DE971806C - Galvanische Vernickelung - Google Patents
Galvanische VernickelungInfo
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- DE971806C DE971806C DEU623A DEU0000623A DE971806C DE 971806 C DE971806 C DE 971806C DE U623 A DEU623 A DE U623A DE U0000623 A DEU0000623 A DE U0000623A DE 971806 C DE971806 C DE 971806C
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
- C25D3/18—Heterocyclic compounds
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Description
Erteilt auf Grund des Ersten Oberleitungsgesetzes vom 8. Juli 1949
(WiGBl. S. 175)
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
AUSGEGEBEN AM 2. APRIL 1959
DEUTSCHES PATENTAMT
PATENTSCHRIFT
KLASSE 48 a GRUPPE 6o5 INTERNAT. KLASSE C 23 b
U623 VI/48 a
Henry Brown, Detroit, Mich. (V. St. A.)
ist als Erfinder genannt worden
The Udylite Corporation, Detroit, Mich. (V. St. A.) Galvanische Vernickelung
Patentiert im Gebiet der Bundesrepublik Deutschland vom 24. September 1950 an
Patentanmeldung bekanntgemacht am 3. April 1952 Patenterteilung bekanntgemacht am 19. März 1959
Die Priorität der Anmeldung in den V. St. v. Amerika vom 9. April 1945, 20. April 1946 und 17. Juli 1950
ist in Anspruch genommen
Die Erfindung bezieht sich auf Verbesserungen für die Durchführung galvanischer Vernicklungen mit
Hilfe wäßriger saurer Bäder. Die Erfindung betrifft insbesondere die Anwendung von Gemischen bestimmter
Agens-Arten zu dem Zweck, die Korngröße zu verringern und den Glanz der Nickelplattierung
oder des Nickelniederschlages zu steigern; besonders befaßt sich die Erfindung mit der Herstellung von
galvanischen Niederschlägen von strahlend hellen, stark glänzenden, zähen Nickelschichten.
Es wurde festgestellt, daß die vorgenannten, äußerst wünschenswerten Ergebnisse erzielbar sind, wenn in
dem galvanischen Nickelbad ein Agens der in der nachstehenden Tabelle I (welches als solches zugesetzt
oder erst im Bad gebildet wird) gleichzeitig mit einem Agens von der in der nachstehenden Tabelle II beispielsweise
angegebenen Art verwendet wird. Es können auch jeweils mehrere der in den Tabellen I
und II genannten Mittel Anwendung finden.
Die Mittel der Tabelle I sind Beispiele der Klasse von Verbindungen, die für die Ausübung der vorliegenden
Erfindung als zweckmäßig befunden wurden; sie entsprechen den Formeln
/x/
N A R
A R
Vn
A R
Aist ein Anion einer wasserlöslichen Säure; Rist
ein aliphatisches Radikal, welches zwischen ι und 4, insbesondere zwischen 1 und 3 Kohlenstoffatome ent-
809 762/41
hält; R' ist ein Halogen, wie z. B. Chlor, Brom und Jod (dem Chlor und Brom kommt eine besondere
Bedeutung zu); χ hat eine Größe von ο bis 2, C bedeutet ein Methyl- oder Äthylradikal bzw. eine
Methyl- oder Äthylgruppe. Das aliphatische Radikal R umfaßt sowohl gesättigte wie ungesättigte Radikale
und schließt nicht nur Kohlenwasserstoffradikale, wie Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Butyl- und Vinylradikale,
ein, sondern auch Hydroxyl-alkylradikale, wie z. B. Hydroxyl-methyl-, 2-Äthanol- und 3-Propanol und
Radikale, welche Esterverkettungen enthalten, wie z. B. die Methyl-acetat- und Äthyl-acetatradikale.
Besonders vorteilhaft sind diejenigen Verbindungen, wobei der Stickstoff enthaltende Ring oder Doppelring
aus2-Methyl-chinolin, 8-Methyl-chinolin, 2,6-Dimethylchinolin,
Isochinolin und 3-Methyl-isochinolin besteht und R durch das Allyl- oder Methyl-acetatradikal
gebildet wird; besonders hervorragend sind N-Allylpyridinbromid,
N - Allyl - 2 - methyl - pyridinbromid, N-Methyl-acetat^-methyl-chinolinchlorid, N-Methylacetat^.ö-dimethyl-chinolinchlorid,
N-Allyl-isochinolinbromid, N - Allyl - 3 - methyl - isochinolinchlorid,
N-Methyl-acetat-isochinolinchlorid, N-Methyl-acetat-3-methyl-isocMnolinchlorid;
auch Mischungen von zwei oder mehr der vorgenannten Verbindungen liefern besonders gute Ergebnisse.
Das durch A dargestellte Anion kann sehr mannigfacher Art sein, z. B. Chlor, Brom, Jod, Sulfat,
Methosulfat (CH3-SO4), Acetat, Citrat und Tartrat.
Besonders wünschenswert sind die Verbindungen, wobei A von Brom oder Chlor gebildet wird.
Wie bereits angegeben wurde, ist R' ein Halogen, und da χ die Werte o, 1 oder 2 annehmen kann, können
die Verbindungen eine oder zwei Halogengruppen enthalten; wenn χ gleich ο ist, fehlt ein Substituent für
den Kern. Sehr gute Ergebnisse sind mit Verbindungen erzielt worden, bei denen χ den Wert 0 hatte, oder
wo R' aus Chlor oder Brom besteht und χ gleich 1 ist.
Die besonderen Arten von Pyridinverbindungen, Chinolinverbindungen und Isochinolinverbindungen,
welche erfindungsgemäß Verwendung finden, können einzeln durch folgende Formern dargestellt werden:
R'
Isochinolinverbindungen
(
/X
/X
A'' R
Pyridinverbindungen
/X/
N ■"
A R
A R
Chinolinverbindungen
Bei den genannten Verbindungen haben die Buchstäben A, R, R' und χ die früher erläuterteBedeutung.
In allen Fällen zeigt die von dem Radikal R' ausgehende Verbindung an, daß dieses Radikal an irgendeiner
Stelle des Rings des Pyridin-chinolin- oder Isochinolinradikals ersetzt werden kann. Die Verbindüngen
können nach bekannten Vorgängen hergestellt werden, indem man Pyridin, Chinolin, Isochinolin
sowie deren C-Methyl- und Äthylhomologe und ihre halogensubstituierten Produkte mit Alkyl-alkenyl und
anderen Haliden u. dgl., wie z. B. Äthyl-bromid, Allylchlorid, Allylbromid, Methyl-chloracetat, Äthyl-chloracetat,
Allyl-chloracetat, Äthylen-chlorhydrin, Tertiärbutylbromid,
Äthylenbromhydrin, Propylen-chlorhydrin, Epichlorhydrinund Dimethyl-sulf at in Reaktion
bringt.
Ganz hervorragenden Gebrauchswert haben unter anderem N-AUyl-pyridinbrornid oder -chlorid und
N-Allyl-chinolinbromid oder -chlorid sowie deren
Mischungen in einem Verhältnis von etwa 2:1 bis etwa ι: 2 der erwähnten Pyridinverbindungen zu
den erwähnten Chinolinverbindungen. Die bevorzugte N-AlLyl-chinolinverbindung ist das N-Allyl-2-methylchinolinbromid"oder
-chlorid (N-Allyl-chinaldinbromid oder -chlorid).
TabeUe I
Verbindung
Optimale Konzentration
17· 18. 19.
20. 21. 22.
25.
26. 27.
28.
29· 30. N-AEyl-pyridinbromid
N-Allyl-chinolinbromid
N-Allyl-isochinohnbromid
N-(/3-Oxäthyl)-pyridinchlorid
N-(^-Oxäthyl)-a-chloro-pyridin-
chlorid
N-Äthyl-pyridinsulfat
N-Propyl-pyridinj odid
N-Äthyl-2,4-dimethyl-pyridin-
N-Propyl-pyridinj odid
N-Äthyl-2,4-dimethyl-pyridin-
sulfat
N-Äthyl-2-bromo-pyridinj odid
N-Methyl-chinolinsulfat
N-Äthyl-chinolinbromid
N-Äthyl-2-methyl-chinolin-
N-Methyl-chinolinsulfat
N-Äthyl-chinolinbromid
N-Äthyl-2-methyl-chinolin-
bromid
N-(jS-Oxäthyl)-chinoHnchlorid
N-Propanol-chinolinchlorid
N-Allyl-2,6-dimethyl-chinolin-
N-Propanol-chinolinchlorid
N-Allyl-2,6-dimethyl-chinolin-
bromid
N-Äthyl-2-methyl-chinolin-
N-Äthyl-2-methyl-chinolin-
chlorid
N-Allyl-2-bromo-chinoUnbromid
N-Allyl-ö-bromo-chinoUnbromid
N-(^-Oxäthyl)-isochinolinchlorid
N-Äthyl-isocninolinbromid
N-Methyl-acetat-chinolinchlorid
N-Allyl-2-methyl-pyridinbromid
N-Allyl-4-bromo-pyridinchlorid
N-Allyl^^-dimethyl-chinolin-
N-Allyl-ö-bromo-chinoUnbromid
N-(^-Oxäthyl)-isochinolinchlorid
N-Äthyl-isocninolinbromid
N-Methyl-acetat-chinolinchlorid
N-Allyl-2-methyl-pyridinbromid
N-Allyl-4-bromo-pyridinchlorid
N-Allyl^^-dimethyl-chinolin-
bromid
N-AUyl^^-dichloro-chinolin-
N-AUyl^^-dichloro-chinolin-
bromid
N-Allyl-4-äthyl-pyridinbromid
N-AUyl^S-dimethyl-chinolin-
N-AUyl^S-dimethyl-chinolin-
chlorid
N-Allyl-SjS-dimethyl-chinolin-
N-Allyl-SjS-dimethyl-chinolin-
bromid.
N-Allyl-3-äthyl-pyridinbromid
N-Allyl-i^-dimethyl-Isochinolin-
N-Allyl-i^-dimethyl-Isochinolin-
bromid
N-Allyl-3-methyl-pyridinchlorid
N-Allyl-3-methyl-pyridinchlorid
ο,οΐ bis 0,08 0,01 bis 0,04
0,005 bis 0,04 0,01 bis 0,08
0,01 bis 0,08 0,01 bis 0,08 0,01 bis 0,08
0,01 bis 0,08
0,01 bis 0,08
0,01 bis 0,04
0,01 bis 0,04
0,003 bis 0,04 0,01 bis 0,04 0,003 bis 0,03
0,003 bis 0,04
0,01 bis 0,04 0,01 bis 0,04 0,01 bis 0,04
0,005 bis 0,04 0,01 bis 0,04 no 0,005 bis 0,03
0,01 bis 0,08 0,01 bis 0,08
0,005 bis 0,04
0,01 bis 0,04 0,01 bis 0,08
0,01 bis 0,03 lao
ο,οΐ bis 0,04 0,01 bis 0,08
0,003 bis 0,04 0,01 bis 0,04
Nr. | Verbindung | Optimale | bis 0,08 | |
32. | N-Allyl-2-methyl-4-äthyl- | Konzentration g/i |
||
5 | pyridinchlorid | bis 0,08 | ||
33· | N-Allyl-2-methyl-4-äthyl- | 0,01 | bis 0,04 | |
pyridinbromid | ||||
34· | N-AUyl-8-methyl-chinolinchlorid | 0,01 | bis 0,08 | |
N-Allyl-2,4-dimethyl-pyridin- | 0,01 | |||
10 | bromid | bis 0,04 | ||
N-Allyl-3-chloro-2-methyl- | 0,01 | |||
chinolinchlorid | bis 0,04 | |||
37· | N-Allyl-s-bromo-^-methyl- | 0,01 | bis 0,08 | |
chinolinbromid | bis 0,04 | |||
15 | 38. | N-Methallyl-pyridinbromid | 0,01 | bis 0,08 |
39· | N-Methallyl-chinolinbromid | 0,01 | bis 0,04 | |
40. | N-Methallyl-pyridinchlorid | 0,01 | bis 0,04 | |
41. | N-Methallyl-chinolinchlorid | 0,01 | ||
42. | N-Methallyl-isochinolinchlorid | 0,01 | bis 0,08 | |
20 | 43· | N-Methallyl-2-methyl-pyridin- | 0,01 | bis 0,08 |
chlorid | bis 0,08 | |||
44· | N-Allyl-3-bromo-pyridinbromid | 0,01 | ||
45· | N-Allyl-2-chloro-pyridinbromid | 0,01 | bis 0,04 | |
46. | N-Allyl-3-methyl-isochinolin- | 0,01 | bis 0,04 | |
25 | bromid | |||
47· | N-Allyl-8-methyl-chinolinbromid | 0,01 | bis 0,04 | |
48. | N-Äthyl-acetat-2-methyl- | 0,01 | bis 0,04 | |
chinolinchlorid | bis 0,05 | |||
49· | N-Butyl-chinolinchlorid | 0,01 | bis 0,05 | |
30 | 50. | N-Butyl-2-methyl-pyridinchlorid | 0,01 | bis 0,05 |
5i- | N-4-Tertiär-butyl-pyridinbromid | 0,01 | bis 0,04 | |
52. | N-4-Tertiär-butyl-chinolinbromid | 0,01 | bis 0,04 | |
53- | N-Butyl-2-methyl-chinolinchlorid | 0,01 | bis 0,04 | |
54· | N-Butyl-8-methyl-chinolinchlorid | 0,01 | ||
35 | 55· | N-Butyl-isochinolinchlorid | 0,01 | bis 0,04 |
56. | N-Butyl-3-methyl-isochinilin- | 0,01 | bis 0,04 | |
bromid | ||||
57· | N-Allyl-2-methyl-chinolinbromid | 0,01 | bis 0,20 | |
58. | N-Methyl-acetat-2-methyl- | 0,001 | bis 0,15 | |
40 | pyridinchlorid | bis 0,15 | ||
59· | N-Äthyl-acetat-pyridinchlorid | 0,01 | ||
60. | N-Methyl-acetat-pyridinchlorid | 0,01 | ||
0,01 | ||||
Die Mittel der Tabelle II sind Beispiele der Klasse von Verbindungen, welche im Verein mit den Mitteln
der Tabelle I verwendet werden, um die Erfindung praktisch auszuführen. Die Mittel der Tabelle II fallen
in die Kategorie organischer Sulfonamide, Sulfonimide und Sulfonsäuren. Sie sind bisher als Glanzgeber bei
galvanischen Nickelbädern benutzt worden, wie es beispielsweise in den USA.-Patentschriften 2191813
und 2466677 angegeben worden ist. Bei der Ausübung der vorliegenden Erfindung findet eine ihrer Natur
nach nicht bekannte Zusammenwirkung in dem Kathodenfilm statt, woran die Verbindungen der
in Tabelle I aufgeführten Art und das organische schwefelhaltige Glänzmittel, welches die ungewöhnlichen
und sehr bedeutsamen Ergebnisse liefert, die sich mit der Erfindung erzielen lassen, beteiligt sind.
In diesem Zusammenhang sei bemerkt, daß die Verwendung der Mittel oder Verbindungen der in der
Tabelle I enthaltenen Art oder die Verwendung der organischen schwefelhaltigen Glanzgeber für sich
allein kein Anzeichen dafür liefert, daß erheblich gesteigerte Ergebnisse erzielt werden können, wenn
beide Arten von Verbindungen in dem Bad vertreten sind, und zwar insbesondere, wenn diese Verbindungen
in optimaler Konzentration Anwendung finden. Es ist im allgemeinen wünschenswert, Mischungen von
zwei oder mehr der genannten schwefelhaltigen Glanzgeber zu verwenden, wie z. B. o-Benzoyl-sulfimid und
p-Toluol-sulfonamid.
Schwefelhaltige Glanzgeber | Optimale | 3 | |
Nr. | Benzol-sulfonamid | Konzen tration g/l |
2 |
I. | Toluol-sulfonamid (0- und p-) | 0,1 bis | 2 |
2. | o-Benzoyl-sulfimid | 0,1 bis | I |
3· | N-Benzoyl-benzol-sulfonimid | 0,1 bis | I |
4· | p-Toluol-sulfochloramid | 0,1 bis | I |
5· | p-Brom-benzol-sulfonamid | 0,1 bis | I |
6. | 6-Chlor-o-benzoyl-sulfimid | 0,1 bis | I |
7· | m-Aldehyd-benzol-sulfonamid | 0,1 bis | 6 |
8. | Sulfomethyl-benzol-sulfonamid | 0,1 bis | |
9· | Benzol-sulfonamid-m-karboxyl- | 0,1 bis | 3 |
10. | amid | 3 | |
7-Aldehyd-o-benzoyl-sulfimid | 0,1 bis | 2 | |
II. | N-Acetyl-benzol-sulfonimid | 0,1 bis | I |
12. | Methoxy-benzol-sulfonamid | 0,1 bis | 2 |
13· | Hydroxymethyl-benzol-sulfonamid | 0,1 bis | 12 |
14. | Vinyl-sulfonamid | 0,1 bis | 12 |
15· | Allyl-sulfonamid | 4 bis | |
16. | Benzol-sulfonsäuren (mono-, di- | 4 bis | 15 |
17· | und tri-) | 6 | |
p-Brom-benzol-sulfonsäure | ι bis | 6 | |
18. | Benzaldehyd-sulfonsäuren(o-,m-,p-) | 3 bis | 8 |
19. | Diphenyl-sulfon-sulfonsäure | 2 bis | |
20. | Naphthalin-sulfonsäuren (mono-, | ι bis | 8 |
21. | di- und tri-) | 5 | |
Benzol-sulfohydroxaminsäure | ι bis | 15 | |
22. | p-Chlor-benzol-sulfonsäure | ι bis | 15 |
23· | Diphenyl-sulfonsäure | ι bis | 4 |
24. | m-Diphenyl-benzol-sulfonsäure | ι bis | 5 |
25· | 2-Chlor-5-sulfobenzaldehyd | ι bis | I |
26. | m-Benzol-disulfonamid | ι bis | 12 |
27. | Allyl-sulfonsäure | 0,5 bis | |
28. | 4 bis | ||
Es ist verständlich, daß die genannten schwefelhaltigen Glanzgeber in ihrer Säureform oder in Form
von Salzen, wie z. B. Nickel-Natrium-Kalium- oder anderer Salze Verwendung finden können. Für die
praktische Anwendung der Erfindung liefern diejenigen Verbindungen besonders befriedigende Ergebnisse,
welche in der Tabelle II den Nummern 1,2,3,18,19,21
und 28 entsprechen, letztere insbesondere in der Form ihrer Nickelsalze.
Wenn im folgenden von Sulfonsäuren die Rede ist, so sind darunter in gleicher Weise auch deren Salze
zu verstehen.
971 sea
Wenn die Verbindungen nach Tabelle II allein verwendet werden, so liefern sie auf hochpolierten
Metallen, z. B. Messing, ziemlich glänzende Niederschläge. Die gleichen Ergebnisse lassen sich, zumindest
normalerweise, nicht auf Stahl erzielen, welcher mit i8oer-Schmirgel poliert ist, oder auf stumpfen, aber
ungebranntenKupferplatten von 0,0076 bis o,oi27m/m Stärke; in den letztgenannten Fällen liefern die Verbindungen
Niederschläge von etwas mattem und grauem Aussehen. Wenn die Verbindungen nach Tabelle I für sich allein in gewöhnlicher Weise verwendet
werden, so liefern sie eine Niederschlagsart, die von derjenigen abweicht, die mit Hilfe der Verbindungen
der Tabelle II erzielbar sind. Die unter ausschließlicher Verwendung von Verbindungen nach
Tabelle I hergestellten Niederschläge sind bei sehr niedrigen Konzentrationen feinkörnig und wolkig; bei
höheren Konzentrationen sind die Niederschläge ziemlich dunkel, spröde, leicht fleckig und haben
schlechte Hafteigenschaften. Wenn aber die zwei unterschiedlichen Arten von Verbindungen gemäß
Tabellen I und II zusammen in den Bädern Verwendung finden, wie es oben angegeben wurde, so werden hell
leuchtende, spiegelähnliche, festhaftende und zähe Niederschläge erhalten, und zwar selbst auf stumpfen
Flächen.
Die Verbindungennach Tabelle I sind im allgemeinen in den üblichen galvanischen Nickelbädern gut löslich.
Nur geringe Anteile der genannten Verbindungen oder deren Mischungen sind erforderlich, um die vorgenannten
Ergebnisse zu erzielen. Im allgemeinen werden Zugaben im Bereich von etwa 0,003 bis etwa
0,04 g/l von den Chinolin- und Isochinolinverbindungen und im Bereich von etwa 0,01 bis etwa 0,15 g/l
von den Pyridinverbindungen oder Mischungen der genannten Verbindungen im gewöhnlichen Fall höchst
wirksam sein, wenn auch, insbesondere bei den wirksameren Verbindungen, selbst Anteile bis herunter zu
0,001 g/l gute Ergebnisse liefern. Selbst bei Verwendung
weniger wirksamer Pyridinverbindungen wird es selten notwendig sein, über etwa 0,2 g/l hinauszugehen.
Als allgemeine Regel kann gelten, daß die optimale Konzentration der Chinolin- und Isochinolinverbindungen
in dem Bereich von etwa 0,005 bis etwa 0,03 g/l liegt, und die optimale Konzentration der
Pyridinverbindungen besteht innerhalb des Bereiches von etwa 0,03 bis etwa 0,1 g/l.
Die Verbindungen nach Tabelle II werden ebenfalls in kleinen Mengen verwendet, und zwar zusammen
mit den Verbindungen der Tabelle I; Mengen in der Größenordnung von etwa 0,1 bis 2 oder 3 g/l haben sich
für normale Fälle als wirksam erwiesen. Es lassen sich jedoch höhere Anteile bis zur Sättigungsgrenze anwenden.
Gewöhnlich ist es aber nicht nötig, über etwa 0,5 °/o hinauszugehen.
Die optimale Konzentration der Verbindungen nach
Tabellen I und II kann für irgendein spezielles Beispiel rasch festgestellt werden, und zwar durch eine einfache
Prüfung hinsichtlich des verwendeten besonderen Nickelbades, seiner Temperatur, seines pn-Wertes usw.
Die wäßrigen galvanischen Nickelbäder können
verschiedener Art sein; in allen Fällen haben sie aber sauren Charakter. Bevorzugt sind die Bäder von der
sogenannten sauren »grauen« Type, welche in der Lage sind, dicke, festhaftende, zähe Niederschläge zu erzeugen.
Die Bäder.von der Watt-Type oder Abwandlungen davon sind besonders wünschenswert. Die
Nickelsalze können Nickelchlorid, Nickelsulfat, Nickelfluorborat, Nickelsulfamat oder andere Nickelsalze
oder deren beliebige Mischungen umfassen, und zwar vorzugsweise im Verein mit Pufferstoffen, wie z. B.
Borsäure. Die Verwendung von Borsäure bei dem Bad empfiehlt sich deshalb, weil sie im allgemeinen das
beste Mittel für die Steuerung der Azidität des Kathodenfilms darstellt. Andere Steuermittel von
saurem Charakter können jedoch benutzt werden, wie z. B. Ameisensäure, Zitronensäure, Fluorborsäure
u. dgl.; diese Säuren können entweder an Stelle von Borsäure oder im Verein mit Borsäure Verwendung
finden. Zur Erzielung optimaler Ergebnisse sollte die Konzentration der Borsäure oder ihres Äquivalentes
oberhalb 30 g/l liegen, insbesondere bei Bädern, die bei etwas erhöhten Temperaturen betrieben werden. Die
Bäder können auch verschiedene zusätzliche Mittel enthalten, wie z. B. Mittel, welche der Anfressung und
Narbenbildung entgegenwirken.
Die Bäder können bei Temperaturen betrieben werden, die zwischen Raumtemperatur und nahezu
Kochtemperatur liegen; im allgemeinen aber empfiehlt sich eine Temperatur zwischen etwa 40 und 650C. Im
allgemeinen können die Bäder bei pn-Werten betrieben werden, die von etwa 2 bis etwa 5,5 liegen; gewöhnlich
aber werden ρπ-Werte von 2,5 bis 4,8 bevorzugt. Die Kathodenstromdichte kann zwischen weiten Grenzen
schwanken; ein Bereich von etwa 0,005 bis zu 0,108 Ampere/cm2 oder ein Mehrfaches davon ist verfügbar,
wobei das jeweilige Optimum von dem Rührvorgang, der Temperatur, Konzentration und Art der für das
Bad verwendeten Nickelsalze abhängt. Ein günstiger Arbeitsbereich ist etwa 0,0216 bis etwa o,o86Ampere/
cm2. In der Tabelle II sind bevorzugte Badzusammensetzungen
angegeben. Es ist verständlich, daß es von Zeit zu Zeit notwendig ist, das Bad zu ergänzen, um
Verluste auszugleichen, die durch die kathodischen Vorgänge, die Benetzung der Werkstücke und andere
Ursachen bedingt sind, damit die Konzentrationen der zugefügten Verbindungen usw. in den richtigen Verhältnissen
aufrechterhalten werden.
Zur Vervollständigung des Standes der Technik sei noch erwähnt, daß es beispielsweise durch das ältere
deutsche Patent 692 766 des Erfinders bereits bekannt ist, die kornverfeinernde Wirkung des Zusatzes von
Sulfonamid- und Sulfonimidverbindungen in Nickelbädern durch gleichzeitigen Zusatz anderer organischer
Verbindungen wie Carbonylderivaten und Netzmitteln zu verbessern. Weiterhin ist es auch bekannt, die
glanzbildende Wirkung einerseits von Chinolinderivaten und andererseits von verschiedenen Sulfonsäuren
für galvanische Nickelbäder auszunutzen. Eine gleichzeitige Verwendung der beiden in der vorliegenden
Beschreibung und im Patentanspruch I gekennzeichneten Verbindungsgruppen ab Glanzmittel
ist bisher jedoch noch nicht bekanntgeworden.
Ferner sind aus der USA.-Patentschrift 2 315 802 Nickelbäder bekannt, die als einen Glanz herstellende
Wirkstoffe Sulfoverbindungen in Verbindung mit
g | NiSO4- 6HSO | NiCl2- 6HjO | 45 | Ni (BF1), | H5BO1 | 40 | Tabelle III | PH | Stromdichte | Zusatzmittel | |
Bad | 9 7ί | g/l | 8/1 | g/l | g/l | Temperatur | 2 bis 6 | Ampere/cm2 | g/l | ||
Nr. | ro | 200 bis 300 | 300 | 40 | 0C | 0,0108 bis 0,0807 | •J-Allyl-pyridinbromid — 0,04 | ||||
I | 24 bis 71 | ι bis 5 | o-Benzoyl-suifimid — 1 | ||||||||
0,0108 bis 0,108 | ■«I-Allyl-chinolinbromid — 0,03 | ||||||||||
2 | 100 bis 250 | 40 | 24 bis 71 | 3enzol-sulfonamide — 2 | |||||||
1,5 bis 6 | o-Benzoyl-sulfimid — 2 | ||||||||||
50 bis 200 | 0,0108 bis 0,0915 | N-Allyl-2-methyl-pyridinbromid — 0,04 | |||||||||
3 | 45 bis 75 | 40 bis 50 | 24 bis 71 | >Toluol-sulfonamid —1,5 | |||||||
2 bis 6 | o-Benzoyl-sulfimid — 0,4 bis 2 | ||||||||||
200 bis 300 | 45 bis 100 | 4 bis 8 | 40 bis zur | 0,0108 bis 0,0807 | Si-Allyl-8-methyl-chinolinchlorid — 0,03 | ||||||
4 | Sättigung | 24 bis 71 | 2 bis 6 | Benzol-sulfonamid — 2 | |||||||
200 bis 300 | 45 bis 100 | 8 bis 50 | 40 bis zur | 0,0108 bis 0,0915 | Sf-Allyl-isochinolinbromid — 0,01 bis 0,03 | ||||||
5 | Sättigung | 24 bis 71 | 2 bis 6 | o-Benzoyl-sulfimid — 2 | |||||||
50 bis 100 | 8 bis 100 | 0,0108 bis 0,0915 | N-Äthyl-chinolinbromid — 0,03 | ||||||||
6 | 45 bis 100 | 40 bis zur | 24 bis 71 | o-Benzoyl-sulfimid — 1 | |||||||
Sättigung | 2 bis 6 | p-Toluol-sulfonamid — 1 | |||||||||
50 bis 150 | 0,0108 bis 0,108 | N-Methallyl-pyridinbromid — 0,03 | |||||||||
7 | 100 bis 150 | 40 bis 50 | 24 bis 71 | o-Benzoyl-sulfimid — 1 | |||||||
2 bis 6 | Benzol-sulfonamid — 1 | ||||||||||
200 bis 250 | 8 bis 15 | 0,0108 bis 0,0915 | N-Allyl-2-methyl-pyridinbromid — 0,03 | ||||||||
8 | 0 bis zur | 24 bis 71 | N-Allyl-chinolinbromid — 0,003 | ||||||||
Sättigung | 4 bis 5 | Benzaldehyd-sulfonsäure — 3 bis 8 | |||||||||
100 bis 300 | 0,0108 bis 0,216 | N-Allyl-pyridinbromid — 0,03 | |||||||||
9 | 100 bis 75 | 40 | 24 bis 71 | N-Allyl-2-methyl-pyridinbromid — 0,02 | |||||||
3 bis 4,5 | Naphthalin-sulfonsäuren 3 bis 6 | ||||||||||
200 bis 300 | 200 bis 100 | 40 | 0,043 bis 0,0646 | N-Äthanol-chinolmchlorid — 0,002 bis 0,020 | |||||||
IO | 43 bis 60 | 3 bis 4,5 | Allyl-sulfonsäure — 6 | ||||||||
100 bis 200 | 0,043 bis 0,0646 | N-Äthyl-2,6-dimethyl-chinolinjodid 0,002biso,O2O | |||||||||
II | 60 | 40 | 43 bis 60 | o-Benzoyl-sulfimid — 1 | |||||||
2,5 bis 4,8 | p-Toluol-sulfonamid — 1 | ||||||||||
300 | 0,043 bis 0,0646 | N-Allyl-2-methyl-chinolinbromid — 0,003 | |||||||||
12 | 21 bis 71 | N-Methyl-acetat-2-methyl-chinolinchlorid | |||||||||
— 0,01 bis 0,02 | |||||||||||
50 bis 75 | 40 | p-Toluol-sulfonamid — 1 bis 3 | |||||||||
2,5 bis 4,8 | o-Benzoyl-sulfimid — 1 bis 3 | ||||||||||
225 | 0,043 bis 0,0646 | N-Allyl^-methyl-isochinolinchlorid — 0,004 bis 0,02 | |||||||||
13 | 60 | 40 | 21 bis 71 | Benzol-sulfonamid — 2 | |||||||
2,5 bis 4,8 | o-Benzoylsulfimid — 2 | ||||||||||
300 | 0,043 bis 0,0646 | N-Allyl-2-methyl-chinolinbromid — 0,01 bis 0,02 | |||||||||
τ4 | 21 bis 71 | N-Allyl-isochinolinbromid — 0,006 | |||||||||
Benzol-sulfonamid — 2 | |||||||||||
o-Benzoyl-sulfimid — 2 | |||||||||||
Alkaloiden enthalten. Obgleich bestimmte Alkaloide I
als Derivate von Pyridin, Chinolin oder Isochinolin erläutert sind, befindet sich dort kein Vorschlag, daß
irgendeine Verbindung der Art, die durch die vorliegende Erfindung angegeben wird, als Badzusatz
nützlich ist.
Nickelbäder, die Alkaloide enthalten, haben im allgemeinen nur geringes Deckvermögen und erzeugen
eine in nachteiliger Weise brüchige Platte. Die ίο erfindungsgemäßen Bäder verwenden jedoch Zusätze,
die leicht erhältlich sind und die obigen Nachteile beseitigen.
Claims (18)
- PATENTANSPRÜCHE:I. Bad für die galvanische Niederschlagung von glänzendem Nickel, gekennzeichnet durch seine Zusammensetzung aus einer wäßrigen sauren Lösung wenigstens eines Nickelsalzes, einer Lösung eines kleineren Anteiles von wenigstens einem Glanzgeber, welcher der aus organischen Sulfonamiden, Sulfonimiden und Sulfonsäuren bestehenden Gruppe angehört, sowie einem zusätzlichen kleineren Anteil einer im Bad löslichen Verbindung, entsprechend einer der Formeln/χX/^(RO.-Q,wobei A ein Anion einer wasserlöslichen Säure bezeichnet, R ein aliphatisches Radikal mit ι bis 4 Kohlenstoffatomen darstellt, R' ein Halogen bezeichnet, χ eine Größe zwischen ο und 2 ist und C ein Methyl- oder Äthylradikal bzw. eine Methyloder Äthylgruppe darstellt.
- 2. Bad nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt, der Glanzgeberanteil nicht mehr als 0,5 °/0 beträgt und die zusätzliche, im Bad lösliche Verbindung in einer Menge von 0,003 bis 0,15 g/l zugegeben ist.
- 3. Bad nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß R von Allyl gebildet wird.
- 4. Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt, R ein Allyl darstellt und χ den Wert 0 hat.
- 5. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt und die zusätzliche, im Bad lösliche Verbindung der FormelA ^Rentspricht, wobei vorzugsweise der Glanzgeber bis zu 0,5 % zugegeben wird und die Konzentration der zusätzlichen, im Bad löslichen Verbindung in der Größenordnung von 0,01 bis 0,15 g/l liegt.
- 6. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt, der Glanzgeber in einer Menge von nicht mehr als etwa 0,5 °/0 zugegeben ist und die zusätzliche, im Bad lösliche und dem Bad in einer Menge von etwa 0,01 bis 0,15 g/l zugegebene Verbindung der Formelentspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt, und R ein aliphatisches Radikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen darstellt.
- 7. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt und die zusätzliche, im Bad lösliche Verbindung der FormelMR')»entspricht, wobei das Halogen R' der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt und vorzugsweise die Konzentration der zusätzlichen, im Bad löslichen Verbindung etwa 0,003 bis 0,04 g/l beträgt.
- 8. Bad nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Glanzgeber einen maximalen Anteil von 0,5 °/0 darstellt und das zusätzliche, im Bad lösliche Mittel in der Größenordnung von 0,003 bis 0,04 g/l zugegeben ist.
- 9. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt und die zusätzliche, im Bad lösliche und dem Bad in der Größenordnung von 0,01 bis 0,15 g/l zugesetzten Verbindung der FormelÄ Rentspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt und R ein Allylradikal darstellt.
- 10. Bad nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Glanzgeber aus o-Benzoylsulfimid besteht.
- 11. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammtund die zusätzliche, im Bad lösliche und dem Bad in der Größenordnung von 0,003 bis 0,04 g/l zugesetzte Verbindung der FormelC-Ιentspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt, R ein Allylradikal und C vorzugsweise ein Methyl- oder Äthylradikal darstellt.
- 12. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt und der Bestandteil R der im Bad löslichen Verbindung aus einem ungesättigten aliphatischen Kohlenwasserstoffradikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen besteht.
- 13. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt, der Bestandteil R der im Bad löslichen Verbindung aus einem ungesättigten aliphatischen Kohlenwasserstoffradikal mit ι bis 4 Kohlenstoffatomen besteht, das Halogen R' der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt und χ den Wert 1 hat.
- 14. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt und die im Bad lösliche zusätzliche Verbindung der FormelCH3-.,entspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt und R ein Allylradikal bezeichnet und die im Bad lösliche Verbindung vorzugsweise in Mengen von 0,003 bis 0,04 g/l zugesetzt wird.
- 15. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Nickelsalz der aus Nickelchlorid und Nickelsulfat bestehenden Gruppe entstammt und die zusätzliche, im Bad lösliche und dem Bad in der Größenordnung von 0,003 bis 0,04 g/l zugegebene Verbindung aus einer Mischung von Allyl-chinolinbromid und 2-Methyl-allyl-chinolinbromid besteht.
- 16. Zur Verwendung bei der galvanischen Glanzvernickelung bestimmtes Präparat als Zusatz für wäßrige, saure Nickelsalzlösungen, dadurch gekennzeichnet, daß das Präparat wenigstens einen Glanzgeber, welcher der aus organischen Sulfonamiden, Sulfonimiden und Sulfonsäuren bestehenden Gruppe angehört und eine zusätzliche, im Bad lösliche Verbindung enthält, welche einer der FormelnI L*ν/Ν A Rentspricht, wobei A ein Anion einer wasserlöslichen Säure darstellt, R ein aliphatisches Radikal mit ι bis 4 Kohlenstoffatomen darstellt, R' ein Halogen bezeichnet, χ eine Größe zwischen 0 und 2 ist und C ein Methyl- oder Äthylradikal bzw. eine Methyloder Äthylgruppe darstellt.
- 17. Präparat nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die im Bad lösliche Verbindung der Formelentspricht, wobei der Bestandteil R' der zusätzlichen, im Bad löslichen Verbindung aus einem Allylradikal mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen besteht.
- 18. Präparat nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die im Bad lösliche Verbindung der Formelentspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt, R ein Allylradikal und C ein Methyl- oder Äthylradikal ist.19. Präparat nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die im Bad lösliche zusätzliche Verbindung der FormelN'A XR
entspricht.20. Präparat nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß die im Bad lösliche zusätzliche Verbindung der Formelentspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe angehört, R ein Allylradikal darstellt, R' ein Halogen bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt, und χ einen Wert von ο bis 2 hat.2i. Präparat nach Anspruch i6, dadurch gekennzeichnet, daß die im Bad lösliche, zusätzliche Verbindung der FormelN
»5 ARentspricht, wobei A ein Anion bezeichnet, welches der aus Chlor und Brom bestehenden Gruppe entstammt, und R ein Allylradikal ist.22. Präparat nach Anspruch i6, dadurch gekennzeichnet, daß der im Bad lösliche Zusatz aus etwa gleichen Teilen Allylpyridinbromid und Allylchinolinbromid besteht.In Betracht gezogene Druckschriften:Deutsche Patentschriften Nr. 676 075, 692 766, 021;britische Patentschriften Nr. 525847, 638868; USA.-Patentschrift Nr. 2 315 802;Schwartz und Perry, »Surface active agents«, Interscience Publ, Inc., New York, 1949, S. 151, 152, und 160;»Zeitschrift für Elektrochemie«, 1940, S. 71 bis 82.© 809 762/41 3.59
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1180601B (de) * | 1960-03-29 | 1964-10-29 | Riedel & Co | Bad zum galvanischen Abscheiden spiegel-glaenzender und eingeebneter homogener Nickelueberzuege |
DE1225015B (de) * | 1960-10-10 | 1966-09-15 | Riedel & Co | Galvanisches Nickelbad |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL87111C (de) * | 1952-03-27 | |||
DE939662C (de) * | 1952-10-17 | 1956-03-01 | Harshaw Chem Corp | Verfahren zum galvanischen Erzeugen von glaenzenden Nickelniederschlaegen |
DE1001078B (de) * | 1953-08-13 | 1957-01-17 | Dehydag Gmbh | Galvanische Baeder zur Herstellung von Metallueberzuegen |
BE543413A (de) * | 1953-09-19 | |||
US2782153A (en) * | 1954-02-16 | 1957-02-19 | Harshaw Chem Corp | Nickel electrodeposition |
BE534701A (de) * | 1954-03-22 | |||
US2892760A (en) * | 1954-10-28 | 1959-06-30 | Dehydag Gmbh | Production of metal electrodeposits |
NL205377A (de) * | 1955-03-16 | |||
BE556462A (de) * | 1956-06-15 | |||
US2839459A (en) * | 1956-11-16 | 1958-06-17 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electroplating |
US2839457A (en) * | 1956-11-16 | 1958-06-17 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electroplating |
US2839456A (en) * | 1956-11-16 | 1958-06-17 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electroplating |
DE1066068B (de) * | 1957-06-05 | 1959-09-24 | Langbein-Pfanhauser Werke Aktiengesellschaft, Neuß | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung spiegelglänzender, eingeebneter, duktiler Nickelniederschläge |
US2881120A (en) * | 1957-08-26 | 1959-04-07 | Jack L Towle | Electroplating nickel |
US3003933A (en) * | 1958-04-21 | 1961-10-10 | Atkinson James Thomas Nesbitt | Electro-plating of metals |
DE1191652B (de) * | 1963-05-15 | 1965-04-22 | Dehydag Gmbh | Saures galvanisches Nickelbad |
US3296103A (en) * | 1964-02-24 | 1967-01-03 | M & T Chemicals Inc | Bright nickel electroplating |
US3296105A (en) * | 1964-04-03 | 1967-01-03 | Du Pont | Zinc cyanide electroplating bath and process |
US3484345A (en) * | 1967-02-07 | 1969-12-16 | Enthone | Nickel electroplating |
GB1438553A (en) | 1972-07-03 | 1976-06-09 | Oxy Metal Industries Corp | Electrodeposition of bright nickel-iron or nickel-cobalt-iron deposits |
DE2836581A1 (de) * | 1978-08-21 | 1980-03-06 | Henkel Kgaa | N-(2,3-dihydroxypropyl)-pyridiniumsulfate, deren herstellung sowie diese enthaltende saure galvanische nickelbaeder |
US4179343A (en) * | 1979-02-12 | 1979-12-18 | Oxy Metal Industries Corporation | Electroplating bath and process for producing bright, high-leveling nickel iron electrodeposits |
ES2076056T3 (es) * | 1992-01-25 | 1995-10-16 | Basf Ag | Procedimiento para la obtencion de piezas moldeadas niqueladas. |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE676075C (de) * | 1936-04-14 | 1939-05-25 | Harshaw Chem Corp | Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von glaenzenden Nickelueberzuegen |
DE692766C (de) * | 1939-03-02 | 1940-06-27 | Udylite Corp | Verfahren zur Herstellung galvanischer Niederschlaege von Nickel |
DE699021C (de) * | 1934-09-05 | 1940-11-21 | Ly Blasberg Geb Hillebrand | Verfahren zur Herstellung von glaenzenden Nickelueberzuegen |
US2315802A (en) * | 1940-04-20 | 1943-04-06 | Harshaw Chem Corp | Nickel plating |
GB638868A (en) * | 1946-04-20 | 1950-06-14 | Udylite Corp | Improvement in electrodeposition of nickel from an acid bath |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2238861A (en) * | 1938-07-06 | 1941-04-15 | Harshaw Chem Corp | Electrodeposition of metals |
-
1950
- 1950-07-17 US US174374A patent/US2647866A/en not_active Expired - Lifetime
- 1950-09-24 DE DEU623A patent/DE971806C/de not_active Expired
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-
1953
- 1953-03-26 GB GB8458/53A patent/GB743726A/en not_active Expired
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE699021C (de) * | 1934-09-05 | 1940-11-21 | Ly Blasberg Geb Hillebrand | Verfahren zur Herstellung von glaenzenden Nickelueberzuegen |
DE676075C (de) * | 1936-04-14 | 1939-05-25 | Harshaw Chem Corp | Verfahren zur elektrolytischen Herstellung von glaenzenden Nickelueberzuegen |
DE692766C (de) * | 1939-03-02 | 1940-06-27 | Udylite Corp | Verfahren zur Herstellung galvanischer Niederschlaege von Nickel |
GB525847A (en) * | 1939-03-02 | 1940-09-05 | Udylite Corp | Improvements in or relating to the electro-deposition of nickel |
US2315802A (en) * | 1940-04-20 | 1943-04-06 | Harshaw Chem Corp | Nickel plating |
GB638868A (en) * | 1946-04-20 | 1950-06-14 | Udylite Corp | Improvement in electrodeposition of nickel from an acid bath |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1180601B (de) * | 1960-03-29 | 1964-10-29 | Riedel & Co | Bad zum galvanischen Abscheiden spiegel-glaenzender und eingeebneter homogener Nickelueberzuege |
DE1225015B (de) * | 1960-10-10 | 1966-09-15 | Riedel & Co | Galvanisches Nickelbad |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL82356C (de) | 1956-03-15 |
GB743726A (en) | 1956-01-25 |
FR1065407A (fr) | 1954-05-25 |
BE504700A (de) | 1951-08-14 |
US2647866A (en) | 1953-08-04 |
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