JP2001051622A5 - - Google Patents
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- 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有することを特徴とする表示装置。 - 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第1のトランジスタはnチャネル型トランジスタであり、前記第2のトランジスタはpチャネル型トランジスタであることを特徴とする表示装置。 - 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第1のトランジスタの複数の前記チャネル形成領域の間には、それぞれ高濃度不純 物領域が設けられていることを特徴とする表示装置。 - 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第1のトランジスタの複数の前記チャネル形成領域の間には、それぞれ高濃度不純物領域と前記第1のトランジスタの前記不純物を含む領域とが設けられていることを特徴とする表示装置。 - 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタの前記チャネル形成領域のチャネル幅は、前記第1のトランジスタの前記チャネル形成領域のチャネル幅よりも大きいことを特徴とする表示装置。 - 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソー ス領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極及び前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極は積層膜でなることを特徴とする表示装置。 - 第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、エレクトロルミネッセンス素子、及び保持容量を同一画素内に有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記保持容量の電極の一方は、前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の前記一方及び前記第2のトランジスタの前記ゲート電極に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有することを特徴とする表示装置。 - 画素がマトリクス状に複数配列された画素部と、前記画素部を駆動する駆動回路部とを有し、
前記画素は、同一画素内に第1のトランジスタ、第2のトランジスタ、及びエレクトロルミネッセンス素子を有し、
前記第1のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記第2のトランジスタのゲート電極に接続され、
前記第2のトランジスタのソース領域又はドレイン領域の一方は、前記エレクトロルミネッセンス素子に接続され、
前記第1のトランジスタのゲート電極と前記第2のトランジスタの前記ゲート電極はそれぞれ複数あり、
前記第1のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重ならず、かつ前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記第2のトランジスタは、直列に接続された複数のチャネル形成領域と、前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極に重なり、かつ前記第2のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の濃度よりも低い濃度で不純物を含む領域を有し、
前記画素部と前記駆動回路部は、同一基板上に形成されていることを特徴とする表示装置。 - 前記第1のトランジスタの複数の前記チャネル形成領域の間には、それぞれ高濃度不純物領域が設けられていることを特徴とする請求項2の表示装置。
- 前記第1のトランジスタの複数の前記チャネル形成領域の間には、それぞれ高濃度不純物領域と、前記第1のトランジスタの前記不純物を含む領域とが設けられていることを特徴とする請求項2の表示装置。
- 請求項2乃至請求項4のいずれか一項において、
前記第2のトランジスタの前記チャネル形成領域のチャネル幅は、前記第1のトランジ スタの前記チャネル形成領域のチャネル幅よりも大きいことを特徴とする表示装置。 - 請求項2乃至請求項5のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極及び前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極は積層膜でなることを特徴とする表示装置。 - 請求項2乃至請求項6、請求項8のいずれか一項において、
前記同一画素内に保持容量を有し、
前記保持容量の電極の一方は、前記第1のトランジスタの前記ソース領域又はドレイン領域の前記一方及び前記第2トランジスタの前記ゲート電極に接続されていることを特徴とする表示装置。 - 前記保持容量は、前記第1のトランジスタおよび前記第2のトランジスタのゲート絶縁膜を有し、
前記保持容量の電極の前記一方は不純物を含む半導体層であり、前記保持容量の電極の他方は前記第1のトランジスタの前記ゲート電極及び前記第2のトランジスタの前記ゲート電極と同じ材料を含むことを特徴とする請求項7又は請求項13の表示装置。 - 請求項1乃至請求項14のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタの複数の前記ゲート電極及び前記第2のトランジスタの複数の前記ゲート電極は、タンタル、チタン、モリブデン、タングステン、クロム、窒化タンタル、窒化タングステン又は窒化チタンを含むことを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項15のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタの前記チャネル形成領域はチャネル長が0.2〜18μm、チャネル幅が0.1〜5μmであり、前記第2のトランジスタの前記チャネル形成領域はチャネル長が0.1〜50μm、チャネル幅が0.5〜30μmであることを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項16のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタのチャネル長をL1、チャネル幅をW1とし、前記第2のトランジスタのチャネル長をL2、チャネル幅をW2としたとき、
W2/L2≧5×W1/L1であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項17のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタは、トップゲート型トランジスタであることを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項17のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタは、ボトムゲート型トランジスタであることを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項19のいずれか一項において、
前記第1のトランジスタはスイッチング用トランジスタであり、前記第2のトランジスタは電流制御用トランジスタであることを特徴とする表示装置。
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