ES2240171T3 - Dispersion de sio2 cargada en alto grado, procedimiento para su prepa racion y utilizacion. - Google Patents
Dispersion de sio2 cargada en alto grado, procedimiento para su prepa racion y utilizacion.Info
- Publication number
- ES2240171T3 ES2240171T3 ES00965941T ES00965941T ES2240171T3 ES 2240171 T3 ES2240171 T3 ES 2240171T3 ES 00965941 T ES00965941 T ES 00965941T ES 00965941 T ES00965941 T ES 00965941T ES 2240171 T3 ES2240171 T3 ES 2240171T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- sio2
- particles
- amorphous
- dispersion
- molded body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 88
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 59
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 33
- 229910021486 amorphous silicon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000007970 homogeneous dispersion Substances 0.000 claims abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 147
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 70
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 66
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 9
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 9
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 9
- 230000004927 fusion Effects 0.000 claims description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000002459 porosimetry Methods 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000000916 dilatatory effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 12
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 7
- 229910017840 NH 3 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Inorganic materials [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 4
- 229910002020 Aerosil® OX 50 Inorganic materials 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 230000001698 pyrogenic effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 125000005624 silicic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000352 supercritical drying Methods 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009750 centrifugal casting Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005337 ground glass Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000001513 hot isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002510 pyrogen Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/14—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
- C04B35/62605—Treating the starting powders individually or as mixtures
- C04B35/62625—Wet mixtures
- C04B35/6263—Wet mixtures characterised by their solids loadings, i.e. the percentage of solids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B38/00—Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof
- C04B38/0051—Porous mortars, concrete, artificial stone or ceramic ware; Preparation thereof characterised by the pore size, pore shape or kind of porosity
- C04B38/0064—Multimodal pore size distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/34—Non-metal oxides, non-metal mixed oxides, or salts thereof that form the non-metal oxides upon heating, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3418—Silicon oxide, silicic acids or oxide forming salts thereof, e.g. silica sol, fused silica, silica fume, cristobalite, quartz or flint
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/52—Constituents or additives characterised by their shapes
- C04B2235/528—Spheres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5409—Particle size related information expressed by specific surface values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5436—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5445—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof submicron sized, i.e. from 0,1 to 1 micron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5418—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
- C04B2235/5454—Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof nanometer sized, i.e. below 100 nm
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/50—Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
- C04B2235/54—Particle size related information
- C04B2235/5463—Particle size distributions
- C04B2235/5472—Bimodal, multi-modal or multi-fraction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/60—Aspects relating to the preparation, properties or mechanical treatment of green bodies or pre-forms
- C04B2235/608—Green bodies or pre-forms with well-defined density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/656—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes characterised by specific heating conditions during heat treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/65—Aspects relating to heat treatments of ceramic bodies such as green ceramics or pre-sintered ceramics, e.g. burning, sintering or melting processes
- C04B2235/658—Atmosphere during thermal treatment
- C04B2235/6581—Total pressure below 1 atmosphere, e.g. vacuum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/72—Products characterised by the absence or the low content of specific components, e.g. alkali metal free alumina ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/74—Physical characteristics
- C04B2235/77—Density
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
- C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
Dispersión homogénea muy bien apta para la colada de partículas amorfas de SiO2 en un agente dispersante, estando caracterizada la dispersión porque tiene un grado de carga de por lo menos 80 % en peso de partículas amorfas de SiO2, y las partículas amorfas de SiO2 tienen una distribución bimodal de tamaños de poros, que está formada por partículas amorfas redondas de SiO2 de mayor tamaño y partículas amorfas redondas de SiO2 de menor tamaño, y como agente dispersante está presente agua, que tiene una resistencia eléctrica de = 18 MegaOhm*cm.
Description
Dispersión de SiO_{2} cargada en alto grado,
procedimiento para su preparación y su utilización.
El invento se refiere a dispersiones de SiO_{2}
cargadas en alto grado, a procedimientos para su preparación, así
como a procedimientos para producir a partir de la dispersión unos
cuerpos moldeados amorfos y porosos de SiO_{2} con unos grados de
carga extremadamente altos, a estos cuerpos moldeados y a su
producción.
Se usan en muchos sectores técnicos cuerpos
moldeados amorfos y porosos de SiO_{2}. Como ejemplos se han de
mencionar materiales de filtración, materiales para aislamiento del
calor, o escudos térmicos.
Además, a partir de cuerpos moldeados amorfos y
porosos de SiO_{2} se producen, mediante sinterización y/o
fusión, artículos de cuarzo de todo tipo. En tal caso, unos cuerpos
moldeados porosos y muy puros de SiO_{2} pueden servir en este
contexto p.ej. como "preforma o molde previo" para fibras de
vidrio o fibras conductoras de luz. Además de esto, por esta vía se
pueden producir también crisoles para el estiramiento de
monocristales de silicio.
Independientemente de la utilización de los
cuerpos moldeados porosos, se están haciendo continuamente
esfuerzos para producir un cuerpo moldeado que se aproxime lo más
que sea posible al contorno definitivo. Esto quiere decir que en el
transcurso de la producción del cuerpo moldeado puede aparecer desde
solamente poca hasta absolutamente ninguna contracción.
Se pueden producir cuerpos moldeados porosos de
SiO_{2},en principio, mediante prensado de correspondientes
polvos de SiO_{2} o por medio de un proceso químico en
húmedo.
En el caso de los procedimientos conocidos a
partir de la industria cerámica para el prensado de polvos, p.ej.
procedimientos de prensado isostático en frío o en caliente, se
deben añadir por regla general agentes aglutinantes de naturaleza
orgánica, con el fin de obtener un cuerpo en bruto estable. Estos
agentes aglutinantes deben ser de nuevo separados por disolución o
quemados en una etapa posterior. Esto es técnicamente costoso, caro
y conduce a impurezas indeseadas, que hay que evitar
indispensablemente, en particular en el caso de la producción de
crisoles para el estiramiento de monocristales de silicio.
La vía preferida para la producción de cuerpos
moldeados porosos de SiO_{2} es por lo tanto la vía química en
húmedo. Un procedimiento conocido a partir de la bibliografía es el
procedimiento de sol-gel. En tal caso, se parte por
lo general de monómeros que contienen silicio, disueltos en
disolventes (sol), que mediante hidrólisis y/o policondensación
forman una red tridimensional y nanoporosa de SiO_{2} (gel).
Mediante desecación subcrítica o supercrítica se obtiene entonces
el cuerpo moldeado poroso. Junto a las sustancias de partida, que
en la mayor parte de los casos son caras, se pueden obtener en tales
casos solamente unos geles con un contenido de materiales sólidos
de aproximadamente 10-20% en peso. En el caso de
una desecación subcrítica se llega por lo tanto a una contracción
extremadamente alta, con lo que no se pueden producir de una manera
reproducible cuerpos moldeados que se aproximen al contorno
definitivo. Si se lleva a cabo una desecación supercrítica,
ciertamente el cuerpo moldeado no se contrae, pero entonces tiene
solamente un contenido de materiales sólidos de
10-20% en peso.
Una vía para obtener cuerpos moldeados de
SiO_{2} con un contenido más alto de materiales sólidos, se
describe en el documento de patente europea EP 705.797. En tal caso
se añaden al sol adicionalmente partículas muy dispersas de ácido
silícico (denominadas en inglés fumed silica = sílice ahumada). Con
esto se puede obtener un contenido de materiales sólidos de
aproximadamente 40% en peso. Sin embargo, la producción del sol
sigue siendo cara y la desecación continúa siendo costosa.
Un procedimiento adicional se describe en el
documento EP 318.100. En tal caso, se produce una dispersión a
partir de un ácido silícico muy disperso (sílice ahumada), con
partículas situadas en el orden de magnitud de
10-500 nm, en agua. Después del moldeo y de la
solidificación de la dispersión, se obtiene mediante desecación el
correspondiente cuerpo moldeado. En tal caso, se obtienen unos
contenidos de materiales sólidos de hasta 60% en peso.
Los documentos EP 653.381 y de publicación de
solicitud de patente alemana DE-OS 2218766 divulgan
un procedimiento de colada con barbotina, en el que se produce una
dispersión en agua a base de partículas de vidrio cuarzoso con un
tamaño de partículas de 0,45 a 70 \mum, preferiblemente de
1-10 \mum. La proporción conseguible de
materiales sólidos de la dispersión está situada entre 78 y 79% en
peso. La dispersión se solidifica a continuación en un molde poroso
por lenta sustracción de agua y se seca después del desmoldeo.
Mediante este procedimiento se pueden producir ciertamente cuerpos
moldeados con unos contenidos bastante altos de materiales sólidos,
pero el procedimiento de colada con barbotina, a causa de la
sustracción de agua, dependiente de la difusión, necesita una muy
grande dedicación de tiempo y es utilizable solamente para piezas
moldeadas de paredes delgadas. Además, la solidificación por
sustracción de agua mediante moldes porosos conduce a un indeseado
gradiente de densidades dentro del cuerpo moldeado, lo cual, al
efectuar la posterior sinterización, da lugar tanto a diferentes
temperaturas de sinterización, a distintos tiempos de sinterización
así como también a diferencias de densidades.
Si se quiere prescindir de un costoso
procedimiento de colada con barbotina y, a pesar de todo, producir
cuerpos moldeados que se aproximen lo más que sea posible al
contorno definitivo, entonces se deben realizar unas dispersiones
con una proporción extremadamente alta de materiales sólidos. Esto
conduce en la práctica a grandes problemas, puesto que las
partículas dispersadas de SiO_{2} provocan un efecto fuertemente
tixótropo. Durante el dispersamiento aparece una fase dilatante.
Esto se hace apreciable por el hecho de que la viscosidad de la
suspensión aumenta con una cizalladura creciente. Con el fin de
conseguir una dispersión todavía bien apta para la colada pero
cargada en alto grado, se necesita un costoso procedimiento con un
cambio desde una pequeña cizalladura durante la incorporación con
agitación y una alta cizalladura durante la homogeneización. A
causa de la solidificación muy rápida de tal suspensión cargada en
alto grado, plantea también dificultades la producción de un moldeo
homogéneo de la dispersión.
A partir del documento de patente británica
GB-B-2329893 se conoce una
composición para la producción de vidrio silíceo, que contiene ácido
silícico pirógeno con un diámetro medio de partículas de 5 x
10^{-3} a 1 x 10^{-1} \mum y una superficie específica de 50
a 400 m^{2}/g, así como un ácido silícico tratado térmicamente,
en forma de aglomerado a partir de un ácido silícico pirógeno, con
un diámetro medio de 2 a 15 \mum y una superficie específica
menor que la del ácido silícico pirógeno, así como plastificantes
(p.ej. hidróxido de tetrametilamonio = TMAH), agentes dispersantes
(p.ej. una poli(etiloxazolina), glicerol) y agentes
aglutinanes (p.ej. formiato de metilo). Una composición de tal tipo
es totalmente inapropiada para la producción de cuerpos
sinterizados muy puros a causa de su contenido de diferentes
aditivos orgánicos y/o inorgánicos. En este documento se consiguen
en las composiciones divulgadas y en los cuerpos en bruto,
resultantes a partir de ellas, además solamente unos grados de
carga de hasta una proporción de materiales sólidos de 51% en
peso.
A partir del documento de patente japonesa JP
5294610 se conoce un procedimiento para la producción de cuerpos
moldeados amorfos de SiO_{2}, que tienen un grado de carga hasta
de 80% en peso. En tal caso, se utilizan partículas de SiO_{2}
con un diámetro medio de partículas de 0,1 a 100 \mum. Con el fin
de poder conseguir después de todo unos grados de carga tan altos,
las partículas se deben dispersar en un agua de carácter básico (pH
> 10, p.ej. mediante TMAH) por medio de una solicitación por
cizalladura grande y larga (p.ej. en un molino de bolas). A causa
de las inevitables impurezas debidas a la utilización de bases y a
la abrasión (comportamiento abrasivo de las partículas de SiO_{2})
durante la larga e intensa cizalladura, una composición de tal tipo
es totalmente inapropiada para la producción de cuerpos moldeados
de SiO_{2} muy puros.
A partir del documento de patente de los EE.UU.
US-A-4.929.579 se conoce un
procedimiento, mediante el cual se producen artículos refractarios a
base de ácido silícico mediando utilización de una dispersión,
conteniendo esta dispersión partículas amorfas de SiO_{2} con una
distribución trimodal de tamaños de granos. Tal dispersión se puede
preparar solamente de una manera muy costosa. Además, a causa de la
proporción de partículas muy grandes (con un diámetro medio de
partículas > 300 \mum) se establecen heterogeneidades y
fenómenos de sedimentación en la dispersión. Con esto se llega a
fluctuaciones de las densidades dentro de la dispersión o del
cuerpo moldeado, lo cual, al realizar los subsiguientes procesos de
moldeo y las sinterizaciones, conduce a considerables dificultades
en lo que se refiere a la exactitud de forma y a la contracción
isótropa.
Una misión del presente invento fue poner a
disposición una dispersión cargada en alto grado con partículas de
SiO_{2}, que sea homogénea y muy bien apta para la colada, y que
no tenga las desventajas conocidas a partir del estado de la
técnica.
El problema planteado por esta misión se resuelve
por medio de una dispersión homogénea de partículas amorfas de
SiO_{2} en un agente dispersante, estando caracterizada esta
dispersión porque tiene un grado de carga de por lo menos 80% en
peso de partículas amorfas de SiO_{2}, y las partículas amorfas de
SiO_{2} tienen una distribución bimodal de tamaños de granos, que
está formada por partículas de amorfas redondas SiO_{2} de mayor
tamaño y por partículas de partículas redondas SiO_{2} de menor
tamaño, y como agente de dispersión está presente agua que tiene
una resistencia eléctrica de \geq 18 MegaOhm*cm.
De modo preferido, la dispersión tiene un grado
de carga de por lo menos 83% en peso de partículas amorfas de
SiO_{2}.
De modo especialmente preferido, la dispersión
tiene un grado de carga de por lo menos 86% en peso de partículas
amorfas de SiO_{2}.
De modo preferido, al agua se le añade un ácido
inorgánico, tal como p.ej. HCl, HF, H_{3}PO_{4},
H_{2}SO_{4} o bien ácido silícico, o sustancias aditivas
ionógenas, tales como p.ej. sales fluoradas. Es especialmente
preferida en este contexto la adición de HCl ó HF, y es muy
especialmente preferida la de HF. Se pueden emplear, sin embargo,
también mezclas de los mencionados compuestos. En tal caso se
debería ajustar en la dispersión un valor del pH de
2-7, preferiblemente de 3-5.
De manera alternativa y asimismo preferida, se
puede añadir al agua una base inorgánica, tal como p.ej. NH_{3},
NaOH ó KOH. Se prefieren especialmente NH_{3} y NaOH, y se
prefiere muy especialmente el NH_{3}. Sin embargo, se pueden
emplear también mezclas de los compuestos mencionados. En tal caso
se debería ajustar un valor del pH de
7-11, preferiblemente de 9-10.
7-11, preferiblemente de 9-10.
La reducción o el aumento del valor del pH
conduce a una disminución de la tixotropía, de manera tal que se
puede alcanzar un más alto grado de carga y la dispersión es más
líquida y más fácilmente moldeable.
\newpage
Las partículas amorfas de SiO_{2} tienen una
morfología redonda, es decir esférica y compacta, tal como se puede
reconocer por ejemplo en la Figura 1.
Las partículas amorfas de SiO_{2} de mayor
tamaño tienen preferiblemente una distribución de tamaños de granos
con un valor de D50 comprendido entre 1-200 \mum,
de modo preferido entre 1-100 \mum, de modo
especialmente preferido entre 10-50 \mum y de
modo muy especialmente preferido entre 10-30 \mum.
Además, es ventajosa una distribución lo más estrecha que sea
posible de tamaños de partículas.
Se prefieren partículas amorfas de SiO_{2} con
una superficie según BET de 0,001 m^{2}/g - 50 m^{2}/g, de modo
especialmente preferido de 0,001 m^{2}/g - 5 m^{2}/g, de modo
muy especialmente preferido de 0,01 m^{2}/g - 0,5 m^{2}/g.
Las distribuciones bimodales de tamaños de granos
se obtienen mediante adición de partículas amorfas de SiO_{2}
tales como p.ej. sílice de fusión (del inglés fused silica) o
ahumada con un tamaño de granos de 1-400 nm, de modo
preferido de 10 a 200 nm y de modo especialmente preferido de 50 a
130 nm, en una proporción de 0,1 a 50% en peso, referida al
contenido total de materiales sólidos de la dispersión, de modo
especialmente preferido en una proporción de 1 a 30% en peso, y de
modo muy especialmente preferido en una proporción de 1 a 10% en
peso.
De modo preferido, estas partículas amorfas de
SiO_{2} tienen una superficie según BET comprendida entre 30
y
400 m^{2}/g, de modo especialmente preferido entre 130 y 300 m^{2}/g.
400 m^{2}/g, de modo especialmente preferido entre 130 y 300 m^{2}/g.
Estas partículas amorfas de SiO_{2}, a la
escala de los nanómetros, actúan en tal caso como una especie de
aglutinante inorgánico entre las partículas esencialmente más
grandes de SiO_{2}, pero no como material de carga con el fin de
conseguir un grado de carga esencialmente más alto. Ellas dan lugar
a que en el caso de la producción de cuerpos moldeados estables se
pueda prescindir en lo esencial de una sustracción de agua. Además,
ellas influyen sobre la viscosidad o el comportamiento plástico de
la dispersión.
La densidad específica de las partículas amorfas
de SiO_{2} debería estar situada preferiblemente entre 1,0
y
2,2 g/cm^{3}. De modo especialmente preferido, las partículas tienen una densidad específica comprendida entre 1,8 y 2,2 g/cm^{3}. De modo particularmente preferido, las partículas tienen una densidad específica comprendida entre 2,0 y 2,2 g/cm^{3}.
2,2 g/cm^{3}. De modo especialmente preferido, las partículas tienen una densidad específica comprendida entre 1,8 y 2,2 g/cm^{3}. De modo particularmente preferido, las partículas tienen una densidad específica comprendida entre 2,0 y 2,2 g/cm^{3}.
Se prefieren además partículas amorfas de
SiO_{2} con \leq 3 grupos OH por nm^{2} junto a su superficie
externa, de modo especialmente preferido \leq 2 grupos OH por
nm^{2} y de modo muy especialmente preferido \leq 1 grupo OH por
nm^{2}.
Las partículas amorfas de SiO_{2} deberían
tener preferiblemente una proporción cristalina de a lo sumo 1%.
Preferiblemente, ellas deberían mostrar además una interacción lo
más pequeña que sea posible con el agente disper-
sante.
sante.
Estas propiedades las tienen partículas amorfas
de SiO_{2} de diversa procedencia, tales como p.ej. un ácido
silícico posteriormente sinterizado (sílice de fusión) así como
cualquier tipo de SiO_{2} amorfo sinterizado o compactado. Ellas,
por lo tanto, son apropiadas preferiblemente para la preparación de
la dispersión conforme al invento.
Un material correspondiente se puede producir de
un modo de por sí conocido en la llama de un gas detonante
(oxhídrico). También es obtenible comercialmente, p.ej. bajo la
denominación Excelica® en la entidad Tokoyama, Japón.
Cuando se cumplen los criterios anteriores, se
pueden utilizar también partículas de otra procedencia, tales como
p.ej. cuarzo natural, arena de vidrio cuarzoso, ácido silícico
vítreo, vidrios cuarzosos molidos o residuos molidos de vidrio
cuarzoso, así como vidrio silíceo producido químicamente, tal como
p.ej. ácido silícico precipitado, un ácido silícico altamente
disperso (sílice ahumada, producida mediante pirólisis a la llama),
xerogeles o aerogeles.
En el caso de las partículas amorfas de SiO_{2}
de mayor tamaño se trata preferiblemente de ácidos silícicos
precipitados, ácidos silícicos altamente dispersos, sílice de
fusión o partículas compactadas de SiO_{2}, de modo especialmente
preferido se trata de ácido silícico muy disperso o sílice de
fusión, y de modo muy especialmente preferido se trata de sílice de
fusión. Son asimismo posibles y preferidas mezclas de las
mencionadas partículas diferentes de SiO_{2}.
En una forma especial de realización, las
partículas antes descritas se presentan en una forma muy pura, es
decir con una proporción de átomos ajenos, en particular de
metales, de \leq 300 ppmp (partes por millón por peso), de modo
preferido \leq 100 ppmp, de modo especialmente preferido \leq 10
ppmp y de modo muy especialmente preferido \leq 1 ppmp.
En otra forma especial de realización, a la
dispersión se le pueden añadir también materiales aditivos tales
como p.ej. fibras de vidrio, vidrio roto y partículas de vidrio. De
modo preferido, se añaden fibras de vidrio silíceo.
En otra forma de realización especial, la
dispersión puede contener adicionalmente partículas metálicas,
compuestos metálicos o sales metálicas. Se prefieren en tal caso
compuestos, que son solubles en el agente dispersante, y se
prefieren especialmente sales metálicas solubles en agua.
Las sustancias aditivas, las partículas
metálicas, los compuestos metálicos o las sales metálicas se pueden
añadir durante y/o después de la preparación de la dispersión.
El invento se refiere además a un procedimiento
que permite de una manera muy sencilla una preparación de la
dispersión conforme al invento. El procedimiento conforme al
invento está caracterizado porque se incorporan partículas amorfas
de SiO_{2}, con una forma redonda y compacta, en un agente
dispersante previamente dispuesto. En tal caso se debería reprimir
ampliamente la formación de un comportamiento dilatante.
En tal caso se puede prescindir totalmente de la
adición de agentes licuadores, en particular de los que tengan
componentes orgánicos.
La formación de un comportamiento dilatante se
puede reprimir por ejemplo mediante el recurso de que la adición de
las partículas de SiO_{2} al agente dispersante previamente
dispuesto se efectúa con lentitud, y al comienzo de la adición tan
sólo con mucha lentitud, y posteriormente, hacia el final, con mayor
rapidez. Sin embargo, unas elevadas fuerzas de cizalladura se
pueden evitar durante todo el proceso de dispersamiento, puesto que
las fuerzas de cizalladura conducen a una abrasión junto al aparato
para dispersar, y el rozamiento conduce a un desprendimiento
térmico, y por consiguiente tiene una influencia negativa sobre el
grado de carga.
Al efectuar el dispersamiento, el agente de
dispersión se dispone previamente y las partículas de SiO_{2} se
añaden lentamente y de modo preferido constantemente. Las
partículas de SiO_{2} se pueden añadir sin embargo también en
varias etapas (modalidad en porciones).
Por medio de la elección de los tamaños de
partículas y de los tamaños de granos de SiO_{2}, se pueden
ajustar planificadamente el tamaño de poros y la distribución en el
cuerpo moldeado producido a partir de la dispersión.
Como aparatos para dispersar se pueden utilizar
todos los aparatos y dispositivos que son conocidos por un experto
en la especialidad. Se prefieren además aparatos que no contengan
partes metálicas que puedan entrar en contacto con la dispersión,
con el fin de evitar una contaminación con metales por
abrasión.
El dispersamiento debería efectuarse a unas
temperaturas comprendidas entre 0ºC y 50ºC, preferiblemente entre
5ºC y 30ºC.
Antes de, y/o durante y/o después del
dispersamiento, mediante métodos conocidos por un experto en la
especialidad, tales como p.ej. la aplicación de un vacío, se pueden
eliminar los gases, tales como p.ej. aire, que eventualmente están
contenidos en la dispersión. De modo preferido, esto se lleva a cabo
durante y/o después del dispersamiento total.
Una dispersión homogénea estable así preparada,
con un contenido de materiales sólidos de por lo menos 80% en peso,
de modo preferido de 83% en peso y de modo especialmente preferido
de 86% en peso, es apta para la colada durante por lo menos 2 h,
preferiblemente durante 30 min y de modo especialmente preferido
durante por lo menos 10 min.
Además de esto, la misión del presente invento
fue poner a disposición un procedimiento sencillo, rápido y barato,
con el que a partir de las dispersiones conformes al invento se
puedan producir unos cuerpos moldeados amorfos y porosos de
SiO_{2} con unos grados de carga extremadamente altos, y que no
tenga las desventajas conocidas a partir del estado de la
técnica.
El problema planteado por esta misión se resuelve
por medio de un procedimiento que comprende las etapas de
- 1)
- producir una dispersión de partículas redondas de SiO_{2},
- 2)
- transferir la dispersión a un molde,
- 3)
- desmoldear el cuerpo moldeado después de la solidificación de la dispersión,
- 4)
- secar el cuerpo moldeado,
caracterizado porque al realizar la
preparación de la dispersión de partículas de SiO_{2} se alcanza
un grado de carga de por lo menos 80% en peso de partículas de
SiO_{2}.
Antes de la transferencia de la dispersión a un
molde (Etapa 2), la dispersión se puede someter todavía a una
modificación del valor del pH mediante ácidos o bases de carácter
inorgánico.
Se prefieren en calidad de ácidos HCl, HF,
H_{3}PO_{4}, H_{2}SO_{4} o ácido silícico, así como en
calidad de bases NH_{3}, NaOH y KOH. Se prefieren especialmente
HCl, HF o bien NH_{3} y NaOH, y se prefieren muy especialmente HF
y NH_{3}. En tal caso se debería ajustar un valor del pH de
2-7 o bien de 7-11, preferiblemente
de 3-5 o bien de
9-10.
9-10.
La transferencia de la dispersión a un molde se
efectúa de un modo conocido por un experto en la especialidad, tal
como p.ej. mediante colada en un molde.
El moldeo se puede llevar a cabo a unas
temperaturas de desde 0ºC hasta del punto de ebullición del agente
dispersante. Se prefieren unas temperaturas comprendidas entre 20ºC
y 30ºC.
Como moldes son apropiados en principio todos los
moldes conocidos por un experto en la especialidad. En tal caso,
dependiendo de cual sea el cuerpo moldeado deseado, se pueden
utilizar moldes con o sin un macho o núcleo. Además, los moldes
pueden ser de una sola pieza y de múltiples piezas. Los moldes a
modo de crisoles deberían ser preferiblemente cónicos en por lo
menos 1º, con el fin de facilitar un desmoldeo.
Como materiales son apropiados en principio todos
los materiales que se utilizan usualmente también en la industria
cerámica. Se prefieren en tales casos los materiales que muestran
una pequeña adhesión con la dispersión, tales como p.ej. materiales
sintéticos, siliconas, vidrio, vidrio silíceo o grafito. Se
prefieren especialmente polímeros de polietileno (PE),
polipropileno (PP), poli(tetrafluoroetileno) (PTFE),
poliamida, caucho de silicona y grafito. Se prefieren muy
especialmente PTFE y grafito.
Además, se pueden utilizar también materiales
revestidos, tales como p.ej. metales revestidos con PTFE.
De modo preferido, el molde debería tener una
superficie lo más lisa que sea posible, p.ej. una superficie
pulida.
El molde puede ser poroso o no poroso, permeable
a los gases o impermeable a los gases. Se prefiere un molde
permeable a los gases. Además, el molde puede ser elástico o
inelástico.
En una forma especial de realización, el molde
consta de una lámina o de una manguera para láminas. Este tipo de
molde es apropiado especialmente para la producción de barras y
tubos, tal como se describe en el documento
EP 318.100.
EP 318.100.
Como lámina se pueden utilizar en principio
cualesquiera tipos de láminas. Se prefieren láminas a base de
materiales tales como p.ej. PE, PP, PET, PTFE, celulosa, celulosa
reforzada con velos fibrosos o una poliamida.
En una forma especial de realización, el molde
sustrae de la dispersión una parte del agente dispersante. En tal
caso se pueden llevar a cabo todos los tipos de la colada con
barbotina que son conocidos por un experto en la especialidad, tal
como se describe p.ej. en el documento DE OS 2218766. De esta
manera, el grado de carga de la pieza moldeada durante el moldeo se
puede aumentar hasta llegar a 95% en peso.
Además de esto, se puede obtener un cuerpo
moldeado con simetría de rotación también mediante métodos de
conformación conocidos por un experto en la especialidad tales como
p.ej. procedimientos de torneado, procedimientos de rodadura o
procedimientos de colada por centrifugación.
También se pueden emplear procedimientos de
colada a presión conocidos por un experto en la especialidad a
partir de la industria cerámica.
Además, un cuerpo moldeado puede ser conformado
hacia fuera y/o hacia dentro a partir de un cuerpo moldeado
previamente establecido. En tales casos, se pueden utilizar todos
los métodos conocidos por un experto en la especialidad, tal como
se describen p.ej. en el documento EP 473.104. De esta manera, se
pueden producir p.ej. tubos o barras de vidrio silíceo con zonas
interiores y/o exteriores porosas. Además, de esta manera, se
pueden producir también cuerpos moldeados que constan de diferentes
capas.
En la Etapa 3) la dispersión solidificada se
desmoldea como cuerpo moldeado de forma estable. La solidificación
de la dispersión es dependiente cronológicamente del grado de
carga, de la distribución de las partículas, de la temperatura y
del valor del pH de la dispersión. Las temperaturas preferidas para
la solidificación son unas temperaturas comprendidas entre -196ºC y
el punto de ebullición del medio de dispersión, se prefieren unas
temperaturas comprendidas entre -76ºC y 50ºC, se prefieren
especialmente las comprendidas entre -20ºC y 30ºC, y se prefieren
muy especialmente las comprendidas entre 0ºC y 30ºC.
Por regla general, una solidificación para dar un
cuerpo moldeado de forma estable, se efectúa en el transcurso desde
un minuto hasta 24 horas, son preferidos unos períodos de tiempo
comprendidos entre un minuto y 6 horas, y son especialmente
preferidos unos períodos de tiempo comprendidos entre un minuto y
30 minutos.
Al solidificar la dispersión para dar un cuerpo
moldeado de forma estable, no aparece ninguna contracción
apreciable. Se prefiere una contracción lineal comprendida entre 0
y 0,5%.
Cuando una pequeña parte del agente dispersante
se puede desprender desde el molde por evaporación, esto acelera la
solidificación de la dispersión.
\newpage
Para que el cuerpo moldeado se pueda sacar del
molde mejor sin destrucción y sin fisuras, antes de cargarlo con la
dispersión conforme al invento, el molde puede ser provisto de un
agente de desmoldeo apropiado, conocido por un experto en la
especialidad. Un preferido agente de desmoldeo es p.ej. grafito.
El desmoldeo propiamente dicho se efectúa de un
modo conocido por un experto en la especialidad.
Además es posible también un desmoldeo mediante
formación entre el cuerpo moldeado y el molde de una capa de agua,
que se había generado a través de la aplicación de una tensión. En
tal caso son posibles todos los métodos conocidos por un experto en
la especialidad, tal como se describen p.ej. en el documento US
5578101.
En la Etapa 4) se efectúa la desecación del
cuerpo moldeado obtenido a partir de la Etapa 3). La desecación se
efectúa en tal caso mediante métodos conocidos por un experto en la
especialidad, tales como p.ej. desecación en vacío, desecación
mediante gases calientes, tales como p.ej. nitrógeno o aire, o
desecación por contacto. También es posible una combinación de los
métodos individuales de desecación. Se prefiere una desecación
mediante gases calientes.
Se prefiere además una desecación mediante
microondas o radiación de infrarrojos.
En principio, es naturalmente asimismo posible,
de acuerdo con el invento, llevar a cabo las Etapas 3) y 4) en un
orden de sucesión modificado.
La desecación se efectúa a unas temperaturas en
el cuerpo moldeado comprendidas entre 25ºC y el punto de ebullición
del agente dispersante en los poros del cuerpo moldeado.
Los períodos de tiempo de desecación son
dependientes del volumen del cuerpo moldeado que se ha de secar,
del grosor máximo de las capas, del agente dispersante y de la
estructura de poros del cuerpo moldeado.
Al secar el cuerpo moldeado aparece una pequeña
contracción. La contracción es dependiente del grado de carga del
cuerpo moldeado húmedo. En el caso de un grado de carga de 80% en
peso, la contracción en volumen es \leq 2,5% y la contracción
lineal es \leq 0,8%. En el caso de un grado de carga más alto, la
contracción es menor.
En una forma especial de realización, en la que
en todas las etapas se trabaja con materiales muy puros, el cuerpo
moldeado presenta una proporción de átomos ajenos, en particular de
metales, de \leq 300 ppmp, de modo preferido de \leq 100 ppmp,
de modo especialmente preferido de \leq 10 ppmp y de modo muy
especialmente preferido de \leq 1 ppmp.
En el caso del cuerpo moldeado obtenible de este
modo, se trata de un cuerpo moldeado de SiO_{2} que se aproxima
al contorno definitivo, de poros abiertos y amorfo, con dimensiones
y forma arbitrarias.
El cuerpo moldeado así obtenible tiene una menor
anisotropía en lo que se refiere a la densidad que el cuerpo
moldeado obtenible de acuerdo con el estado de la técnica.
Estos cuerpos moldeados están caracterizados
porque consisten en por lo menos 64% en volumen, preferiblemente en
por lo menos 70% en volumen, en partículas redondas de SiO_{2},
que presentan una distribución bimodal de tamaños de granos y
tienen un volumen de poros (determinado mediante porosimetría de
mercurio) de 1 ml/g a 0,01 ml/g, de modo preferido de 0,8 ml/g a 0,1
ml/g, de modo especialmente preferido de 0,4 ml/g a 0,1 ml/g, y
poseen unos poros con un diámetro de poros de 1 a 10 \mum,
preferiblemente de 3 a 6 \mum, que son estables en sinterización
hasta 1.000ºC, o tienen unos poros con una distribución bimodal de
diámetros de poros, estando situado un máximo del diámetro de poros
en el intervalo de 0,01 a 0,05 \mum, preferiblemente de 0,018 a
0,022 \mum, y estando situado un segundo máximo del diámetro de
poros en el intervalo de 1 a 5 \mum, preferiblemente de 1,8 a 2,2
\mum.
Los cuerpos moldeados conformes al invento pueden
tener además unos poros con una distribución bimodal de diámetros
de poros, estando situado un máximo del diámetro de poros en el
intervalo de 0,01 a 0,05 \mum, preferiblemente de 0,018 a 0,022
\mum, y estando situado un segundo máximo del diámetro de poros
en el intervalo de 1 a 5 \mum, preferiblemente de 1,8 a 2,2
\mum, modificándose la distribución de diámetros de poros al
calentar de tal manera que a 1.000ºC se presenta una distribución
monomodal de diámetros de poros y el diámetro de poros está situado
en el intervalo de 2,2 a 5,5 \mum, preferiblemente de 3,5 a 4,5
\mum, y la superficie interna del cuerpo moldeado es de 100
m^{2}/g a 0,1 m^{2}/g, preferiblemente de 50 m^{2}/g a 0,1
m^{2}/g.
Preferiblemente, los cuerpos moldeados de acuerdo
con el invento son estables en sinterización en lo que se refiere a
su volumen a unas temperaturas hasta de 1.000ºC.
El empleo de partículas mayores en la dispersión
produce unos poros mayores en el cuerpo moldeado, y una estrecha
distribución de los tamaños de partículas en la dispersión produce
una estrecha distribución de tamaños de poros en el cuerpo
moldeado.
La adición de pequeñas cantidades
(aproximadamente de 1 a 4% en peso) de partículas situadas en el
intervalo de los nanómetros no tiene ninguna influencia digna de
mención sobre la distribución monomodal de tamaños de poros con
unos tamaños de poros situados en el intervalo inferior de los
micrómetros en el cuerpo moldeado.
La adición de cantidades mayores (aproximadamente
de 5 a 50% en peso) de partículas situadas en el intervalo de los
nanómetros, produce una distribución bimodal del tamaño de poros en
el cuerpo moldeado, que junto a los poros mencionados contiene
también unos poros situados en el intervalo inferior de los
nanómetros.
En todos los casos, no se modifica el grado de
carga total del cuerpo moldeado.
La densidad del cuerpo moldeado conforme al
invento está situada entre 1,4 g/cm^{3} y 1,8 g/cm^{3}.
Los cuerpos moldeados descritos, con una
distribución monomodal de poros, son estables en sinterización
durante por lo menos 24 h a unas temperaturas hasta de 1.000ºC.
Además, ellos son térmicamente estables y presentan un factor muy
pequeño de dilatación térmica.
Los cuerpos moldeados conformes al invento
presentan preferiblemente una resistencia a la flexión comprendida
entre 0,1 N/mm^{2} y 20 N/mm^{2}, de modo especialmente
preferido entre 0,5 y 10 N/mm^{2}, de modo particularmente
comprendido entre 0,8 y 10 N/mm^{2}. Por consiguiente, estos
cuerpos moldeados muestran una más alta resistencia a la flexión
como cuerpos en bruto con una distribución monomodal de tamaños de
granos, como son conocidos a partir del estado de la técnica.
Además, mediante un tratamiento térmico se puede conseguir una
elevada resistencia a la flexión.
Los cuerpos moldeados descritos, a causa de sus
propiedades especiales, se pueden utilizar de diversas maneras,
p.ej. como materiales de filtración, materiales para aislamiento
del calor, escudos térmicos, materiales de soporte de
catalizadores, al igual que como una "preforma" para fibras de
vidrio, fibras conductoras de luz, vidrios ópticos o artículos de
cuarzo de todo tipo.
En otra forma especial adicional de realización,
los cuerpos moldeados porosos se pueden mezclar total o
parcialmente con las moléculas, los materiales y las sustancias de
más diverso tipo. Se prefieren la moléculas, los materiales y las
sustancias que presentan una actividad catalítica. En tal caso, se
pueden aplicar todos los métodos conocidos por un experto en la
especialidad, tal como se describen p.ej. en el documento US
5655046.
En otra forma especial adicional de realización,
el cuerpo en bruto de poros abiertos, presenta unos poros con un
tamaño situado en el intervalo desde el superior de los nanómetros
hasta el inferior de los micrómetros, preferiblemente en el
intervalo de 0 a 10 \mum. Esto hace posible por primera vez una
rápida sinterización en vacío, puesto que en ella no se encuentra
en el intervalo de Knudsen.
En otra forma especial adicional de realización,
el cuerpo en bruto de poros abiertos presenta unos poros con una
distribución bimodal en el intervalo desde el inferior de los
nanómetros hasta el inferior de los micrómetros, preferiblemente en
los intervalos de 1 a 20 nm y de 1 a 10 \mum.
Los siguientes Ejemplos y Ejemplos Comparativos
sirven para la explicación adicional del invento.
En un vaso de precipitados de material sintético
con una capacidad de 600 ml se disponen previamente 170 g de
H_{2}O bidestilada. Con un agitador de hélice propulsora, usual
en el comercio, se incorporaron con agitación en primer lugar 45 g
de sílice ahumada (Aerosil® OX 50 de la entidad Degussa, superficie
según BET 50 m^{2}/g) en 15 min. A continuación se añadieron,
primeramente con rapidez y al final en menores porciones, 845 g de
sílice de fusión (Excelica® SE-15 de la entidad
Tokuyama, diámetro medio de partículas 15 \mum). La velocidad de
rotación del agitador se aumentó en tal caso desde inicialmente 400
rpm gradualmente hasta 2.000 rpm.
A continuación del dispersamiento total, la
dispersión se sometió durante 10 minutos a una ligera depresión
(0,8 bar), con el fin de eliminar las eventuales burbujas de vidrio
encerradas.
La dispersión así preparada constaba de 890 g de
un material sólido, lo cual corresponde a un contenido de material
sólido de 83,96% en peso (de éstos, a su vez 94,94% de sílice de
fusión y 5,06% de sílice ahumada).
Una parte de la dispersión se coló en dos moldes
rectangulares abiertos por arriba, a base de PTFE (5 cm* 15 cm* 2
cm). Después de 4 horas, los dos cuerpos moldeados se desmoldearon
por desmontaje del molde y se secaron en una estufa de desecación a
200ºC. Los cuerpos moldeados secados tenían una densidad de 1,62
g/cm^{3}.
Mediante una porosimetría de mercurio se
determinaron un volumen de poros de 0,20 ml/g y una superficie
interna de 30 m^{2}/g.
Un cuerpo moldeado fue sinterizado en un alto
vacío (10^{-5} mbar), calentándolo durante un minuto a 1.620ºC
con una velocidad de calentamiento de 2ºC/min.
El cuerpo moldeado sinterizado, obtenido de esta
manera, tenía una densidad de 2,2 g/cm^{3}, consistía en un 100%
de vidrio silíceo amorfo, transparente e impermeable a los gases,
sin inclusiones de gases y con un contenido de grupos OH situado
por debajo de 1 (determinación cuantitativa mediante espectroscopía
de IR en transmisión).
La contracción medible con respecto al cuerpo
moldeado poroso fue, referida al volumen, de 26,37%, lo cual
corresponde a una contracción lineal de 10%.
El segundo cuerpo moldeado se calentó asimismo en
un alto vacío (10^{-5} mbar) a unas temperaturas hasta de 1.620ºC
con una velocidad de calentamiento de 2ºC/min. A las temperaturas
alcanzadas de 400ºC, 600ºC, 800ºC, 1.000ºC, 1.200ºC, 1.400ºC y
1.600ºC se determinó en cada caso la densidad del cuerpo moldeado.
La densidad, determinada de esta manera, del cuerpo moldeado en
función de la temperatura de sinterización, la muestra la Tabla
1.
Temperatura [ºC] | Densidad [g/cm^{3}] |
200 | 1,62 |
400 | 1,61 |
600 | 1,63 |
800 | 1,62 |
1.000 | 1,63 |
1.200 | 1,68 |
1.400 | 1,81 |
1.600 | 2,20 |
La Figura 1 muestra una fotografía en REM
(microscopio electrónico de barrido) del cuerpo moldeado secado a
200ºC.
Además, a las temperaturas alcanzadas de 200ºC,
600ºC, 1.000ºC, 1.200ºC y 1.400ºC se determinó en cada caso la
distribución de poros del cuerpo moldeado mediante porosimetría de
mercurio. Esta distribución de poros se reproduce en la Figura
2.
Además, de las muestras se determinaron, a las
temperaturas mencionadas, el volumen de poros y la superficie
interna de poros. El resultado está reproducido en la Tabla 2.
Muestra | Volumen de poros | Superficie interna | |
[ml/g] | [m^{2}/g] | ||
200ºC | 0,24 | 33,23 | |
600ºC | 0,22 | 33,068 | |
1.000ºC | 0,21 | 27,78 | |
1.200ºC | 0,18 | 8,217 | |
1.400ºC | 0,097 | 2,01 |
Ejemplos 2a hasta
c
a) (Ejemplo comparativo). En un vaso de
precipitados de material sintético con una capacidad de 600 ml se
dispusieron previamente 170 g de H_{2}O bidestilada. Con un
agitador de hélice propulsora, usual en el comercio, se añadieron
890 g de sílice de fusión (Excelica® SE-15 de la
entidad Tokuyama, diámetro medio de partículas 15 \mum), al
principio con rapidez y al final en porciones menores, y se
dispersaron en unos pocos minutos.
b) En un vaso de precipitados de material
sintético con una capacidad de 600 ml se dispusieron
previamente
170 g de H_{2}O bidestilada. Con un agitador de hélice propulsora, usual en el comercio, se incorporaron con agitación en el transcurso de 15 min, primeramente 45 g de sílice ahumada (Aerosil® OX 50 de la entidad Degussa, superficie según BET 50 m^{2}/g). A continuación, se añadieron 845 g de sílice de fusión (Excelica® SE-15 de la entidad Tokuyama, diámetro medio de partículas 15 \mum), al principio con rapidez y al final en porciones menores, y se dispersaron en unos pocos minutos.
170 g de H_{2}O bidestilada. Con un agitador de hélice propulsora, usual en el comercio, se incorporaron con agitación en el transcurso de 15 min, primeramente 45 g de sílice ahumada (Aerosil® OX 50 de la entidad Degussa, superficie según BET 50 m^{2}/g). A continuación, se añadieron 845 g de sílice de fusión (Excelica® SE-15 de la entidad Tokuyama, diámetro medio de partículas 15 \mum), al principio con rapidez y al final en porciones menores, y se dispersaron en unos pocos minutos.
c) En un vaso de precipitados de material
sintético con una capacidad de 600 ml se dispusieron
previamente
170 g de H_{2}O bidestilada. Con un agitador de hélice propulsora, usual en el comercio, se incorporaron con agitación en 15 min primeramente 90 g de sílice ahumada (Aerosil® OX 50 de la entidad Degussa, superficie según BET 50 m^{2}/g). A continuación, se añadieron 800 g de sílice de fusión (Excelica® SE-15 de la entidad Tokuyama, diámetro medio de partículas 15 \mum), al principio con rapidez y al final en porciones menores, y se dispersaron en unos pocos minutos.
170 g de H_{2}O bidestilada. Con un agitador de hélice propulsora, usual en el comercio, se incorporaron con agitación en 15 min primeramente 90 g de sílice ahumada (Aerosil® OX 50 de la entidad Degussa, superficie según BET 50 m^{2}/g). A continuación, se añadieron 800 g de sílice de fusión (Excelica® SE-15 de la entidad Tokuyama, diámetro medio de partículas 15 \mum), al principio con rapidez y al final en porciones menores, y se dispersaron en unos pocos minutos.
En las tres variantes, la velocidad de rotación
del agitador era inicialmente de 400 rpm y se aumentó de manera
gradual hasta 2.000 rpm.
A continuación del dispersamiento total, las tres
dispersiones se sometieron durante 10 minutos a una ligera
depresión (0,8 bar), con el fin de eliminar las eventuales burbujas
de vidrio encerradas.
Las dispersiones así preparadas constaban de 890
g de un material sólido, lo cual corresponde a un contenido de
material sólido de 83,96% en peso. La proporción de sílice ahumada
era en la dispersión a) de 0% en peso, en la b) de 5,06% en peso y
en la c) de 10,12% en peso.
Las dispersiones se colaron en cada caso en diez
moldes rectangulares abiertos por arriba, a base de PTFE (5 cm*10
cm*2 cm). Después de 4 horas, los cuerpos moldeados se desmoldearon
por desmontaje del molde y se secaron a 200ºC en una estufa de
desecación. Después de la desecación, una parte de las muestras se
atemperó todavía en cada caso a 800ºC y 1.100ºC durante una
hora.
A continuación, se determinó la resistencia a la
flexión mediante una medición de la flexión en 3 puntos.
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
\vskip1.000000\baselineskip
Como puede observarse a partir de la Tabla 3, una
distribución bimodal de tamaños de granos conduce a una aumentada
resistencia a la flexión. Si se compara la resistencia mecánica de
los cuerpos moldeados de la Tabla 3 con las resistencias que se
indican en el documento de patente japonesa JP
5-294610 (muestras secadas a 300ºC) se establece
una resistencia mecánica de 0,01 N/mm^{2} con un valor comparable
del pH de aproximadamente 6,5 de la dispersión del estado de la
técnica, mientras que la resistencia mecánica de acuerdo con el
procedimiento conforme al invento (Ejemplos 2b, 2c) está situada
hasta en 0,8 N/mm^{2}, lo cual corresponde a un factor hasta de
80.
Ejemplo comparativo
1
Apoyándose en el documento EP 653.381 se molió
dióxido de silicio en un molino de bolas hasta que se presentase
una distribución de granos en el intervalo de > 0,45 \mum
hasta < 50 \mum, estando situada la porción principal de
aproximadamente 60% entre 1 \mum y 10 \mum. En el intento de
producir, como en el Ejemplo 1, una dispersión con una proporción
de materiales sólidos de \geq 80% en peso, la dispersión se
solidificó bruscamente con una proporción de materiales sólidos de
79% en peso. Ya no era posible una transferencia de la masa a un
molde.
Ejemplo comparativo
2
Apoyándose en el documento EP 318.100 se intentó
dispersar en agua un ácido silícico pirógeno con una superficie
según BET de 50 m^{2}/g. En el intento de producir, como en el
Ejemplo 1, una dispersión con una proporción de materiales sólidos
de \geq 80% en peso, la dispersión se solidificó bruscamente ya
con una proporción de materiales sólidos de 42% en peso. Ya no era
posible una transferencia de la masa a un molde. Incluso con la
utilización de fluoruro de amonio como agente licuador se pudo
dispersar solamente una proporción de materiales sólidos de 48% en
peso. De nuevo, no era posible una transferencia de la masa a un
molde.
Claims (19)
1. Dispersión homogénea muy bien apta para la
colada de partículas amorfas de SiO_{2} en un agente dispersante,
estando caracterizada la dispersión porque tiene un grado de
carga de por lo menos 80% en peso de partículas amorfas de
SiO_{2}, y las partículas amorfas de SiO_{2} tienen una
distribución bimodal de tamaños de poros, que está formada por
partículas amorfas redondas de SiO_{2} de mayor tamaño y
partículas amorfas redondas de SiO_{2} de menor tamaño, y como
agente dispersante está presente agua, que tiene una resistencia
eléctrica de \geq 18 MegaOhm*cm.
2. Dispersión de acuerdo con la reivindicación 1,
caracterizada porque las partículas amorfas de SiO_{2} de
mayor tamaño presentan una distribución de tamaños de granos con un
valor de D50 comprendido entre 1 y 200 \mum.
3. Dispersión de acuerdo con la reivindicación 2,
caracterizada porque las partículas amorfas de SiO_{2} de
mayor tamaño tienen una superficie según BET de 0,001 m^{2}/g -
50 m^{2}/g.
4. Dispersión de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 3, caracterizada porque las partículas
amorfas de SiO_{2} de menor tamaño están presentes en una
proporción de 0,1 a 50% en peso.
5. Dispersión de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 4, caracterizada porque la densidad
específica de las partículas amorfas de SiO_{2} está situada
entre 1,0 y 2,2 g/cm^{3}.
6. Dispersión de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 5, caracterizada porque las partículas
amorfas de SiO_{2} poseen junto a su superficie \leq 3 grupos
OH por nm^{2}.
7. Dispersión de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 6, caracterizada porque como partículas
amorfas de SiO_{2} de mayor tamaño están presentes un ácido
silícico sinterizado posteriormente (sílice de fusión) o un
SiO_{2} amorfo, sinterizado o compactado.
8. Dispersión de acuerdo con una de las
reivindicaciones 1 a 7, caracterizada porque las partículas
de SiO_{2} se presentan en una forma muy pura.
9. Procedimiento para la preparación de una
dispersión de acuerdo con la reivindicación 1, caracterizado
porque se incorporan partículas amorfas de SiO_{2}, con una forma
redonda y compacta, en un agente dispersante previamente dispuesto,
de tal manera que se reprime ampliamente la formación de un
comportamiento dilatante.
10. Procedimiento para la producción de un cuerpo
moldeado poroso y amorfo de SiO_{2} con un grado de carga
extremadamente alto, que comprende las etapas de
- 1.
- preparar una dispersión de partículas redondas de SiO_{2},
- 2.
- transferir la dispersión a un molde,
- 3.
- desmoldear el cuerpo moldeado después de la solidificación de la dispersión,
- 4.
- secar el cuerpo moldeado,
caracterizado porque en la
preparación de la dispersión de partículas redondas de SiO_{2} se
alcanza un grado de carga de por lo menos 80% en peso de SiO_{2}
y las partículas amorfas de SiO_{2} tienen una distribución
bimodal de tamaños de granos, que está formada por partículas
amorfas de SiO_{2} de mayor tamaño y por partículas amorfas de
SiO_{2} de menor tamaño, y como agente dispersante está presente
agua, que tiene una resistencia eléctrica de \geq 18
MegaOhm*cm.
11. Procedimiento de acuerdo con la
reivindicación 10, caracterizado porque la dispersión y/o el
cuerpo moldeado poroso se mezclan total o parcialmente con
compuestos que favorecen o producen una formación de
cristobalita.
12. Cuerpo moldeado amorfo, de poros abiertos de
SiO_{2}, que se aproxima al contorno definitivo,
caracterizado porque se produce de acuerdo con un
procedimiento conforme a la reivindicación 10 u 11.
13. Cuerpo moldeado amorfo, de poros abiertos de
SiO_{2}, que se aproxima al contorno definitivo, de acuerdo con
la reivindicación 12, caracterizado porque tiene una
resistencia a la flexión comprendida entre 0,1 N/mm^{2} y 20
N/mm^{2}.
14. Cuerpo moldeado amorfo, de poros abiertos de
SiO_{2}, que se aproxima al contorno definitivo, de acuerdo con
la reivindicación 12 ó 13, caracterizado porque consiste en
por lo menos 64% en volumen en partículas de SiO_{2} y tiene un
volumen de poros (determinado mediante porosimetría de mercurio) de
1 ml/g a 0,01 ml/g y posee unos poros con un diámetro de poros de 1
a 10 \mum, que son estables en sinterización a unas temperaturas
hasta de 1.000ºC, o tiene unos poros con una distribución bimodal
de los diámetros de poros, estando situado un máximo del diámetro
de poros en el intervalo de 0,01 a 0,05 \mum y estando situado un
segundo máximo del diámetro de poros en el intervalo de
1 a 5 \mum.
1 a 5 \mum.
15. Cuerpo moldeado amorfo, de poros abiertos de
SiO_{2} que se aproxima al contorno definitivo, de acuerdo con la
reivindicación 14, caracterizado porque las partículas
redondas de SiO_{2} presentan una distribución bimodal de tamaños
de poros, y que tiene unos poros con una distribución bimodal de los
diámetros de poros, estando situado un máximo del diámetro de poros
en el intervalo de 0,01 a 0,05 \mum y estando situado un segundo
máximo del diámetro de poros en el intervalo de 1 a 5 \mum,
modificándose la distribución de los diámetros de poros al calentar
de tal manera que a 1.000ºC se presenta una distribución monomodal
de diámetros de poros, y el diámetro de poros está situado en el
intervalo de 2,2 a 5,5 \mum y la superficie interna del cuerpo
moldeado es de 100 m^{2}/g a 0,1 m^{2}/g.
16. Cuerpo moldeado de SiO_{2}, de acuerdo con
una de las reivindicaciones 12 a 15, caracterizado porque
las partículas de SiO_{2} presentan una distribución bimodal de
tamaños de granos, y es estable en almacenamiento en lo que se
refiere a su volumen a unas temperaturas hasta de 1.000ºC.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19943103 | 1999-09-09 | ||
DE19943103A DE19943103A1 (de) | 1999-09-09 | 1999-09-09 | Hochgefüllte SiO2-Dispersion, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2240171T3 true ES2240171T3 (es) | 2005-10-16 |
Family
ID=7921359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES00965941T Expired - Lifetime ES2240171T3 (es) | 1999-09-09 | 2000-09-07 | Dispersion de sio2 cargada en alto grado, procedimiento para su prepa racion y utilizacion. |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6699808B1 (es) |
EP (2) | EP1210294B1 (es) |
JP (1) | JP2003508334A (es) |
KR (1) | KR100517814B1 (es) |
CN (2) | CN1221471C (es) |
AT (1) | ATE295335T1 (es) |
CA (1) | CA2384288A1 (es) |
DE (2) | DE19943103A1 (es) |
DK (1) | DK1210294T3 (es) |
ES (1) | ES2240171T3 (es) |
PT (1) | PT1210294E (es) |
WO (1) | WO2001017902A1 (es) |
Families Citing this family (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6679945B2 (en) * | 2000-08-21 | 2004-01-20 | Degussa Ag | Pyrogenically prepared silicon dioxide |
DE10044163A1 (de) * | 2000-09-07 | 2002-04-04 | Wacker Chemie Gmbh | Elektrophoretisch nachverdichtete SiO2-Formkörper, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
DE10114484C2 (de) * | 2001-03-24 | 2003-10-16 | Heraeus Quarzglas | Verfahren für die Herstellung eines Komposit-Werkstoffs mit einem SiO¶2¶-Gehalt von mindestens 99 Gew.-%, und Verwendung des nach dem Verfahren erhaltenen Komposit-Werkstoffs |
DE10131494A1 (de) * | 2001-07-02 | 2003-05-28 | Nanogate Technologies Gmbh | Partikuläre Beschichtung |
DE10156137B4 (de) * | 2001-11-15 | 2004-08-19 | Wacker-Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Kieselglastiegels mit kristallinen Bereichen aus einem porösen Kieselglasgrünkörper |
DE10158521B4 (de) * | 2001-11-29 | 2005-06-02 | Wacker-Chemie Gmbh | In Teilbereichen oder vollständig verglaster SiO2-Formkörper und Verfahren zu seiner Herstellung |
WO2003072525A1 (de) * | 2002-02-28 | 2003-09-04 | Siemens Aktiengesellschaft | Keramische massen mit hohem feststoffanteil zur herstellung keramischer werkstoffe und produkte mit geringem schwund |
DE10211958A1 (de) | 2002-03-18 | 2003-10-16 | Wacker Chemie Gmbh | Hochreines Silica-Pulver, Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung |
DE10221498A1 (de) * | 2002-05-14 | 2003-12-04 | Basf Ag | Kondensatoren hoher Energiedichte |
DE10243954B3 (de) * | 2002-09-20 | 2004-07-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines opaken Quarzglas-Kompositwerkstoffs sowie Verwendung desselben |
WO2004048265A1 (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-10 | Nippon Aerosil Co., Ltd | 高濃度シリカスラリー |
DE10256267A1 (de) * | 2002-12-03 | 2004-06-24 | Degussa Ag | Dispersion, Streichfarbe und Aufnahmemedium |
DE10260320B4 (de) * | 2002-12-20 | 2006-03-30 | Wacker Chemie Ag | Verglaster SiO2-Formkörper, Verfahren zu seiner Herstellung und Vorrichtung |
DE10319300B4 (de) * | 2003-04-29 | 2006-03-30 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus Kieselglas |
JP2005053728A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Dsl Japan Co Ltd | 高吸油性および高い構造性を有する非晶質シリカ粒子 |
FR2858611B1 (fr) * | 2003-08-07 | 2006-11-24 | Saint Gobain Ct Recherches | Procede de fabrication d'une piece en silice amorphe frittee, moule et barbotine mis en oeuvre dans ce procede |
DE10339676A1 (de) * | 2003-08-28 | 2005-03-24 | Wacker-Chemie Gmbh | SiO2-Formkörper, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
JP2005097103A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co Kg | 複合材料からキャスティングを製造する方法とセラミックもしくはガラス質の複合材料のキャスティング |
DE10358065A1 (de) * | 2003-12-11 | 2005-07-28 | Wacker-Chemie Gmbh | Vorrichtung zur Herstellung von Fused Silica |
DE10360464A1 (de) * | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Wacker-Chemie Gmbh | Dispersion die mindestens 2 Arten von Partikeln enthält |
KR20120031242A (ko) * | 2004-05-04 | 2012-03-30 | 캐보트 코포레이션 | 원하는 응집체 입자 직경을 갖는 응집체 금속 산화물 입자 분산액의 제조 방법 |
DE102004030093A1 (de) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Degussa Ag | Metalloxid-Sol, damit hergestellte Schicht und Formkörper |
DE102004036602A1 (de) * | 2004-07-28 | 2006-03-23 | Degussa Ag | Hochgefüllte, wässerige Metalloxid-Dispersion |
KR100843057B1 (ko) | 2004-07-28 | 2008-07-01 | 에보니크 데구사 게엠베하 | 고도로 충전된 수성 금속 산화물 분산액 |
US20060141486A1 (en) * | 2004-12-29 | 2006-06-29 | Coonan Everett W | Porous substrates and arrays comprising the same |
AT504168B1 (de) * | 2006-09-14 | 2008-08-15 | Montanuniv Leoben | Verfahren zur herstellung eines insbesondere porösen keramischen formkörpers und damit hergestellter formkörper |
DE102006046619A1 (de) * | 2006-09-29 | 2008-04-03 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Streichfähiger SiO2-Schlicker für die Herstellung von Quarzglas, Verfahren zur Herstellung von Quarzglas unter Einsatz des Schlickers |
DE102006052512A1 (de) * | 2006-11-06 | 2008-05-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von opakem Quarzglas, nach dem Verfahren erhaltenes Halbzeug sowie daraus hergestelltes Bauteil |
DE102006058800A1 (de) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Katalysatoren und deren Verwendung für die Gasphasenoxidation von Olefinen |
DE102006058799A1 (de) | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von stabilen Binder-freien hochreinen Formkörpern aus Metalloxiden und deren Anwendung |
DE102006058813A1 (de) * | 2006-12-13 | 2008-06-19 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von stabilen, hochreinen Formkörpern aus pyrogenen Metalloxiden ohne Zusatz von Bindemitteln |
DE102008008219A1 (de) * | 2008-02-08 | 2009-10-01 | EMPA Eidgenössische Materialprüfungs-und Forschungsanstalt | Biokompatibles Bauteil und Verfahren zu dessen Herstellung |
JP2010100460A (ja) * | 2008-10-22 | 2010-05-06 | Olympus Corp | 光学素子の製造方法 |
JP5426224B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2014-02-26 | タテホ化学工業株式会社 | 寸法精度に優れたセラミック焼結体及びその製造方法 |
DE102009049032B3 (de) * | 2009-10-10 | 2011-03-24 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Bauteils aus Quarzglas |
US9308511B2 (en) | 2009-10-14 | 2016-04-12 | Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Of The State Of Arizona Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Fabricating porous materials using thixotropic gels |
US9242900B2 (en) | 2009-12-01 | 2016-01-26 | Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Of The State Of Arizona Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Porous geopolymer materials |
GB201006821D0 (en) | 2010-04-23 | 2010-06-09 | Element Six Production Pty Ltd | Polycrystalline superhard material |
US9365691B2 (en) | 2010-08-06 | 2016-06-14 | Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Of The State Of Arizona Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Fabricating porous materials using intrepenetrating inorganic-organic composite gels |
DE102011004744A1 (de) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Wacker Chemie Ag | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Gaskonzentration in einem strömenden Gasgemisch |
WO2012113670A1 (de) * | 2011-02-25 | 2012-08-30 | Evonik Degussa Gmbh | VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SiO2-FORMKÖRPERN |
WO2013044016A2 (en) | 2011-09-21 | 2013-03-28 | Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Of The State Of Arizona Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Geopolymer resin materials, geopolymer materials, and materials produced thereby |
DE102011120932A1 (de) | 2011-12-14 | 2013-06-20 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Verfahren für die Herstellung eines Quarzglasbauteils miteiner transparenten Oberflächenschicht |
US10370304B2 (en) | 2012-11-29 | 2019-08-06 | Corning Incorporated | Fused silica based cellular structures |
US10170759B2 (en) | 2013-06-21 | 2019-01-01 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Metal oxides from acidic solutions |
US9957431B2 (en) * | 2013-11-11 | 2018-05-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Composite material, heat-absorbing component, and method for producing the composite material |
WO2015191962A1 (en) | 2014-06-12 | 2015-12-17 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Carbon dioxide adsorbents |
EP2982780B1 (de) * | 2014-08-04 | 2019-12-11 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung eines siliziumblocks, zur verfahrensdurchführung geeignete kokille aus quarzglas oder quarzgut sowie verfahren für deren herstellung |
DE102015216505A1 (de) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | Wacker Chemie Ag | Silica Formkörper mit geringer thermischer Leitfähigkeit |
KR101774334B1 (ko) * | 2015-12-30 | 2017-09-04 | 서울벤처대학원대학교 산학협력단 | 다공성 복합 세라믹스의 제조방법 및 이에 의해 제조된 다공성 복합 세라믹스 |
US10562804B2 (en) | 2016-03-18 | 2020-02-18 | Corning Incorporated | Burner design for particle generation |
DE102016012003A1 (de) | 2016-10-06 | 2018-04-12 | Karlsruher Institut für Technologie | Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus hochreinem, transparentem Quarzglas mittels additiver Fertigung |
JP6878829B2 (ja) * | 2016-10-26 | 2021-06-02 | 東ソー株式会社 | シリカ粉末及び高流動性シリカ造粒粉末並びにその製造方法 |
US11111172B2 (en) * | 2016-11-30 | 2021-09-07 | Corning Incorporated | Basic additives for silica soot compacts and methods for forming optical quality glass |
EP3339256A1 (de) * | 2016-12-23 | 2018-06-27 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur herstellung von opakem quarzglas, und rohling aus dem opaken quarzglas |
US10829382B2 (en) | 2017-01-20 | 2020-11-10 | Skysong Innovations | Aluminosilicate nanorods |
CN107160748B (zh) * | 2017-05-24 | 2019-03-05 | 中国建筑材料科学研究总院 | 一种梯度隔热层及其制备方法和装置 |
JP7352769B2 (ja) * | 2018-10-05 | 2023-09-29 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 断熱材とその製造方法とそれを用いた電子機器と自動車 |
JP7157932B2 (ja) * | 2019-01-11 | 2022-10-21 | 株式会社Sumco | シリカガラスルツボの製造装置および製造方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5239049B1 (es) * | 1970-04-30 | 1977-10-03 | ||
CA965590A (en) | 1971-04-19 | 1975-04-08 | Walter W. Combs | Full density silica glass and process and apparatus for making same |
GB1428788A (en) | 1973-09-18 | 1976-03-17 | Rolls Royce | Method of producing a refractory article |
GB1466801A (en) | 1974-11-20 | 1977-03-09 | Rolls Royce | Method of manufacturing a refractory material containing fused silica and crystalline phase silica |
SE404412B (sv) * | 1975-09-18 | 1978-10-02 | Volvo Ab | Slitagevarnare vid en servomanovrerad lamellkoppling |
US4033780A (en) | 1976-04-26 | 1977-07-05 | Corning Glass Works | Method of enhancing the refractoriness of high purity fused silica |
US4047966A (en) | 1976-04-26 | 1977-09-13 | Corning Glass Works | Method of enhancing the refractoriness of high purity fused silica |
US4162179A (en) * | 1976-12-08 | 1979-07-24 | Campana Patsie C | Refractory article and method of making the same |
JPS60239337A (ja) | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光フアイバ−用ガラス母材の製造法 |
GB8427915D0 (en) | 1984-11-05 | 1984-12-12 | Tsl Thermal Syndicate Plc | Vitreous silica products |
US5053359A (en) | 1989-03-24 | 1991-10-01 | Pyromatics, Inc. | Cristobalite reinforcement of high silica glass |
US5389582A (en) | 1985-11-06 | 1995-02-14 | Loxley; Ted A. | Cristobalite reinforcement of quartz glass |
DE3739907A1 (de) * | 1987-11-25 | 1989-06-08 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von glaskoerpern |
DE3741393A1 (de) * | 1987-12-07 | 1989-06-15 | Siemens Ag | Verfahren zum herstellen von aus hochreinem sio(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts) bestehenden formkoerpern |
US4929579A (en) * | 1988-06-29 | 1990-05-29 | Premier Refractories & Chemicals Inc. | Method of manufacturing cast fused silica articles |
US5096865A (en) * | 1990-02-13 | 1992-03-17 | Ferro Corporation | High density fused silica process and product |
US5185020A (en) | 1990-08-27 | 1993-02-09 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing a silica-base material for optical fiber |
JPH05294610A (ja) | 1992-04-16 | 1993-11-09 | Tokuyama Soda Co Ltd | 非晶質シリカ成形体の製造方法 |
FR2691456B1 (fr) * | 1992-05-22 | 1994-08-19 | Produits Refractaires | Nouveau procédé de production d'un matériau réfractaire en silice vitreuse frittée, nouveau mélange de grains et particules de silice vitreuse, et nouveau matériau en silice vitreuse frittée. |
DE4338807C1 (de) * | 1993-11-12 | 1995-01-26 | Heraeus Quarzglas | Formkörper mit hohem Gehalt an Siliziumdioxid und Verfahren zur Herstellung solcher Formkörper |
IT1270628B (it) | 1994-10-06 | 1997-05-07 | Enichem Spa | Manufatti in ossido di silicio e/o altri ossidi metallici misti e procedimento per la loro preparazione in dimensioni finali o quasi finali |
US5655046A (en) | 1994-12-14 | 1997-08-05 | Nippon Telegraph And Telephone Corporation | Glass composition, optical fiber made of same, and method for preparing glasses |
WO1996035651A1 (en) * | 1995-05-10 | 1996-11-14 | Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. | High solids silicon nitride slurries |
US5980629A (en) | 1995-06-14 | 1999-11-09 | Memc Electronic Materials, Inc. | Methods for improving zero dislocation yield of single crystals |
US5578101A (en) | 1995-09-01 | 1996-11-26 | Lucent Technologies Inc. | Method of making a sol-gel glass body and removing same from mold |
JP3764776B2 (ja) | 1996-03-18 | 2006-04-12 | 信越石英株式会社 | 単結晶引き上げ用石英ガラスるつぼ及びその製造方法 |
FR2766170B1 (fr) | 1997-07-17 | 1999-09-24 | Alsthom Cge Alcatel | Procede ameliore de fabrication d'une poudre de silice |
KR100230457B1 (ko) | 1997-10-02 | 1999-11-15 | 윤종용 | 실리카 글래스 조성물 및 이를 이용한 실리카 글래스 제조방법 |
DE19750238A1 (de) * | 1997-11-13 | 1999-05-27 | Degussa | Preßlinge auf Basis von pyrogen hergestelltem Siliciumdioxid |
-
1999
- 1999-09-09 DE DE19943103A patent/DE19943103A1/de not_active Ceased
-
2000
- 2000-09-07 CN CNB00812728XA patent/CN1221471C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-09-07 AT AT00965941T patent/ATE295335T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-09-07 WO PCT/EP2000/008752 patent/WO2001017902A1/de active IP Right Grant
- 2000-09-07 EP EP00965941A patent/EP1210294B1/de not_active Revoked
- 2000-09-07 ES ES00965941T patent/ES2240171T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-09-07 PT PT00965941T patent/PT1210294E/pt unknown
- 2000-09-07 US US10/070,082 patent/US6699808B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-09-07 DK DK00965941T patent/DK1210294T3/da active
- 2000-09-07 DE DE50010303T patent/DE50010303D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-09-07 CA CA002384288A patent/CA2384288A1/en not_active Abandoned
- 2000-09-07 CN CNA2005100992830A patent/CN1736861A/zh active Pending
- 2000-09-07 JP JP2001521652A patent/JP2003508334A/ja active Pending
- 2000-09-07 EP EP04020910A patent/EP1506947A3/en not_active Withdrawn
- 2000-09-07 KR KR10-2002-7003144A patent/KR100517814B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003508334A (ja) | 2003-03-04 |
CN1373737A (zh) | 2002-10-09 |
EP1210294A1 (de) | 2002-06-05 |
EP1210294B1 (de) | 2005-05-11 |
EP1506947A3 (en) | 2005-03-02 |
DK1210294T3 (da) | 2005-08-15 |
EP1506947A2 (de) | 2005-02-16 |
ATE295335T1 (de) | 2005-05-15 |
DE50010303D1 (de) | 2005-06-16 |
CA2384288A1 (en) | 2001-03-15 |
DE19943103A1 (de) | 2001-03-15 |
KR20020048402A (ko) | 2002-06-22 |
US6699808B1 (en) | 2004-03-02 |
WO2001017902A1 (de) | 2001-03-15 |
CN1736861A (zh) | 2006-02-22 |
PT1210294E (pt) | 2005-08-31 |
KR100517814B1 (ko) | 2005-09-29 |
CN1221471C (zh) | 2005-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2240171T3 (es) | Dispersion de sio2 cargada en alto grado, procedimiento para su prepa racion y utilizacion. | |
JP4188194B2 (ja) | 膨脹可能な微細球とプレセラミックポリマーから製造される高気孔率の多孔質セラミックス及びその製造方法 | |
JP2001072427A (ja) | 焼結材料 | |
KR100533101B1 (ko) | 전기영동에 의해 고밀도화된 실리콘 디옥사이드 성형체 및, 그 제조방법과 용도 | |
TW200424141A (en) | Method for the production of a shaped silica glass body | |
JPS61227925A (ja) | ガラス物体を製造する方法および装置 | |
EP1445243A1 (en) | Process for producing silicon carbide sinter and silicon carbide sinter obtained by the process | |
ES2360018T3 (es) | Procesos de sol-gel para producir artículos monolíticos de sílice vítrea. | |
KR101165612B1 (ko) | 수증기를 발포제로 사용하여 제조된 열린 기공구조를 갖는 다공질 세라믹스 및 그 제조방법 | |
JP2007504073A (ja) | SiO2成形体、その製造法および該成形体の使用 | |
Young-Wook et al. | Fabrication of porous silicon oxycarbide ceramics by foaming polymer liquid and compression molding | |
KR100483512B1 (ko) | 다공성 세라믹 필터 및 그 제조 방법 | |
JP2008308373A (ja) | 高耐久性炭化ケイ素焼結体及びその製造方法。 | |
TW565536B (en) | Manufacturing method of quartz glass component | |
KR100291068B1 (ko) | 반응소결 탄화규소 제조용 복합성형체의 제조방법 | |
Kim et al. | Fine-structured ZnO patterns with sub-micrometer on the ceramic surface fabricated by a replication method | |
US8713966B2 (en) | Refractory vessels and methods for forming same | |
JPH1121139A (ja) | 発泡石英ガラスの製造方法 | |
JP2747630B2 (ja) | 繊維強化セラミック成形体 | |
JP2003201187A (ja) | 酸化珪素からなる多孔体及びその製造方法 | |
Park et al. | Development of a new forming method (pressureless powder packing forming method) and its characteristics | |
JP2006076864A (ja) | 炭化ケイ素多孔体及びその製造方法 | |
Hiratsuka et al. | Fabrication and Evaluation of Transparent Amorphous SiO2 Sintered Body through Floc‐Casting | |
JP2005263500A (ja) | セラミック素材の成形方法 | |
JP2005053716A (ja) | セラミックス成形体の製造方法 |