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JP7509548B2
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TWI842826B
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KR102809999B1
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USD947913S1
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KR20200141003A
(ko)
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2019-06-06 |
2020-12-17 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템
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|
KR20200141931A
(ko)
|
2019-06-10 |
2020-12-21 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
석영 에피택셜 챔버를 세정하는 방법
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KR20200143254A
(ko)
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2019-06-11 |
2020-12-23 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조
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USD944946S1
(en)
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2019-06-14 |
2022-03-01 |
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KR20210005515A
(ko)
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2019-07-03 |
2021-01-14 |
에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법
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JP7499079B2
(ja)
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2019-07-09 |
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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー |
同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法
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CN112216646A
(zh)
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2019-07-10 |
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Asm Ip私人控股有限公司 |
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KR20210132605A
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KR102795476B1
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KR20210145079A
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KR102702526B1
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KR20210146802A
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TWI876048B
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TW202212620A
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KR20210156219A
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TWI873359B
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TW202202649A
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2020-07-08 |
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KR20220011092A
(ko)
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荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成
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荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 |
前驅物膠囊、前驅物容器、氣相沉積總成、及將固態前驅物裝載至前驅物容器中之方法
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