JP2000231347A5 - - Google Patents

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【特許請求の範囲】
【請求項1】 陽極と陰極との間に発光層を有するエレクトロルミネッセンス素子と、ドレインがドレイン信号線に接続され、ゲートがゲート信号線にそれぞれ接続された第1の薄膜トランジスタと、非単結晶半導体膜からなる能動層のドレインが前記エレクトロルミネッセンス素子の駆動電源に接続され、ゲートが前記第1の薄膜トランジスタのソースに接続された第2の薄膜トランジスタとを備えたエレクトロルミネッセンス表示装置であって、直流電圧が印加された共通電極に接続された第1の保持容量電極と前記第1の薄膜トランジスタのソースに接続された第2の保持容量電極との間で容量を成す第1の保持容量と、前記駆動電源に接続された第3の保持容量電極と前記第2の保持容量電極との間で容量を成す第2の保持容量とを備えたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項2】 前記第3の保持容量電極は前記駆動電源に接続された駆動電源線の一部から成ることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロルミネッセンス表示装置。
続いて、ゲート絶縁膜112、及び多結晶シリコン(Poly-Silicon、以下、「p−Si」と称する。)膜からなる能動層131を順に形成し、その能動層131には、いわゆるLDD(Lightly Doped Drain)構造が設けられている。即ち、ゲート132の両側に低
濃度領域131LDとその外側に高濃度領域のソース131s及びドレイン131dが設けられている。
そして、ゲート絶縁膜112、能動層131及びストッパ絶縁膜114上の全面には、SiO2膜、SiN膜及びSiO2膜の順に積層された層間絶縁膜115を設け、ドレイン131dに対応して設けたコンタクトホールにAl等の金属を充填してドレイン電極116を設ける。更に全面に例えば有機樹脂から成り表面を平坦にする平坦化絶縁膜117を設ける。
【0020】
【課題を解決するための手段】
本発明のEL表示装置は、陽極と陰極との間に発光層を有するエレクトロルミネッセンス素子と、ドレインがドレイン信号線に接続され、ゲートがゲート信号線にそれぞれ接続された第1の薄膜トランジスタと、非単結晶半導体膜からなる能動層のドレインが前記エレクトロルミネッセンス素子の駆動電源に接続され、ゲートが前記第1の薄膜トランジスタのソースに接続された第2の薄膜トランジスタとを備えたエレクトロルミネッセンス表示装置であって、直流電圧が印加された共通電極に接続された第1の保持容量電極と前記第1の薄膜トランジスタのソースに接続された第2の保持容量電極との間で容量を成す第1の保持容量と、前記駆動電源に接続された第3の保持容量電極と前記第2の保持容量電極との間で容量を成す第2の保持容量とを備えたものである。
なお、本実施の形態においては、第1及び第2のTFT30,40ともに、ゲート電極を能動層13の下方に設けたいわゆるボトムゲート型のTFTを採用した場合であり、能動層としてp−Si膜を用いた場合を示す。またゲート電極32,42がダブルゲート構造であるTFTの場合を示す。
図1及び図2に示すように、ゲート信号線51とドレイン信号線52とに囲まれた領域に表示画素が形成されている。両信号線の交点付近には第1のTFT30が備えられており、そのTFT30のソース31sは保持容量電極54との間で容量をなす容量電極55を兼ねるとともに、第2のTFT40のゲート42に接続されている。第2のTFTのソース41sは有機EL素子60の陽極61に接続され、他方のドレイン41dは有機EL素子を駆動する駆動電源線53に接続されている。
また、TFTの付近には、ゲート信号線51と並行に第1の保持容量電極54が配置されている。この第1の容量電極54はクロム等から成っており、ゲート絶縁膜12を介して第1のTFT30のソース31sと接続され多結晶シリコン膜から成る第2の保持容量電極55との間で電荷を蓄積して容量を成している。この第1及び第2の保持容量電極からなる容量が第1の保持容量70である。
また、上述の実施の形態においては、ゲート電極32,42がダブルゲート構造の場合について説明したが、本願発明はそれに限定されるものではなく、シングルゲートあるいは3つ以上のマルチゲート構造を有していても本願と同様の効果を奏することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】
本発明のEL表示装置の実施の形態を示す平面図である。
【図2】
本発明のEL表示装置の実施の形態を示す断面図である。
【図3】
本発明のEL表示装置の等価回路図である。
【図4】
従来のEL表示装置の平面図である。
【図5】
従来のEL表示装置の等価回路図である。
【図6】
従来のEL表示装置の断面図である。
【符号の説明】
30 第1のTFT
31s、41s ソース
31d、41d ドレイン
31c、41c チャネル
31LD LDD領域
32、42 ゲート
40 第2のTFT
50 駆動電源
54 第1の保持容量電極
55 第2の保持容量電極
60 有機EL素子
70 第1の保持容量
80 第2の保持容量
90 第3の保持容量電極

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Families Citing this family (51)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2284605A3 (en) 1999-02-23 2017-10-18 Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. Semiconductor device and fabrication method thereof
JP4472073B2 (ja) 1999-09-03 2010-06-02 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置及びその作製方法
JP2001282137A (ja) * 2000-03-30 2001-10-12 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置
US8610645B2 (en) 2000-05-12 2013-12-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
TW554637B (en) * 2000-05-12 2003-09-21 Semiconductor Energy Lab Display device and light emitting device
JP2002093586A (ja) * 2000-09-19 2002-03-29 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置およびその作製方法
US6956324B2 (en) 2000-08-04 2005-10-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method therefor
JP4556957B2 (ja) * 2000-10-12 2010-10-06 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
JP2002182203A (ja) * 2000-12-12 2002-06-26 Nec Corp 表示装置、その表示方法、およびその製造方法
KR100776509B1 (ko) * 2000-12-30 2007-11-16 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
US6825496B2 (en) 2001-01-17 2004-11-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
JP4137454B2 (ja) * 2001-01-17 2008-08-20 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置、電子機器及び発光装置の作製方法
JP2002244617A (ja) * 2001-02-15 2002-08-30 Sanyo Electric Co Ltd 有機el画素回路
JP3810725B2 (ja) 2001-09-21 2006-08-16 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置及び電子機器
KR100763171B1 (ko) * 2001-11-07 2007-10-08 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액티브 매트릭스 유기전계발광소자 및 그 제조방법
CN1209662C (zh) 2001-12-17 2005-07-06 精工爱普生株式会社 显示装置及电子机器
JP4265210B2 (ja) * 2001-12-17 2009-05-20 セイコーエプソン株式会社 有機el装置及び電子機器
GB0130601D0 (en) * 2001-12-21 2002-02-06 Koninkl Philips Electronics Nv Active matrix display device
KR100892945B1 (ko) * 2002-02-22 2009-04-09 삼성전자주식회사 액티브 매트릭스형 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법
KR100461467B1 (ko) * 2002-03-13 2004-12-13 엘지.필립스 엘시디 주식회사 능동행렬 유기전기발광소자
JP4027149B2 (ja) 2002-04-30 2007-12-26 三洋電機株式会社 エレクトロルミネッセンス表示装置
KR100894651B1 (ko) * 2002-07-08 2009-04-24 엘지디스플레이 주식회사 액티브 매트릭스형 유기 전계발광 표시패널 및 그의제조방법
US6919681B2 (en) * 2003-04-30 2005-07-19 Eastman Kodak Company Color OLED display with improved power efficiency
GB0313041D0 (en) * 2003-06-06 2003-07-09 Koninkl Philips Electronics Nv Display device having current-driven pixels
US7557779B2 (en) 2003-06-13 2009-07-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
KR101115295B1 (ko) * 2003-07-08 2012-03-13 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치 및 그 구동방법
JP3965583B2 (ja) * 2003-09-01 2007-08-29 カシオ計算機株式会社 表示画素及び表示装置
TWI269448B (en) * 2004-08-11 2006-12-21 Sanyo Electric Co Semiconductor element matrix array, method for manufacturing the same, and display device
JP4186961B2 (ja) * 2004-10-26 2008-11-26 セイコーエプソン株式会社 自発光装置、その駆動方法、画素回路および電子機器
KR20060044032A (ko) 2004-11-11 2006-05-16 삼성전자주식회사 표시패널용 검사 장치 및 이의 검사 방법
CN102738180B (zh) 2004-12-06 2018-12-21 株式会社半导体能源研究所 显示装置
JP4580775B2 (ja) * 2005-02-14 2010-11-17 株式会社 日立ディスプレイズ 表示装置及びその駆動方法
US7341893B2 (en) * 2005-06-02 2008-03-11 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Structure and method for thin film device
US7994509B2 (en) * 2005-11-01 2011-08-09 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Structure and method for thin film device with stranded conductor
TWI429327B (zh) 2005-06-30 2014-03-01 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置、顯示裝置、及電子設備
EP1917656B1 (en) * 2005-07-29 2016-08-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and driving method thereof
KR101324756B1 (ko) 2005-10-18 2013-11-05 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치 및 그의 구동방법
KR20070059403A (ko) * 2005-12-06 2007-06-12 삼성전자주식회사 표시 장치 및 그 구동 방법
JP5251034B2 (ja) * 2007-08-15 2013-07-31 ソニー株式会社 表示装置および電子機器
US7977678B2 (en) 2007-12-21 2011-07-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor display device
JP5536349B2 (ja) * 2009-01-30 2014-07-02 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 画像表示装置
TWI407410B (zh) 2009-04-29 2013-09-01 Innolux Corp 影像顯示系統
CN101887906B (zh) * 2009-05-13 2014-06-11 群创光电股份有限公司 影像显示系统
CN103943664B (zh) * 2009-05-13 2017-07-28 群创光电股份有限公司 影像显示系统
TWI480998B (zh) * 2012-05-24 2015-04-11 Au Optronics Corp 有機發光畫素的結構、製作方法以及驅動電路
KR101975957B1 (ko) 2012-10-04 2019-05-08 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
JP6082563B2 (ja) * 2012-10-15 2017-02-15 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
KR101968666B1 (ko) * 2014-09-01 2019-04-15 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
US9941489B2 (en) 2014-09-01 2018-04-10 Samsung Display Co., Ltd. Organic light emitting diode display device and manufacturing method thereof
JP5975120B2 (ja) * 2015-01-19 2016-08-23 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および電子機器
KR102500271B1 (ko) * 2015-08-19 2023-02-16 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0695186B2 (ja) * 1986-03-05 1994-11-24 松下電器産業株式会社 薄膜トランジスタアレイ
JPH0471194A (ja) * 1990-07-10 1992-03-05 Fuji Xerox Co Ltd Tft駆動elディスプレイ及びその製造方法
JPH05303116A (ja) * 1992-02-28 1993-11-16 Canon Inc 半導体装置
JPH0772506A (ja) * 1993-06-14 1995-03-17 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタパネル
JP3399048B2 (ja) * 1993-10-22 2003-04-21 三菱化学株式会社 有機電界発光パネル
US6104041A (en) * 1994-08-24 2000-08-15 Sarnoff Corporation Switching circuitry layout for an active matrix electroluminescent display pixel with each pixel provided with the transistors
US5684365A (en) * 1994-12-14 1997-11-04 Eastman Kodak Company TFT-el display panel using organic electroluminescent media
JP3096394B2 (ja) * 1994-12-27 2000-10-10 シャープ株式会社 表示装置
JPH0981053A (ja) * 1995-09-07 1997-03-28 Casio Comput Co Ltd 電界発光素子及びその駆動方法
JPH09114398A (ja) * 1995-10-24 1997-05-02 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機elディスプレイ
JP3530362B2 (ja) * 1996-12-19 2004-05-24 三洋電機株式会社 自発光型画像表示装置
JPH10319872A (ja) * 1997-01-17 1998-12-04 Xerox Corp アクティブマトリクス有機発光ダイオード表示装置
KR100226494B1 (ko) * 1997-02-20 1999-10-15 김영환 액정표시장치 및 그 제조방법
JP3492153B2 (ja) * 1997-06-25 2004-02-03 キヤノン株式会社 エレクトロ・ルミネセンス素子及び装置、並びにその製造法
JP3520396B2 (ja) * 1997-07-02 2004-04-19 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリクス基板と表示装置
US5895936A (en) * 1997-07-09 1999-04-20 Direct Radiography Co. Image capture device using a secondary electrode
JP3702096B2 (ja) * 1998-06-08 2005-10-05 三洋電機株式会社 薄膜トランジスタ及び表示装置
TW439387B (en) * 1998-12-01 2001-06-07 Sanyo Electric Co Display device

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