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ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
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富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
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ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
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Strukturformungsverfahren, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Harzzusammensetzung, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende negative Entwicklungslösung und in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Spüllösung
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感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
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レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法
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電子線、x線またはeuv用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
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화합물, 화합물을 포함하는 레지스트 조성물 및 이를 이용하는 패턴형성방법
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(ko)
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2017-03-31 |
2019-11-20 |
더 스쿨 코포레이션 칸사이 유니버시티 |
레지스트 조성물 및 이를 이용하는 패턴형성방법, 그리고, 화합물 및 수지
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(ko)
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 |
막형성재료, 리소그래피용 막형성용 조성물, 광학부품 형성용 재료, 레지스트 조성물, 레지스트패턴 형성방법, 레지스트용 영구막, 감방사선성 조성물, 아몰퍼스막의 제조방법, 리소그래피용 하층막 형성재료, 리소그래피용 하층막 형성용 조성물, 리소그래피용 하층막의 제조방법 및 회로패턴 형성방법
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(ko)
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더 스쿨 코포레이션 칸사이 유니버시티 |
리소그래피용 조성물, 패턴 형성방법, 및 화합물
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 |
리소그래피용 막형성용 조성물, 리소그래피용 막, 레지스트패턴형성방법, 및 회로패턴형성방법
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
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