面方向への収縮を抑制し、寸法精
度に優れ、高密度配線化を達成可能なセラミック多層基
板の製造方法を提供すること。 【解決手段】 有機バインダおよび可塑剤を含むガラス
・セラミックからなるガラス・セラミックグリーンシー
ト２ａ〜２ｅと、このガラス・セラミックグリーンシー
トの焼成条件下では焼結しない無機組成物層３ａ〜３ｄ
とを交互に積層、圧着した後、この積層圧着体１０をガ
ラス・セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅの焼成条件
で焼成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ＬＳＩ、チ
ップ部品等を搭載し、かつそれらを相互に配線するため
のセラミック多層基板の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のセラミック多層基板の製造方法と
して、特開平５−１０２６６６号公報に開示されたもの
がある。この製造方法においては、図１８に示すよう
に、まず、有機バインダおよび可塑剤を含むガラス・セ
ラミックからなり、表面に、導体ペースト組成物で導体
パターン（図示せず）を形成した複数枚のガラス・セラ
ミックグリーンシートを積層し、積層体１０１を形成す
る。次に、この積層体１０１の裏面および表面に、ガラ
ス・セラミックグリーンシート１０１より焼成温度が高
い無機組成物を主成分とするセラミックグリーンシート
１０２、１０３をそれぞれ形成した後、これを圧着して
積層圧着体１００を形成する。次に、積層圧着体１００
を積層体１０１の焼成条件で焼成した後、未焼結のセラ
ミックグリーンシート１０２、１０３を除去することに
より、セラミック多層基板を得るものである。
【０００３】ここで、積層圧着体１００におけるセラミ
ックグリーンシート１０２、１０３により、その焼成時
には、積層体１０１の平面方向への熱収縮が抑制され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のセラ
ミック多層基板の製造方法においては、次のような問題
点があった。
【０００５】すなわち、積層するガラス・セラミックグ
リーンシートの枚数が多くなり、積層体１０１の厚み寸
法が大きくなると、セラミックグリーンシート１０２、
１０３の近傍、すなわち、積層体１０１の表裏面の近傍
部分については、平面方向の熱収縮が抑制されるが、積
層体１０１の厚み方向の中央部分１０４が、図１９に示
すように、内部に向かって窪むように変形する場合があ
った。このような変形１０４’により、積層体１０１の
内部にクラックが生じたり、ガラス・セラミックグリー
ンシート同士が剥離したりする恐れがあった。
【０００６】また、特に図示しないが、積層体１０１
に、電子部品を収納するためのキャビティを形成する場
合、キャビティの底部に、熱収縮を抑制するためのセラ
ミックグリーンシートを設けることは困難であった。
【０００７】そこで、本発明においては、焼成時の熱収
縮により、積層体の側面が内部に向かって窪むように変
形することを防ぐことが可能なセラミック多層基板の製
造方法を提供することを目的とする。また、積層体のキ
ャビティの底面に、熱収縮を抑制するための無機組成物
を設けることが容易なセラミック多層基板の製造方法を
提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、有機バインダおよび可塑剤を含むガラス
・セラミックからなるガラス・セラミックグリーンシー
トを複数枚積層して積層体を形成し、該積層体を焼成す
るセラミック多層基板の製造方法において、前記ガラス
・セラミックグリーンシートに対して、当該ガラス・セ
ラミックグリーンシートより焼成温度が高い無機組成物
を表面に塗布または重ね合わせる工程と、前記無機組成
物を表面に塗布または重ね合わせたガラス・セラミック
グリーンシートを複数枚積層し、前記積層体の一部を形
成する工程と、前記ガラス・セラミックグリーンシート
を複数枚積層し、前記積層体の他部を形成する工程とを
有することを特徴とする。
【０００９】また、前記ガラス・セラミックグリーンシ
ートのうちの１枚を、他の前記ガラス・セラミックグリ
ーンシートより、厚み寸法が小さくなるように形成する
工程と、前記厚み寸法の小さいガラス・セラミックグリ
ーンシートの表面に、前記無機組成物を塗布または重ね
合わせる工程と、前記厚み寸法の小さいガラス・セラミ
ックグリーンシートを、前記積層体の最下層として配置
する工程と、前記無機組成物を表面に塗布または重ね合
わせたガラス・セラミックグリーンシートを複数枚積層
し、前記積層体の最下層近傍部分から最上層までの一部
または全部を形成する工程とを有することを特徴とす
る。
【００１０】また、前記無機組成物を表面に設けた前記
ガラス・セラミックグリーンシートを複数枚積層し、前
記積層体の最下層から最上層近傍部分までの一部または
全部を形成する工程と、前記ガラス・セラミックグリー
ンシートを、前記積層体の最上層として積層する工程と
を有することを特徴とする。
【００１１】また、前記積層体の最下層および最上層を
構成するガラス・セラミックグリーンシートを、前記積
層体の他の層を構成するガラス・セラミックグリーンシ
ートより、厚み寸法が小さくなるように形成する工程を
有することを特徴とする。
【００１２】また、前記積層体の最上層およびその近傍
に配置する複数の前記ガラス・セラミックグリーンシー
トに対して、該ガラス・セラミックグリーンシートに塗
布または重ね合わせた無機組成物とともに、前記ガラス
・セラミックグリーンシートを貫通する開口部を形成す
る工程と、前記開口部を形成した複数のガラス・セラミ
ックグリーンシートを積層し、前記複数のガラス・セラ
ミックグリーンシートの前記開口部が連続してなるキャ
ビティを有する前記積層体を形成する工程とを有するこ
とを特徴とする。
【００１３】また、前記ガラス・セラミックグリーンシ
ートに塗布または重ね合わせる無機組成物が、アルミナ
を主成分とすることを特徴とする。
【００１４】また、前記ガラス・セラミックグリーンシ
ートに塗布または重ね合わせる無機組成物の厚み寸法
が、１乃至２０μｍの範囲にあることを特徴とする。
【００１５】また、前記ガラス・セラミックグリーンシ
ートの焼成温度と、前記ガラス・セラミックグリーンシ
ートに塗布または重ね合わせる無機組成物の焼成温度と
の差が、１００℃以上であることを特徴とする。
【００１６】また、キャリアフィルム上にガラス・セラ
ミックグリーンシートを形成した後、当該ガラス・セラ
ミックグリーンシート上に前記無機組成物を塗布または
重ね合わせて無機組成物層を形成する工程と、前記キャ
リアフィルム、前記ガラス・セラミックグリーンシート
および前記無機組成物層をそれぞれ貫通する貫通孔を設
けた後、当該貫通孔に導体材料を充填してビアホールを
形成し、さらに前記無機組成物層上に所定の導体パター
ンを形成する工程と、前記ビアホール、前記導体パター
ンを備えたガラス・セラミックグリーンシートを前記無
機組成物層と共に、前記キャリアフィルムから剥がし、
これを順次積層する工程と、を有することを特徴とす
る。
【００１７】また、キャリアフィルム上に前記無機組成
物を塗布または重ね合わせて無機組成物層を形成した
後、当該無機組成物層上にガラス・セラミックグリーン
シートを形成する工程と、前記キャリアフィルム、前記
無機組成物層および前記ガラス・セラミックグリーンシ
ートをそれぞれ貫通する貫通孔を設けた後、当該貫通孔
に導体材料を充填してビアホールを形成し、さらに前記
ガラス・セラミックグリーンシート上に所定の導体パタ
ーンを形成する工程と、前記ビアホール、前記導体パタ
ーンを備えたガラス・セラミックグリーンシートを前記
無機組成物層と共に、前記キャリアフィルムから剥が
し、これを順次積層する工程と、を有することを特徴と
する。
【００１８】また、ビアホールおよび導体パターンを形
成したガラス・セラミックグリーンシートと、導体材料
が充填されておらず、当該ビアホールに対応する貫通孔
を形成した前記無機組成物を主成分とするグリーンシー
トとを積層し、これを前記積層体の一部とすることを特
徴とする。
【００１９】本発明にかかるセラミック多層基板の製造
方法によれば、ガラス・セラミックグリーンシートと、
このガラス・セラミックグリーンシートより焼成温度が
高い無機組成物とを交互に配置して積層体を形成し、焼
成するものであり、この無機組成物により、積層体の最
下層および最上層のみならず、内部の層を構成するガラ
ス・セラミックグリーンシートに対して、平面方向の熱
収縮が抑制される。したがって、積層体の焼成時の変
形、特に、積層体の側面が内部に向かって窪むように変
形する恐れがない。これにより、クラックの発生、およ
び、ガラス・セラミックグリーンシートの剥離が防止さ
れ、高精度のセラミック多層基板の製造が可能となる。
【００２０】また、積層体の最下層、または、最下層お
よび最上層をガラス・セラミックグリーンシートで構成
することにより、積層体の焼成後、焼結したガラス・セ
ラミックをセラミック多層基板の実装面とすることがで
きる。したがって、未焼結の無機組成物からなる面を実
装面とする場合に比べて、実装面が安定し、セラミック
多層基板を確実に実装することができる。
【００２１】また、積層体の最下層または最上層、もし
くはその双方を構成するガラス・セラミックグリーンシ
ートを、積層体の他の層を構成するガラス・セラミック
グリーンシートより、小さい厚み寸法とすることによ
り、各層の熱収縮による変化量を同等のものとすること
ができ、ガラス・セラミックグリーンシート同士の間
で、剥離およびクラックの発生を防ぐことができる。
【００２２】また、積層体に形成したキャビティの底面
に、ガラス・セラミックグリーンシートより焼成温度の
高い無機組成物を露出させるものであるため、キャビテ
ィを形成した後で、キャビティの底面に無機組成物を設
ける必要がなく、容易に、キャビティの底面を焼成時の
熱収縮から保護することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】第１の実施例 本発明の第１の実施例にかかるセラミック多層基板の製
造方法を、図面を用いて説明する。なお、本実施例は、
積層体を構成するガラス・セラミックグリーンシートの
表面に、このガラス・セラミックグリーンシートより焼
成温度が高い無機組成物からなる無機組成物層として、
アルミナを主成分とする酸化物無機組成物のペースト
（スラリー）を塗布するものである。以下、作業項目を
順次、説明する。
【００２４】（１）ガラス・セラミックグリーンシート
形成 まず、ガラス・セラミックグリーンシートを、次の要領
で形成する。ポリビニルブチラールからなる有機バイン
ダと、ジ−ｎ−ブチルフタレートからなる可塑剤と、ト
ルエンおよびイソプロピルアルコールを重量比３０対７
０で混合してなる溶剤に、ホウ珪酸鉛ガラス粉末および
アルミナ粉末を重量比５０対５０とした組成物からなる
ガラス・セラミックを添加、混合してスラリーを形成す
る。次いで、図１に示すように、このスラリーをドクタ
ーブレード法によりキャリアフィルム１上でシート成形
し、乾燥させ、ガラス・セラミックグリーンシート２ｃ
を形成する。
【００２５】（２）無機組成物層形成 図２に示すように、キャリアフィルム１上に形成したガ
ラス・セラミックグリーンシート２ｃ上に無機組成物層
３ｃを形成する。この無機組成物層３ｃは、ポリビニル
ブチラールからなる有機バインダと、ジ−ｎ−ブチルフ
タレートからなる可塑剤と、トルエンおよびイソプロピ
ルアルコールを重量比３０対７０で混合してなる溶剤
に、アルミナ粉末を添加、混合してなるペースト（スラ
リー）を、ガラス・セラミックグリーンシート２ｃの表
面に塗布し、乾燥させ、形成するものである。
【００２６】ここで、アルミナは、ガラス・セラミック
グリーンシート２ｃより焼成温度が高く、このアルミナ
を主成分とする無機組成物層３ｃは、ガラス・セラミッ
クグリーンシート２ｃより焼成温度が高くなる。つま
り、無機組成物層３ｃは、ガラス・セラミックグリーン
シート２ｃの焼成条件では焼結しない層である。
【００２７】なお、無機組成物層３ｃの材料として用い
たアルミナは、酸化ジルコニウム、窒化アルミニウム、
窒化ホウ素、ムライト、酸化マグネシウム、もしくは炭
化ケイ素等で代用することができる。
【００２８】（３）ビアホール形成 次に、穿孔機により、キャリアフィルム１、ガラス・セ
ラミックグリーンシート２ｃおよび無機組成物層３ｃを
貫通する貫通孔を形成する。そして、この貫通孔に、ス
クリーン印刷法等により、導体材料（導体ペースト）を
充填して、図３に示すように、キャリアフィルム１、ガ
ラス・セラミックグリーンシート２ｃ、無機組成物層３
ｃを貫通するビアホール４ｃを形成する。
【００２９】この際、導体ペーストとして、銀粉末にガ
ラスフリットを５重量％加えた無機成分に、有機バイン
ダであるエチルセルロースをターピネオールに溶かした
ビヒクルを加えたものを用いる。なお、導体ペーストの
無機成分として用いた銀粉末は、銅、銀／パラジウム、
もしくは銀／白金等の粉末で代用することができる。
【００３０】（４）導体パターン形成 図４に示すように、ガラス・セラミックグリーンシート
２ｃ上に形成した無機組成物層３ｃ上に、スクリーン印
刷法により、導体ペーストを印刷し、ビアホール４ｃと
導通する導体パターン５ｃを形成する。
【００３１】なお、導体パターン５ｃは、金属箔または
金属線を用いて形成してもよい。この場合、打ち抜いた
金属箔または金属線をセラミックグリーンシート上に熱
プレスする方法、もしくは、樹脂フィルム上に蒸着、ス
パッタ、メッキ等でパターンを形成し、セラミックグリ
ーンシート上に熱転写する方法等を用いる。
【００３２】（５）積層 図５に示すように、（１）乃至（４）の手順で形成した
複数枚のガラス・セラミックグリーンシート２ｃを、キ
ャリアフィルム１から剥がし、上述した手法と同様にし
て作製したガラス・セラミックグリーンシート２ａ、２
ｂ、２ｄと共に、無機組成物層３ｃおよび導体パターン
５ｃを設けた表面側を上面として、順次積層する。
【００３３】つまり、ガラス・セラミックグリーンシー
ト２ｂ、２ｄは、ガラス・セラミックグリーンシート２
ｃと同様に、その一方主面には無機組成物層３ｂ、３ｄ
が形成されており、かつ、ガラス・セラミックグリーン
シート２ｂ、２ｄおよび無機組成物層３ｂ、３ｄを貫通
するビアホール４ｂ、４ｄと、無機組成物層３ｂ、３ｄ
表面に導体パターン５ｂ、５ｄとがそれぞれ形成されて
いる。
【００３４】なお、セラミック多層基板の最下層を構成
するガラス・セラミックグリーンシート２ａ、並びに、
セラミック多層基板の最上層を構成するガラス・セラミ
ックグリーンシート２ｅは、他の層を構成するガラス・
セラミックグリーンシート２ｂ、２ｃおよび２ｄ等よ
り、厚み寸法の小さいものとする。また、ガラス・セラ
ミックグリーンシート２ａについては、キャリアフィル
ムを剥がした後、無機組成物層３ａを設けない裏面に
も、表面電極となる導体パターン８を形成する。但し、
表面電極となる導体パターン８は、セラミック多層基板
の焼成後、導体パターン印刷→焼き付けによって形成し
てもよい。また、セラミック多層基板の最上層を構成す
るガラス・セラミックグリーンシート２ｅは、無機組成
物層を形成せず、通常のガラス・セラミックグリーンシ
ートの作製手順にしたがって形成する。
【００３５】（６）圧着 ガラス・セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅを、例え
ば温度８０℃、圧力２００ｋｇ／ｃｍ2の条件で熱圧着
し、積層圧着体を形成する。この際、ガラス・セラミッ
クグリーンシート２ａ〜２ｅと無機組成物層３ａ〜３ｄ
とが、アンカー効果等により接合される。
【００３６】こうして形成された積層圧着体を図６に示
す。同図において、１０は積層圧着体であり、ガラス・
セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅと無機組成物層３
ａ〜３ｄとが交互に配置され、表面および裏面には表面
電極となる導体パターン７および８、ならびに、各層間
に設けられた内部電極となる導体パターン５ａ〜５ｄ
が、ビアホール４ａ〜４ｅにより接続されている。
【００３７】また、積層圧着体１０を構成するガラス・
セラミックグリーンシート２ｂ〜２ｄにおいては、両面
が無機組成物層３ａ〜３ｄで覆われている。さらに、積
層圧着体１０の最下層を構成するガラス・セラミックグ
リーンシート２ａ、最上層を構成するガラス・セラミッ
クグリーンシート２ｅは、他の層のガラス・セラミック
グリーンシート２ｂ〜２ｄより厚み寸法が小さい。
【００３８】（７）焼成 この積層圧着体１０を、例えば空気中または窒素雰囲気
中で温度９００℃、１時間の条件で焼成する。この際、
積層圧着体１０を構成するガラス・セラミックグリーン
シートは、ｘ、ｙ、ｚの各方向に熱収縮しようとする
が、ガラス・セラミックグリーンシートと交互に配置さ
れた無機組成物層３ａ〜３ｄに「拘束」されるので、図
７に示すように、平面方向（ｘ−ｙ方向）の熱収縮が抑
制され、厚み方向（ｚ方向）にのみ大きく収縮すること
になる。つまり、図６におけるガラス・セラミックグリ
ーンシート２ａ〜２ｅは、それぞれ厚み方向に大きく収
縮して、図７に示す焼結体（＝セラミック多層基板）１
１において、ガラス・セラミック体２ａ’〜２ｅ’とな
る。
【００３９】この「拘束」は、その焼成時に、まず、ガ
ラス・セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅ中のガラス
成分が無機組成物層３ａ〜３ｄに拡散・浸透して、ガラ
ス・セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅが実質的な収
縮を始める前に、ガラス・セラミックグリーンシート２
ａ〜２ｅと無機組成物層３ａ〜３ｄが強固に接着し、さ
らに、ガラス・セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅの
実質的な収縮開始時、つまり、ガラス・セラミックグリ
ーンシート２ａ〜２ｅの焼成条件では、無機組成物層３
ａ〜３ｄの焼結は進行しないためにもたらされるものと
考えられる。
【００４０】また、積層圧着体１０の最下層付近および
最上層付近のみならず、内部の層を構成するガラス・セ
ラミックグリーンシート２ｂ〜２ｄにおいても、無機組
成物層３ａ〜３ｄの作用により、平面方向の熱収縮が抑
制される。したがって、焼成時の変形、特に、積層圧着
体１０の側面が内部に向かって窪むように変形する恐れ
がない。これにより、クラックの発生、および、ガラス
・セラミックグリーンシート２ａ〜２ｅの剥離が防止さ
れ、高精度のセラミック多層基板１１の製造が可能とな
る。
【００４１】また、ガラス・セラミックグリーンシート
２ａおよび２ｅは、一方主面側としか無機組成物層に接
していないので、ガラス・セラミックグリーンシート２
ｂ、２ｃおよび２ｄに比べて、熱収縮が抑制される度合
いは小さいが、ガラス・セラミックグリーンシート２ａ
および２ｅの厚み寸法は、ガラス・セラミックグリーン
シート２ｂ、２ｃおよび２ｄより小さいため、実際の熱
収縮による変化量も小さいものとなる。そして、ガラス
・セラミックグリーンシート２ａおよび２ｅの熱収縮に
よる変化量が、ガラス・セラミックグリーンシート２
ｂ、２ｃおよび２ｄの変化量と同等となるように、ガラ
ス・セラミックグリーンシート２ａおよび２ｅの厚み寸
法が調整されている。このような観点から、最上層また
は最下層のガラス・セラミックグリーンシートの厚み
は、それ以外のガラス・セラミックグリーンシートの厚
みの０．１〜０．９倍、さらには、０．３〜０．７倍が
望ましい。
【００４２】以上、本発明の第１の実施例にかかるセラ
ミック多層基板の製造方法においては、ガラス・セラミ
ックグリーンシート２ａ−２ｂ間、ガラス・セラミック
グリーンシート２ｂ−２ｃ間、ガラス・セラミックグリ
ーンシート２ｃ−２ｄ間、ガラス・セラミックグリーン
シート２ｄ−２ｅ間での熱収縮の変化量をそれぞれ等し
くしているため、各ガラス・セラミックグリーンシート
間での剥離およびクラックの発生が防止され、さらには
反りや歪みの少ない高精度のセラミック多層基板が得ら
れる。
【００４３】なお、図７に示したセラミック多層基板１
１は、例えば、図８に示すように、セラミック多層モジ
ュール２０用の基板として用いることができる。このセ
ラミック多層モジュール２０においては、内部電極１５
やビアホール１４等によって形成されるコイルパターン
ＬやコンデンサパターンＣなどを内蔵し、ガラス・セラ
ミックグリーンシート１２と無機組成物層１３とを交互
に積層してなる基板を有しており、その一方主面上に
は、半導体デバイス１９ａおよび１８ｂや、チップ積層
コンデンサ１９ｃ等が搭載されており、他方主面にはラ
ンド電極１８が形成されている。
【００４４】このセラミック多層モジュール２０のよう
に、最上層または最下層のガラス・セラミックグリーン
シートの厚みを他のガラス・セラミックグリーンシート
の厚みと同様の厚みにしてもよいが、上述したセラミッ
ク多層基板１１のように、最上層または最下層のガラス
・セラミックグリーンシートの厚みを他のガラス・セラ
ミックグリーンシートの厚みよりも小さくすることが望
ましい。
【００４５】第２の実施例 次に、本発明の第２の実施例にかかるセラミック多層基
板の製造方法を説明する。
【００４６】基本的には第１の実施例と同じ要領で、
（１）ガラス・セラミックグリーンシート形成、（２）
無機組成物層形成、（３）ビアホール埋め、（４）導体
パターン形成を行い、無機組成物層で表面を覆ったガラ
ス・セラミックグリーンシート３１ａ〜３１ｈをそれぞ
れ形成する。
【００４７】ただし、積層体の最上層およびその近傍を
構成するガラス・セラミックグリーンシート３１ｅ〜３
１ｈについては、穿孔機を用い、当該ガラス・セラミッ
クグリーンシートに塗布または重ね合わせた無機組成物
層とともに、当該ガラス・セラミックグリーンシートを
貫通する開口部を形成する。各ガラス・セラミックグリ
ーンシートの開口部は、互いに対応する位置に形成す
る。本実施例において各開口部は、各ガラス・セラミッ
クグリーンシートの中央に形成する。
【００４８】そして、これを（５）積層し、積層体を形
成する。この積層体を図９に示す。
【００４９】同図において、積層体４０は、ガラス・セ
ラミックグリーンシート３１ａ〜３１ｈと、無機組成物
層３２ａ〜３２ｇとが交互に積層された積層構造を有し
ており、積層体４０の最下層側表面には外部電極３５
ａ、最上層側表面には外部電極３５ｂがそれぞれ設けら
れている。また、積層体４０の内部には、ビアホール３
３および内部電極３４によって、所定の配線構造が形成
されている。
【００５０】さらに、積層体４０の最上層およびその近
傍に配置するガラス・セラミックグリーンシート３１
ｅ、３１ｆ、３１ｇ、３１ｈには、それぞれ開口部が形
成されており、この開口部が連続してキャビティ３６を
形成している。このキャビティ３６の底部は、ガラス・
セラミックグリーンシート３１ｄにより構成されてお
り、このガラス・セラミックグリーンシート３１ｄの表
面に設けられた無機組成物層３２ｄが、キャビティ３６
の底面３７として露出し、無機組成物層３２ｄ上には、
図示しない実装部品との導通を図るべく、表面電極３５
ｃが配されている。
【００５１】次に、積層体４０の（６）圧着、（７）焼
成を行う。ここで、積層体４０のキャビティ３６の底面
は、積層体４０を構成する他の層と同様に、無機組成物
層３２ｄにより、熱収縮から保護されている。したがっ
て、その底面は平坦性に優れたものとなる。
【００５２】本実施例によれば、上述したように、積層
体４０に設けたキャビティ３６の底面に、焼成時の熱収
縮を抑制する無機組成物層３２ｄを露出させるものであ
るため、キャビティ３６を形成した後で、キャビティ３
６の底面に新たにセラミックグリーンシート等を設ける
必要がなく、キャビティ３６の底面を焼成時の熱収縮か
ら容易に保護することができる。但し、キャビティ３６
の底面はガラス・セラミックグリーンシートが露出して
いるように構成することもできる。
【００５３】第３の実施例 次に、本発明の第３の実施例にかかるセラミック多層基
板の製造方法を説明する。
【００５４】本実施例にかかるセラミック多層基板の製
造方法を、図面を用い、作業項目にしたがって順次説明
する。
【００５５】（１）無機組成物層形成 まず、ポリビニルブチラールからなる有機バインダと、
ジ−ｎ−ブチルフタレートからなる可塑剤と、トルエン
およびイソプロピルアルコールを重量比３０対７０で混
合してなる溶剤に、アルミナ粉末を添加、混合してなる
ペースト（スラリー）を準備する。次いで、図１０に示
すように、このペーストを用いてドクターブレード法等
によりキャリアフィルム５１上にシート成形し、乾燥さ
せ、無機組成物層（セラミックグリーンシート）５２ｃ
を形成する。
【００５６】ここで、アルミナは、後述するガラス・セ
ラミックグリーンシートより焼成温度が高く、このアル
ミナを主成分とする無機組成物層５２ｃは、ガラス・セ
ラミックグリーンシートより焼成温度が高くなる。つま
り、無機組成物層５２ｃは、ガラス・セラミックグリー
ンシートの焼成条件では焼結しない層である。なお、上
述したのと同様に、無機組成物層５２ｃの材料として用
いたアルミナは、酸化ジルコニウム、窒化アルミニウ
ム、窒化ホウ素、ムライト、酸化マグネシウム、もしく
は炭化ケイ素等で代用することができる。
【００５７】（２）ガラス・セラミックグリーンシート
形成 図１１に示すように、キャリアフィルム５１上に形成し
た無機組成物層５２ｃ上に、ガラス・セラミックグリー
ンシート（ガラス・セラミック層）５３ｃを形成する。
この、ガラス・セラミック層５３ｃは、ポリビニルブチ
ラールからなる有機バインダと、ジ−ｎ−ブチルフタレ
ートからなる可塑剤と、トルエンおよびイソプロピルア
ルコールを重量比３０対７０で混合してなる溶剤に、ホ
ウ珪酸鉛ガラス粉末およびアルミナ粉末を重量比５０対
５０とした組成物からなるガラス・セラミックを添加、
混合してスラリーを形成し、このスラリーをドクターブ
レード法により無機組成物層５２ｃ上に成形し、乾燥さ
せたものである。
【００５８】（３）ビアホール形成 次に、穿孔機により、キャリアフィルム５１、無機組成
物層５２ｃおよびガラス・セラミック層５３ｃを貫通す
る貫通孔を形成する。そして、この貫通孔に、スクリー
ン印刷法等により、導体材料（導体ペースト）を充填し
て、図１２に示すように、キャリアフィルム５１、無機
組成物層５２ｃ、ガラス・セラミック層５３ｃを貫通す
るビアホール５４ｃを形成する。
【００５９】この際、導体ペーストとしては、上述した
のと同様に、銀粉末にガラスフリットを５重量％加えた
無機成分に、有機バインダであるエチルセルロースをタ
ーピネオールに溶かしたビヒクルを加えたものを用い
る。なお、導体ペーストの無機成分として用いた銀粉末
は、銅、銀／パラジウム、もしくは銀／白金等の粉末で
代用することができる。
【００６０】（４）導体パターン形成 図１３に示すように、無機組成物層５２ｃ上に形成した
ガラス・セラミック層５３ｃ上に、さらに、スクリーン
印刷法により、導体ペーストを印刷し、ビアホール５４
ｃと導通する導体パターン５５ｃを形成する。
【００６１】なお、導体パターン５５ｃは、上述したの
と同様に、金属箔または金属線を用いて形成してもよ
い。この場合、打ち抜いた金属箔または金属線をセラミ
ックグリーンシート上に熱プレスする方法、もしくは、
樹脂フィルム上に蒸着、スパッタ、メッキ等でパターン
を形成し、セラミックグリーンシート上に熱転写する方
法等を用いる。
【００６２】（５）積層 図１４に示すように、（１）乃至（４）の手順で形成し
た複数枚のガラス・セラミック層５３ｃを、キャリアフ
ィルム５１から剥がし、上述した手法と同様にして作製
したガラス・セラミック層５３ａ、５３ｂ、５３ｄ、５
３ｅと共に、導体パターン５５ｃを設けた表面側を上面
として、順次積層する。
【００６３】つまり、ガラス・セラミック層５３ｂ、５
３ｄおよび５３ｅは、ガラス・セラミック層５３ｃと同
様に、その一方主面には無機組成物層５２ｂ、５２ｄお
よび５２ｅがそれぞれ形成されており、かつ、各ガラス
・セラミック層および各無機組成物層を貫通するビアホ
ール５４ｂ、５４ｄおよび５４ｅと、導体パターン５５
ｂ、５５ｄおよび５５ｅとがそれぞれ形成されている。
【００６４】なお、セラミック多層基板の最下層を構成
するガラス・セラミック層５３ａ、並びに、セラミック
多層基板の最上層を構成するガラス・セラミック層５３
ｅは、他の層を構成するガラス・セラミック層５３ｂ、
５３ｃおよび５３ｄ等より、厚み寸法の小さいものとす
る。また、ガラス・セラミック層５３ａは、無機組成物
層を形成せず、通常のガラス・セラミックグリーンシー
トの作製手順にしたがって形成したものであり、内部電
極となる導体パターン５５ａと外部電極となる導体パタ
ーン５７とがその両面に印刷されている。
【００６５】（６）圧着 ガラス・セラミック層５３ａおよび無機組成物層５２ａ
〜５２ｄを備えるガラス・セラミック層５２ｂ〜５３ｅ
を、例えば温度８０℃、圧力２００ｋｇ／ｃｍ 2の条件
で熱圧着し、積層圧着体を形成する。この際、ガラス・
セラミック層５３ａ〜５３ｅと無機組成物層５２ａ〜５
２ｄとが、アンカー効果等により接合される。
【００６６】こうして形成された積層圧着体を図１５に
示す。同図において、６０は積層圧着体であり、ガラス
・セラミックグ層５３ａ〜５３ｅと無機組成物層５２ａ
〜５２ｄとが交互に配置され、表面および裏面には表面
電極となる導体パターン５７および５５ｅ、ならびに、
各層間に設けられた内部電極となる導体パターン５５ａ
〜５５ｄが、ビアホール５４ａ〜５４ｅにより接続され
ている。
【００６７】また、積層圧着体６０を構成するガラス・
セラミック層５３ｂ〜５３ｄにおいては、その両面が無
機組成物層５２ａ〜５２ｄでそれぞれ覆われている。さ
らに、積層圧着体６０の最下層を構成するガラス・セラ
ミック層５３ａ、最上層を構成するガラス・セラミック
層５３ｅは、他の層のガラス・セラミック層５３ｂ〜５
３ｄより厚み寸法が小さい。
【００６８】（７）焼成 この積層圧着体６０を、例えば空気中または窒素雰囲気
中で温度９００℃、１時間の条件で焼成する。この際、
積層圧着体６０を構成する各ガラス・セラミック層は、
ｘ、ｙ、ｚの各方向に熱収縮しようとするが、ガラス・
セラミック層と交互に配置された無機組成物層５２ａ〜
５２ｄに拘束されるので、平面方向（ｘ−ｙ方向）の熱
収縮が抑制され、厚み方向（ｚ方向）にのみ大きく収縮
することになる。
【００６９】また、積層圧着体６０の最下層付近および
最上層付近のみならず、内部の層を構成するガラス・セ
ラミック層５３ｂ〜５３ｄにおいても、無機組成物層５
２ａ〜５２ｄの作用により、平面方向の熱収縮が抑制さ
れる。したがって、焼成時の変形、特に、積層圧着体６
０の側面が内部に向かって窪むように変形する恐れがな
い。これにより、クラックの発生、および、ガラス・セ
ラミック層５３ａ〜５３ｅの剥離が防止され、高精度の
セラミック多層基板の製造が可能となる。
【００７０】また、ガラス・セラミック層５３ａおよび
５３ｅは、その一方主面側とのみ無機組成物層に接しい
るので、ガラス・セラミック層５３ｂ、５３ｃおよび５
３ｄに比べて、熱収縮が抑制される度合いは小さいが、
ガラス・セラミック層５３ａおよび５３ｅの厚み寸法
は、ガラス・セラミック層５３ｂ、５３ｃおよび５３ｄ
より小さいため、実際の熱収縮による変化量も小さいも
のとなる。つまり、ガラス・セラミック層５３ａおよび
５３ｅの熱収縮による変化量が、ガラス・セラミック層
５３ｂ、５３ｃおよび５３ｄの変化量と同等となるよう
に、ガラス・セラミック層５３ａおよび５３ｅの厚み寸
法が調整されている。このような観点から、最上層また
は最下層のガラス・セラミック層の厚みは、それ以外の
ガラス・セラミック層の厚みの０．１〜０．９倍、さら
には、０．３〜０．７倍が望ましい。
【００７１】以上、本発明の第３の実施例にかかるセラ
ミック多層基板の製造方法においては、ガラス・セラミ
ック層５３ａ−５３ｂ間、ガラス・セラミック層５３ｂ
−５３ｃ間、ガラス・セラミック層５３ｃ−５３ｄ間、
ガラス・セラミック層５３ｄ−５３ｅ間での熱収縮の変
化量をそれぞれ等しくしているため、各ガラス・セラミ
ック層間での剥離および熱収縮による変形やクラック発
生が防止され、さらには反りや歪みの少ない高精度のセ
ラミック多層基板が得られる。
【００７２】第４の実施例 本実施例によるセラミック多層基板を図１６に示す。こ
のセラミック多層基板２０は、ガラス・セラミック層７
１ａ〜７１ｆと無機組成物層７２ａ〜７２ｇとが交互に
積層された構成を有している。また、その内部には、ビ
アホール７３および内部導体７４により、コンデンサパ
ターンや配線パターン等が形成されており、その表面に
は、表面電極７５が形成されている。
【００７３】すなわち、本発明のセラミック多層基板の
製造方法によれば、セラミック多層基板２０のように、
上下表層に無機組成物層７２ａおよび７２ｇを有した層
構成のセラミック多層基板をも実現できる。なお、セラ
ミック多層基板２０において、ガラス・セラミック層７
１ａ〜７１ｆの厚み、材料等が同一の場合は、上下表層
の無機組成物層７２ａおよび７２ｇの厚みは、他の無機
組成物層７２ｂ〜７２ｆの厚みに対して半分程度である
ことが望ましい。
【００７４】第５の実施例 本実施例は、図１７に示すように、ビアホール８３ａ、
８３ｂ、８３ｃ・・・および導体パターン８４ａ、８４
ｂ、８４ｃ・・・を備えたガラス・セラミックグリーン
シート８１ａ、８１ｂ、８１ｃ・・・と、前記無機組成
物を主成分とするセラミックグリーンシート８２ａ、８
２ｂ・・・とを交互に積層し、これをガラス・セラミッ
クグリーンシートの焼成条件で焼成することによって、
セラミック多層基板を製造するものである。
【００７５】ここで、無機組成物を主成分とするセラミ
ックグリーンシート８２ａ、８２ｂ・・・には、貫通孔
８５ａ、８５ｂ・・・がそれぞれ形成されているが、こ
れらの貫通孔には導体材料は充填されていない。すなわ
ち、セラミックグリーンシート８２ａ、８２ｂ・・・の
厚みは１〜２０μｍ、さらには１〜１０μｍと、ガラス
・セラミックグリーンシート８１ａ、８１ｂ、８１ｃ・
・・に比べて極めて薄いので、圧着時あるいは焼成時
に、ガラス・セラミックグリーンシート８１ａ、８１
ｂ、８１ｃ・・・に形成したビアホール８３ａ、８３
ｂ、８３ｃ・・・が貫通孔８５ａ、８５ｂ・・・に入り
込み、各ガラス・セラミックグリーンシート上の導体パ
ターン同士を接続することになる。
【００７６】次に、上記各実施例にかかるセラミック多
層基板の製造方法に関する実験結果を説明する。
【００７７】表１に、第１の実験結果を示す。この実験
は、無機組成物層の厚み寸法により、焼成時の積層体の
平面方向の熱収縮率がどのように異なるかを調べたもの
である。なお、この実験においては、ガラス・セラミッ
クグリーンシートおよび無機組成物層の組成ならびに層
構成は、上述の第1の実施例で説明したとおりであり、
ガラス・セラミックグリーンシートの焼成温度は１００
０℃、セラミックグリーンシートの焼成温度は１５００
℃である。また、ガラス・セラミックグリーンシートの
厚み寸法を１００μｍ、層数を１０層とし、熱収縮率を
下記（１）式により算出した。 熱収縮率＝（焼成後の積層体の底面の縦寸法または横寸法）／（焼成前の 積層体の底面の縦寸法または横寸法）×１００（％） …（１）
【００７８】
【表１】
【００７９】この実験結果から、無機組成物層（または
無機組成物を主成分とするセラミックグリーンシート）
の厚み寸法は、１乃至２０μｍの範囲に設定することが
望ましいと言える。
【００８０】また、表２に、第２の実験結果を示す。こ
の実験は、ガラス・セラミックグリーンシート焼成時の
積層体の平面方向の熱収縮率が、焼成温度で、どのよう
に異なるかを調べたものである。なお、この実験におい
て、ガラス・セラミックグリーンシートとして、焼成温
度が１０００℃のものを用い、上記（１）式で熱収縮率
を算出した。
【００８１】
【表２】
【００８２】表２から読み取れるように、焼成温度１０
００℃のガラス・セラミックグリーンシートに対して、
温度が９００℃以上になると、熱収縮率が急激に低下す
る。ここで、ガラス・セラミックグリーンシートの熱収
縮は、焼成温度１０００℃の約１００℃近傍、すなわ
ち、９００℃付近から、急激に進行する。そこで、この
９００℃から１０００℃の間に、セラミックグリーンシ
ートが熱収縮しなければ、ガラス・セラミックグリーン
シートの平面方向の熱収縮が抑制されることとなる。こ
のことから、ガラス・セラミックグリーンシートと無機
組成物層（または無機組成物を主成分とするセラミック
グリーンシート）の焼成温度の差は、少なくとも１００
℃以上あれば、本発明の目的を達成できると言える。
【００８３】なお、上記各実施例においては、ガラス・
セラミックグリーンシートに、無機組成物（セラミック
グリーンシート）を重ね合わせたものを積層し、ガラス
・セラミックグリーンシートと無機組成物とを交互に配
置して積層体の全体を構成する場合について説明した
が、積層体の一部について、無機組成物を介さず、ガラ
ス・セラミックグリーンシートのみを積層して構成して
もよい。つまりは、セラミック多層基板の平面方向への
収縮を抑制し、かつ、その反りや歪みを低減するような
層構成にすることが重要である。
【００８４】また、第１の実施例、第２の実施例におい
ては、ガラス・セラミックグリーンシートの表面および
裏面にペースト（スラリー）を塗布し、乾燥させ、無機
組成物層を形成する場合について説明したが、それぞれ
別個に形成し、ガラス・セラミックグリーンシートおよ
び無機組成物を主成分とするセラミックグリーンシート
を積層して積層体を形成してもよい。
【００８５】また、上記各実施例においては、積層体を
構成する各層に導体パターンおよびビアホールを形成す
る場合について説明したが、積層体の一部に、導体パタ
ーンおよびビアホールのない層を設けてもよい。
【００８６】また、上記各実施例においては、積層体に
形成するビアホールに導体を充填する場合について説明
したが、ビアホールの内周面にのみ導体材料を設けても
よい。また、上記第３の実施例に示す積層体に、上記第
２の実施例に示す要領で、キャビティを形成してもよ
い。
【００８７】
【発明の効果】本発明にかかるセラミック多層基板の製
造方法によれば、ガラス・セラミックグリーンシート
と、このガラス・セラミックグリーンシートより焼成温
度が高い無機組成物とを交互に配置して積層体を形成
し、焼成するものであり、この無機組成物により、積層
体の最下層および最上層のみならず、内部の層を構成す
るガラス・セラミックグリーンシートに対して、平面方
向の熱収縮が抑制される。したがって、積層体の焼成時
の変形、特に、積層体の側面が内部に向かって窪むよう
に変形する恐れがない。これにより、クラックの発生、
および、ガラス・セラミックグリーンシートの剥離が防
止され、高精度のセラミック多層基板の製造が可能とな
る。
【００８８】また、積層体の最下層、または、最下層お
よび最上層をガラス・セラミックグリーンシートで構成
することにより、積層体の焼成後、焼結したガラス・セ
ラミックをセラミック多層基板の実装面とすることがで
きる。したがって、未焼結の無機組成物からなる面を実
装面とする場合に比べて、実装面が安定し、セラミック
多層基板を確実に実装することができる。
【００８９】また、積層体の最下層または最上層、もし
くはその双方を構成するガラス・セラミックグリーンシ
ートを、積層体の他の層を構成するガラス・セラミック
グリーンシートより、小さい厚み寸法とすることによ
り、各層の熱収縮による変化量を同等のものとすること
ができ、ガラス・セラミックグリーンシート同士の間
で、剥離およびクラックの発生を防ぐことができる。
【００９０】また、積層体に形成したキャビティの底面
に、ガラス・セラミックグリーンシートより焼成温度の
高い無機組成物を露出させるものであるため、キャビテ
ィを形成した後で、キャビティの底面に無機組成物を設
ける必要がなく、容易に、キャビティの底面を焼成時の
熱収縮から保護することができる。
【００９１】また、積層体の内部に、ガラス・セラミッ
クグリーンシートより焼成温度の高い無機組成物を配置
するものであるため、振動、衝撃および熱衝撃に対し
て、未焼結の無機組成物が緩衝材となり、積層体に致命
的なクラックまたは割れが発生しない。
【００９２】また、積層体を構成するガラス・セラミッ
クグリーンシートと、焼成時の熱収縮を抑制する無機組
成物とは、互いに焼成温度が異なるため、積層体全体の
コファイアが可能であり、製造工程の簡略化および製造
コストの低減を実現することができる。
【００９３】また、熱収縮を抑制する無機組成物の材料
として、ガラスを含有しないものを用いる場合には、積
層体の焼成時に、ガラス・セラミックグリーンシートの
塑性流動により、内部電極を構成する導体が拡散した場
合にも、熱収縮を抑制する無機組成物により、この拡散
が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例において、キャリアフィ
ルム１上にガラス・セラミックグリーンシート２ｃを形
成したときの概略断面図である。
【図２】同、無機組成物層３ｃを形成したときの概略断
面図である。
【図３】同、ビアホール４ｃを形成したときの概略断面
図である。
【図４】同、導体パターン５ｃを形成したときの概略断
面図である。
【図５】同、各ガラス・セラミックグリーンシートを積
層する際の概略断面図である。
【図６】同、積層圧着体１０の概略断面図である。
【図７】同、積層圧着体を焼成した後の焼結体（セラミ
ック多層基板）の概略断面図である。
【図８】本発明によるセラミック多層モジュール２０の
概略断面図である。
【図９】本発明の第２の実施例によるキャビティ３６付
きセラミック多層基板４０の概略断面図である。
【図１０】本発明の第３の実施例において、キャリアフ
ィルム５１上に無機組成物層５２ｃを形成したときの概
略断面図である。
【図１１】同、ガラス・セラミック層５３ｃを形成した
ときの概略断面図である。
【図１２】同、ビアホール５４ｃを形成したときの概略
断面図である。
【図１３】同、導体パターン５５ｃを形成したときの概
略断面図である。
【図１４】同、ガラス・セラミック層を積層する際の概
略断面図である。
【図１５】同、積層圧着体６０の概略断面図である。
【図１６】本発明の第４の実施例によるセラミック多層
基板７０の概略断面図である。
【図１７】本発明の第５の実施例によるセラミック多層
基板の製造一過程を示す概略断面図である。
【図１８】従来のセラミック多層基板の製造方法により
形成された積層体を示す断面図である。
【図１９】図１８の積層体が変形した状態を示す断面図
である。
【符号の説明】
１…キャリアフィルム ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ、２ｅ…ガラス・セラミックグ
リーンシート ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ…無機組成物層 ４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ…ビアホール ５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、７、８…導体パターン １０…積層圧着体 １１…セラミック多層基板（焼成後）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊野 篤 京都府長岡京市天神二丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 Ｆターム(参考） 4G055 AA08 AC01 AC09 BA22 5E346 AA43 CC04 CC16 EE29 FF18 GG09 GG15 GG28 HH31

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 有機バインダおよび可塑剤を含むガラス
    ・セラミックからなるガラス・セラミックグリーンシー
    トを複数枚積層して積層体を形成し、該積層体を焼成す
    るセラミック多層基板の製造方法において、 前記ガラス・セラミックグリーンシートに対して、当該
    ガラス・セラミックグリーンシートより焼成温度が高い
    無機組成物を表面に塗布または重ね合わせる工程と、 前記無機組成物を表面に塗布または重ね合わせたガラス
    ・セラミックグリーンシートを複数枚積層し、前記積層
    体の一部を形成する工程と、 前記ガラス・セラミックグリーンシートを複数枚積層
    し、前記積層体の他部を形成する工程とを有することを
    特徴とするセラミック多層基板の製造方法。
  2. 【請求項２】 前記ガラス・セラミックグリーンシート
    のうちの１枚を、他の前記ガラス・セラミックグリーン
    シートより、厚み寸法が小さくなるように形成する工程
    と、 前記厚み寸法の小さいガラス・セラミックグリーンシー
    トの表面に、前記無機組成物を塗布または重ね合わせる
    工程と、 前記厚み寸法の小さいガラス・セラミックグリーンシー
    トを、前記積層体の最下層として配置する工程と、 前記無機組成物を表面に塗布または重ね合わせたガラス
    ・セラミックグリーンシートを複数枚積層し、前記積層
    体の最下層近傍部分から最上層までの一部または全部を
    形成する工程とを有することを特徴とする請求項１に記
    載のセラミック多層基板の製造方法。
  3. 【請求項３】 前記無機組成物を表面に設けた前記ガラ
    ス・セラミックグリーンシートを複数枚積層し、前記積
    層体の最下層から最上層近傍部分までの一部または全部
    を形成する工程と、 前記ガラス・セラミックグリーンシートを、前記積層体
    の最上層として積層する工程とを有することを特徴とす
    る請求項１に記載のセラミック多層基板の製造方法。
  4. 【請求項４】 前記積層体の最下層および最上層を構成
    するガラス・セラミックグリーンシートを、前記積層体
    の他の層を構成するガラス・セラミックグリーンシート
    より、厚み寸法が小さくなるように形成する工程を有す
    ることを特徴とする請求項３に記載のセラミック多層基
    板の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記積層体の最上層およびその近傍に配
    置する複数の前記ガラス・セラミックグリーンシートに
    対して、該ガラス・セラミックグリーンシートに塗布ま
    たは重ね合わせた無機組成物とともに、前記ガラス・セ
    ラミックグリーンシートを貫通する開口部を形成する工
    程と、 前記開口部を形成した複数のガラス・セラミックグリー
    ンシートを積層し、前記複数のガラス・セラミックグリ
    ーンシートの前記開口部が連続してなるキャビティを有
    する前記積層体を形成する工程とを有することを特徴と
    する請求項１乃至４のいずれかに記載のセラミック多層
    基板の製造方法。
  6. 【請求項６】 前記ガラス・セラミックグリーンシート
    に塗布または重ね合わせる無機組成物が、アルミナを主
    成分とすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか
    に記載のセラミック多層基板の製造方法。
  7. 【請求項７】 前記ガラス・セラミックグリーンシート
    に塗布または重ね合わせる無機組成物の厚み寸法が、１
    乃至２０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１乃
    至６のいずれかに記載のセラミック多層基板の製造方
    法。
  8. 【請求項８】 前記ガラス・セラミックグリーンシート
    の焼成温度と、前記ガラス・セラミックグリーンシート
    に塗布または重ね合わせる無機組成物の焼成温度との差
    が、１００℃以上であることを特徴とする請求項１乃至
    ７のいずれかに記載のセラミック多層基板の製造方法。
  9. 【請求項９】 キャリアフィルム上にガラス・セラミッ
    クグリーンシートを形成した後、当該ガラス・セラミッ
    クグリーンシート上に前記無機組成物を塗布または重ね
    合わせて無機組成物層を形成する工程と、 前記キャリアフィルム、前記ガラス・セラミックグリー
    ンシートおよび前記無機組成物層をそれぞれ貫通する貫
    通孔を設けた後、当該貫通孔に導体材料を充填してビア
    ホールを形成し、さらに前記無機組成物層上に所定の導
    体パターンを形成する工程と、 前記ビアホール、前記導体パターンを備えたガラス・セ
    ラミックグリーンシートを前記無機組成物層と共に、前
    記キャリアフィルムから剥がし、これを順次積層する工
    程と、を有することを特徴とする請求項１乃至８のいず
    れかに記載のセラミック多層基板の製造方法。
  10. 【請求項１０】 キャリアフィルム上に前記無機組成物
    を塗布または重ね合わせて無機組成物層を形成した後、
    当該無機組成物層上にガラス・セラミックグリーンシー
    トを形成する工程と、 前記キャリアフィルム、前記無機組成物層および前記ガ
    ラス・セラミックグリーンシートをそれぞれ貫通する貫
    通孔を設けた後、当該貫通孔に導体材料を充填してビア
    ホールを形成し、さらに前記ガラス・セラミックグリー
    ンシート上に所定の導体パターンを形成する工程と、 前記ビアホール、前記導体パターンを備えたガラス・セ
    ラミックグリーンシートを前記無機組成物層と共に、前
    記キャリアフィルムから剥がし、これを順次積層する工
    程と、を有することを特徴とする請求項１乃至８のいず
    れかに記載のセラミック多層基板の製造方法。
  11. 【請求項１１】 ビアホールおよび導体パターンを形成
    したガラス・セラミックグリーンシートと、導体材料が
    充填されておらず、当該ビアホールに対応する貫通孔を
    形成した前記無機組成物を主成分とするグリーンシート
    とを積層し、これを前記積層体の一部とすることを特徴
    とする、請求項１乃至１０のいずれかに記載のセラミッ
    ク多層基板の製造方法。
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