DE602004013154T2 - Reinigungs/spülverfahren - Google Patents

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Description

  • Technisches Gebiet
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen und Spülen unter Verwendung eines nicht-entflammbaren Lösungsmittels, das zur Entfernung von Schmutz, wie z. B. Ölen und Fetten, der an Gegenständen, wie z. B. elektronischen Bauteilen, wie z. B. IC's, Teilen von Präzisionsgeräten bzw. -instrumenten, Glassubstraten und Harzformteilen, haftet, und von Flussmittel und Staub auf Leiterplatten eingesetzt wird.
  • Stand der Technik
  • Bisher wurde ein Chlorfluorkohlenwasserstoff (nachstehend als „HCFC" bezeichnet), wie z. B. Dichlorpentafluorpropan (nachstehend als „R-225" bezeichnet) verbreitet als ein Fluorkohlenstofflösungsmittel für ein Präzisionsreinigen zur Entfernung von Ölen, Flussmittel, Staub, Wachsen und dergleichen, die an Gegenständen haften, z. B. während Verarbeitungs- und Bearbeitungsschritten in der Präzisionsgeräte bzw. -instrumenteindustrie, der Industrie für optische Geräte, der Elektro- und Elektronikindustrie, der kunststoffverarbeitenden Industrie verwendet.
  • In entwickelten Ländern wird jedoch die Verwendung von HCFC aufgrund dessen Ozonabreicherungspotenzials bis 2020 vollständig verboten. Fluorkohlenwasserstofffe (nachstehend als „HFC" bezeichnet), Hydrofluorether (nachstehend als „HFE" bezeichnet) und dergleichen sind als Fluorkohlenstofflösungsmittel bekannt, bei denen es sich um Alternativen für HCFC handelt, die kein Chlor in ihrem Molekül enthalten und die kein Ozonabreicherungspotenzial aufweisen.
  • Beispielsweise gibt es ein bekanntes Verfahren zum Reinigen eines Gegenstands, der aus einer Leiterplatte, Metall, usw., zusammengesetzt ist, unter Verwendung von HFE mit einem Siedepunkt von etwa 20 bis 120°C (vgl. das Patentdokument 1). Dieses Verfahren kann jedoch häufig eine Verunreinigung nicht angemessen entfernen, da das Lösungsvermögen von HFE für die Verunreinigung nicht ausreichend ist. Es gibt ein weiteres bekanntes Verfahren zum Reinigen eines Gegenstands unter Verwendung eines aliphatischen Kohlenwasserstoffs.
  • Es gab jedoch das Problem, dass diese Kohlenwasserstofflösungsmittel nicht zum Trocknen neigten und folglich viel Energie zum Trocknen des Gegenstands nach dem Reinigen erforderlich war, obwohl diese Kohlenwasserstofflösungsmittel kein Ozonabreicherungspotenzial und eine hohe Effizienz zur Entfernung der Verunreinigung aufweisen.
  • Ein Verfahren zum Spülen mit HFE nach dem Reinigen mit einem Kohlenwasserstofflösungsmittel (vgl. das Patentdokument 2) wurde als Verfahren zum Lösen des Problems vorgeschlagen. Dieses Dokument beschreibt jedoch kein spezifisches Beispiel für HFE.
  • Selbst in dem vorstehend genannten Verfahren weist HFE jedoch ein geringes Lösungsvermögen für das zum Reinigen verwendete Kohlenwasserstofflösungsmittel auf, und zwar abhängig von dessen Art, und das Kohlenwasserstofflösungsmittel kann durch Spülen des zu reinigenden Gegenstands mit HFE nicht ausreichend entfernt werden, so dass das Kohlenwasserstofflösungsmittel auf einer Oberfläche des zu reinigenden Gegenstands zurückbleibt; dies verursachte ein Problem eines fehlerhaften Spülens, wie z. B. das Auftreten von Flecken.
    Patentdokument 1: JP-A-H05-271692 (Ansprüche)
    Patentdokument 2: JP-A-H10-202209 (Ansprüche)
  • Offenbarung der Erfindung
  • Durch die Erfindung zu lösendes Problem
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Reinigen und Spülen eines Gegenstands unter Verwendung von HFE, das aufgrund dessen unzureichendem Lösungsvermögen für ein Kohlenwasserstofflösungsmittel bisher nur schwer auf ein Spülen angewandt werden konnte, sowie ein Verfahren mit einer hervorragenden Reinigungsleistung und Spülleistung bereitzustellen.
  • Mittel zum Lösen des Problems
  • Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zum Reinigen und Spülen eines Gegenstands bereit, umfassend einen Reinigungsschritt des Inkontaktbringens eines Gegenstands, der eine anhaftende Verunreinigung aufweist, mit einem Kohlenwasserstofflösungsmittel, das einen aliphatischen Kohlenwasserstoff und einen Glykolether enthält, wobei der Gehalt des Glykolethers mindestens 10 Massen-% beträgt, und einen Spülschritt des Inkontaktbringens dieses mit einem fluorierten Ether, wobei der fluorierte Ether eine durch die Formel 1 dargestellte Verbindung ist: R1-O-R2 Formel 1wobei jedes von R1 und R2, die unabhängig voneinander sind, eine fluorierte Alkylgruppe ist, wobei die Zahl an Fluoratomen, die in jedem von R1 und R2 enthalten sind, mindestens 1 ist, und die Gesamtzahl an in R1 und R2 enthaltenen Kohlenstoffatomen von 4 bis 8 ist.
  • Die vorliegende Erfindung nutzt das Kohlenwasserstofflösungsmittel, das einen aliphatischen Kohlenwasserstoff und einen Glykolether enthält, in dem Reinigungsschritt, wodurch in dem Spülschritt mit HFE eine hervorragende Reinigungsleistung erhalten wird.
  • Effekt der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung ermöglicht die Verwendung der Verbindung, die durch die Formel 1 dargestellt wird, die bisher nur schwer auf ein Spülen angewandt werden konnte, in dem Spülschritt, wodurch eine hervorragende Reinigungsleistung und Spülleistung erreicht werden.
  • Beste Art und Weise der Ausführung der Erfindung
  • Der fluorierte Ether in der vorliegenden Erfindung ist eine Verbindung, die durch die Formel 1 dargestellt wird. Jedes von R1 und R2 weist mindestens ein Fluoratom, vorzugsweise 2 bis 10 Fluoratome auf, und die Gesamtzahl an in R1 und R2 enthaltenen Kohlenstoffatome beträgt 4 bis 8. Der fluorierte Ether in der vorliegenden Erfindung weist eine hervorragende thermische Stabilität bezüglich eines HFE auf, bei dem entweder R1 oder R2 ein Fluoratom enthält.
  • Spezielle Beispiele für den fluorierten Ether, der durch die Formel 1 dargestellt wird, umfassen 1,1,2,2-Tetrafluorethyl-2,2,2-trifluorethylether (CHF2CF2-O-CH2CF3, nachstehend als „HFE347" bezeichnet), 1,1,2,2-Tetrafluorethyl-2,2,3,3-tetrafluorpropylether (CHF2CF2-O-CH2CF2CHF2, nachstehend als „HFE458" bezeichnet). In der vorliegenden Erfindung kann der fluorierte Ether einzeln verwendet werden oder mindestens zwei Arten von fluorierten Ethern können in einem Gemisch verwendet werden.
  • Da ferner ein Trocknen durch Ersetzen des Kohlenwasserstofflösungsmittels auf der Oberfläche des damit beschichteten Gegenstands durch den fluorierten Ether bewirkt wird, handelt es sich bei dem fluorierten Ether vorzugsweise um einen mit einem Siedepunkt von 30 bis 100°C und mehr bevorzugt um einen mit einer Gesamtzahl an in R1 und R2 enthaltenen Kohlenstoffatomen im Bereich von 4 bis 6.
  • Das Kohlenwasserstofflösungsmittel, das in dem Reinigungsschritt der vorliegenden Erfindung verwendet wird, enthält einen aliphatischen Kohlenwasserstoff und einen Glykolether.
  • Spezifische bevorzugte Beispiele für den Glykolether umfassen im Hinblick auf eine sehr gute Löslichkeit für den fluorierten Ether, der durch die Formel 1 dargestellt wird, Alkylether von Diethylenglykol und Alkylether von Dipropylenglykol. Spezifischere Beispiele umfassen die nachstehend angegebenen Verbindungen.
  • Ether des Diethylenglykoltyps, wie z. B. Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykolmonoethylether, Diethylenglykolmono-n-propylether, Diethylenglykolmonoisopropylether, Diethylenglykolmono-n-butylether, Diethylenglykolmonoisobutylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethylenglykoldiethylether, Diethylenglykoldibutylether.
  • Ether des Dipropylenglykoltyps, wie z. B. Dipropylenglykolmonomethylether, Dipropylenglykolmonoethylether, Dipropylenglykolmono-n-propylether, Dipropylenglykolmonoisopropylether, Dipropylenglykolmono-n-butylether, Dipropylenglykolmonoisobutylether.
  • Der Gehalt des Glykolethers in dem Kohlenwasserstofflösungsmittel beträgt im Hinblick auf die Erhöhung der Löslichkeit zwischen dem fluorierten Ether, der durch die Formel 1 dargestellt wird, und dem Kohlenwasserstofflösungsmittel, und auf ein effizientes Durchführen des Spülens in einem kurzen Zeitraum mindestens 10 Massen-% und vorzugsweise mindestens 30 Massen-%.
  • Das Kohlenwasserstofflösungsmittel enthält zusätzlich zu dem Glykolether einen aliphatischen Kohlenwasserstoff. Der aliphatische Kohlenwasserstoff hat den Vorteil, dass er zusätzlich zu dessen niedrigem Preis und hoher Reinigungsleistung eine Wärmestabilität aufweist, die höher ist als diejenige anderer Kohlenwasserstofflösungsmittel.
  • Der aliphatische Kohlenwasserstoff ist vorzugsweise ein linearer oder verzweigter Kohlenwasserstoff mit mindestens 8 Kohlenstoffatomen und spezielle Beispiele dafür umfassen n-Octan, n-Decan, n-Undecan, n-Dodecan, Kerosin, Lösungsbenzin.
  • Das Reinigen eines Gegenstands wird normalerweise unter Erwärmen bei 30 bis 100°C durchgeführt und das Kohlenwasserstofflösungsmittel weist vorzugsweise einen Siedepunkt von mindestens 100°C, besonders bevorzugt von mindestens 150°C auf, da der Siedepunkt des Kohlenwasserstofflösungsmittels vorzugsweise höher ist als die Reinigungstemperatur.
  • Es ist bevorzugt, eine Kombination aus dem fluorierten Ether und dem Kohlenwasserstofflösungsmittel derart auszuwählen, dass die Differenz zwischen den Siedepunkten des Kohlenwasserstofflösungsmittels und des fluorierten Ethers im Hinblick auf eine effiziente Abtrennung und Wiedergewinnung des Kohlenwasserstofflösungsmittels und des fluorierten Ethers durch Destillation in einem Verfahren des Rückgewinnens derselben von dem Reinigungsschritt und dem Spülschritt mindestens 50°C beträgt.
  • Spezielle Beispiele für die bevorzugte Kombination des fluorierten Ethers, der in dem Spülschritt verwendet wird, und des Kohlenwasserstofflösungsmittels, das in dem Reinigungsschritt verwendet wird, sind wie folgt: In einem Fall, bei dem der fluorierte Ether HFE347 oder HFE458 ist, kann das Kohlenwasserstofflösungsmittel ein Gemisch aus n-Decan und Diethylenglykolmono-n-butylether, ein Gemisch aus n-Dodecan, n-Undecan und Diethylenglykolmono-n-butylether sein.
  • Ferner kann das Kohlenwasserstofflösungsmittel in der vorliegenden Erfindung gegebenenfalls mindestens eine Verbindung, ausgewählt aus Alkoholen, Stickstoff-enthaltenden organischen Verbindungen und Organosiliziumverbindungen, enthalten, und spezielle Beispiele dafür umfassen die nachstehend angegebenen Verbindungen.
    Alkohole: 2-Ethylbutylalkohol, 2-Ethylhexylalkohol, Nonylalkohol, Decylalkohol und Cyclohexanol.
    Stickstoff-enthaltende organische Verbindungen: N-Methyl-2-pyrrolidon und 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon.
    Organosiliziumverbindungen: Dimethylpolysiloxan, Cyclopolysiloxan und Octamethylcyclotetrasiloxan.
  • In der vorliegenden Erfindung kann der Spülschritt auch unter Verwendung des fluorierten Ethers durchgeführt werden, der ein Spülhilfsmittel enthält. Das einzusetzende Spülhilfsmittel kann eines sein, das aus Kohlenwasserstoffen, niederen Alkoholen und Ketonen ausgewählt ist. Der Mischungsanteil des Spülhilfsmittels beträgt vorzugsweise weniger als 20 Massen-%, bezogen auf die Gesamtmenge des fluorierten Ethers und des Spülhilfsmittels, mehr bevorzugt weniger als 10 Massen-%, um zu verhindern, dass das Gemisch entflammbar wird.
  • Da der fluorierte Ether zur Wiederverwendung einer Destillation unterzogen wird, handelt es sich bei dem Spülhilfsmittel wie in dem Fall des fluorierten Ethers vorzugsweise um eines mit einem Siedepunkt von 30 bis 100°C, um die Rückgewinnungseffizienz des Spülhilfsmittels zu erhöhen. Ferner ist ein mehr bevorzugter Fall derart, dass ein Lösungsgemisch aus dem fluorierten Ether und dem Spülhilfsmittel eine azeotrope oder Azeotrop-artige Zusammensetzung ist, da es unnötig wird, die Menge des zuzusetzenden Spülhilfsmittels nach der Destillation einzustellen und da mit dem Gemisch aus dem fluorierten Ether und dem Spülhilfsmittel nach dem Spülschritt ferner ein Dampfreinigen durchgeführt werden kann.
  • Spezielle Beispiele für das Spülhilfsmittel umfassen die nachstehend angegebenen Verbindungen.
    Kohlenwasserstoffe: n-Pentan, n-Hexan, Isohexan, n-Heptan, Isooctan, Cyclopentan, Cyclohexan und Methylcyclohexan.
    Niedere Alkohole: Methylalkohol, Ethylalkohol, n-Propylalkohol, Isopropylalkohol und Butylalkohol.
    Ketone: Aceton und Methylethylketon.
  • Das Verfahren zum Reinigen und Spülen eines Gegenstands, der eine anhaftende Verunreinigung aufweist, gemäß der vorliegenden Erfindung wird nachstehend gemäß eines spezifischen Verfahrens beschrieben.
  • Als erstes wird das Kohlenwasserstofflösungsmittel mit einem Gegenstand in Kontakt gebracht, der eine anhaftende Verunreinigung aufweist. Das Verfahren zum Inkontaktbringen des Gegenstands mit dem Kohlenwasserstofflösungsmittel kann mit einem von geeigneten Verfahren implementiert werden, wie z. B. einem Verfahren des Eintauchens des Gegenstands in das Kohlenwasserstofflösungsmittel, und einem Verfahren des Sprühens des Kohlenwasserstofflösungsmittels auf den Gegenstand.
  • Die Temperatur zum Zeitpunkt des Kontakts des Gegenstands mit dem Kohlenwasserstofflösungsmittel wird vorzugsweise in einem Bereich ausgewählt, der den Flammpunkt des Kohlenwasserstofflösungsmittels nicht umfasst, und ein schwaches Erwärmen ist bevorzugt, um die Entfernung der Verunreinigung zu verbessern. Insbesondere ist es bevorzugt, den Gegenstand in ein Bad des Kohlenwasserstofflösungsmittels bei einer Temperatur einzutau chen, die um mindestens 10°C niedriger ist als der Flammpunkt. Darüber hinaus kann in dem Kontaktverfahren mittels Eintauchen ein Mittel zum Ausüben einer mechanischen Kraft, wie z. B. Ultraschallschwingungen, Rühren, Schwenken und Bürsten, eingesetzt werden, um das Auflösen und das Entfernen der Verunreinigung zu verbessern. Eine Kontaktzeit des Gegenstands mit dem Kohlenwasserstofflösungsmittel wird so eingestellt, dass die Verunreinigung zu einem gewünschten Grad entfernt wird.
  • Dann wird der Gegenstand, der durch den Kontakt mit dem Kohlenwasserstofflösungsmittel gereinigt worden ist, durch einen Kontakt mit einer Spülflüssigkeit, die aus dem fluorierten Ether zusammengesetzt ist, gespült. Das Verfahren des Inkontaktbringens des Gegenstands mit der Spülflüssigkeit kann auch durch ein Verfahren des Eintauchens des gereinigten Gegenstands in die Spülflüssigkeit, ein Verfahren des Sprühens der Spülflüssigkeit auf den gereinigten Gegenstand, ein Verfahren des Inkontaktbringens des gereinigten Gegenstands mit Dampf der Spülflüssigkeit implementiert werden.
  • Um ferner die Spüleffizienz zu erhöhen, kann das gleiche Spülverfahren wiederholt werden oder verschiedene Spülverfahren können in einer Kombination durchgeführt werden. Insbesondere wird die Spüleffizienz durch eine Kombination des Eintauchverfahrens oder des Sprühverfahrens mit dem Verfahren des Kontakts mit Dampf erhöht. In diesem Fall ist es bevorzugt, den gereinigten Gegenstand in die Spülflüssigkeit einzutauchen oder die Spülflüssigkeit auf den gereinigten Gegenstand zu sprühen und dann den Gegenstand dem Dampf auszusetzen, um ein Spülen zu bewirken.
  • Ferner ist es in dem Fall, bei dem der gereinigte Gegenstand in die Spülflüssigkeit eingetaucht wird und dann mit dem Dampf in Kontakt gebracht wird, um ein Spülen zu bewirken, bevorzugt, die Spülflüssigkeit unmittelbar vor dem Kontakt mit dem Dampf auf eine Temperatur einzustellen, die um mindestens 10°C niedriger ist als der Siedepunkt des fluorierten Ethers, da die Spüleffizienz erhöht werden kann. Dies ist darauf zurückzuführen, dass der fluorierte Ether weiterhin auf der Oberfläche des gereinigten Gegenstands kondensiert, bis der gereinigte Gegenstand auf den Siedepunkt des fluorierten Ethers erwärmt wird.
  • Beispiele
  • Nachstehend werden Beispiele und Vergleichsbeispiele der vorliegenden Erfindung beschrieben. Die Beispiele 4 bis 6, 10, 16 bis 18 und 22 sind Beispiele der vorliegenden Erfindung und die Beispiele 1 bis 3, 7 bis 10, 11 bis 15, 19 bis 21, 23 und 24 sind Vergleichsbeispiele.
  • Beispiele 1 bis 6
  • Mischlösungen von HFE347 (Siedepunkt 56°C) oder einer azeotropen Zusammensetzung von HFE347 und Ethanol (HFE347/Ethanol = 94,5/5,5 (bezogen auf die Masse), Siedepunkt 54°C) mit einem von Kohlenwasserstofflösungsmitteln, die in der Tabelle 1 angegeben sind, wurden hergestellt und eine Messung für jede Mischlösung wurde durchgeführt, um den maximalen Gehalt jedes Kohlenwasserstofflösungsmittels zu bestimmen, bei dem die Mischlösung keiner Phasentrennung in zwei Phasen unterlag. Der maximale Gehalt jedes der vorstehend genannten Kohlenwasserstofflösungsmittel wurde durch Zugeben des Kohlenwasserstofflösungsmittels zu 100 g HFE bei 25°C, bis die Phasentrennung auftrat, gemessen.
  • Die Tabelle 1 zeigt die Messergebnisse. in „Messergebnis" in der Tabelle 1 zeigt ⊙, dass der maximale Gehalt des Kohlenwasserstofflösungsmittels mindestens 50% betrug, O, dass der maximale Gehalt des Kohlenwasserstofflösungsmittels 30 bis 50% betrug und x, dass der maximale Gehalt des Kohlenwasserstofflösungsmittels weniger als 30% betrug. Tabelle 1
    HFE Beispiel Kohlenwasserstofflösungsmittel (Siedepunkt) Flammpunkt [°C] Messergebnis
    HFE347 1 Methylethylbenzol (160°C) 44 ⊙
    2 Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) 230 ⊙
    3 n-Decan (174°C) 46 x
    4 n-Decan (174°C)/Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) = 80/20 46 < ⊙
    5 n-Decan (174°C)/Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) = 90/10 46 < O
    HFE347/Ethanol = 94,5/5,5 6 n-Decan (174°C)/Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) = 90/10 46 < ⊙
  • Beispiele 7 bis 12
  • Mischlösungen von HFE458 (Siedepunkt 93°C) oder einer azeotropen Zusammensetzung von HFE458 und Ethanol (HFE458/Ethanol = 71,0/29,0 (bezogen auf die Masse), Siedepunkt 74°C) mit einem von Kohlenwasserstofflösungsmitteln, die in der Tabelle 2 angegeben sind, wurden hergestellt und eine Messung für jede Mischlösung wurde in der gleichen Weise wie in den Beispielen 1 bis 6 durchgeführt, um den maximalen Gehalt jedes Kohlenwasserstofflösungsmittels zu bestimmen, bei dem die Mischlösung keiner Phasentrennung in zwei Phasen unterlag. Die Tabelle 2 zeigt die Messergebnisse. Die Symbole ⊙, O und x in „Messergebnis" in der Tabelle 2 haben die gleichen Bedeutungen wie in der Tabelle 1. Tabelle 2
    HFE Beispiel Kohlenwasserstofflösungsmittel (Siedepunkt) Flammpunkt [°C] Messergebnis
    HFE458 7 Methylethylbenzol (160°C) 44 ⊙
    8 Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) 230 ⊙
    9 n-Decan (174°C) 46 x
    10 n-Decan (174°C)/Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) = 85/15 46 < ⊙
    11 n-Decan (174°C)/Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) = 95/5 46 < x
    HFE458/Ethanol = 71,0/29,0 12 n-Decan (174°C)/Diethylenglykolmono-n-butylether (230°C) = 95/5 46 < ⊙
  • Beispiele 13 bis 18
  • Ein 100 mesh-Drahtnetz, das zu einer Größe von 50 mm × 50 mm geschnitten worden ist, wurde für eine Minute in jedes der Kohlenwasserstofflösungsmittel gemäß der Tabelle 1 eingetaucht und dann in HF347 oder eine azeotrope Zusammensetzung von HFE347 und Ethanol 3 min bei Raumtemperatur eingetaucht. Danach wurde das Drahtnetz herausgezogen und dann wurde das Aussehen jedes Drahtnetzes untersucht. Die Tabelle 3 zeigt die Bewertungsergebnisse. In der Tabelle 3 zeigt ⊙, dass keine Flecken festgestellt wurden, O, dass geringfügig Flecken festgestellt wurden, und x, dass offensichtliche Flecken festgestellt wurden. Tabelle 3
    HFE Beispiel Kohlenwasserstofflösungsmittel Flammpunkt [°C] Badtemperatur [°C] Bewertungsergebnis
    HFE347 13 Methylethylbenzol 44 30 ⊙
    14 Diethylenglykolmono-n-butylether 230 30 ⊙
    15 n-Decan 46 30 x
    16 n-Decan/Diethylenglykol-mono-n-butylether = 80/20 46 < 30 ⊙
    17 n-Decan/Diethylenglykol-mono-n-butylether = 90/10 46 < 30 O
    HFE347/Ethanol = 94,5/5,5 18 n-Decan/Diethylenglykol-mono-n-butylether = 90/10 46 < 30 ⊙
  • Beispiele 19 bis 24
  • Ein 100 mesh-Drahtnetz, das zu einer Größe von 50 mm × 50 mm geschnitten worden ist, wurde für eine Minute in jedes der Kohlenwasserstofflösungsmittel gemäß der Tabelle 2 eingetaucht und dann in HF458 oder eine azeotrope Zusammensetzung von HFE458 und Ethanol 3 min bei Raumtemperatur eingetaucht. Danach wurde das Drahtnetz herausgezogen und dann wurde das Aussehen jedes Drahtnetzes untersucht. Die Tabelle 3 zeigt die Bewertungsergebnisse. In der Tabelle 3 zeigt ⊙, dass keine Flecken festgestellt wurden, O, dass geringfügig Flecken festgestellt wurden, und x, dass offensichtliche Flecken festgestellt wurden. Tabelle 4
    HFE Beispiel Kohlenwasserstofflösungsmittel Flammpunkt [°C] Badtemperatur [°C] Bewertungsergebnis
    HFE458 19 Methylethylbenzol 44 30 ⊙
    20 Diethylenglykolmono-n-butylether 230 30 ⊙
    21 n-Decan 46 30 x
    22 n-Decan/Diethylenglykol-mono-n-butylether = 85/15 46 < 30 ⊙
    23 n-Decan/Diethylengiykol-mono-n-butylether = 95/5 46 < 30 O
    HFE458/Ethanol = 71,0/29,0 24 n-Decan/Diethylenglykol-mono-n-butylether = 95/5 46 < 30 ⊙

Claims (3)

  1. Verfahren zum Reinigen und Spülen eines Gegenstands, umfassend einen Reinigungsschritt des Inkontaktbringens eines Gegenstands, der eine anhaftende Verunreinigung aufweist, mit einem Kohlenwasserstofflösungsmittel, das einen aliphatischen Kohlenwasserstoff und einen Glykolether enthält, wobei der Gehalt des Glykolethers mindestens 10 Massen-% beträgt, und einen Spülschritt des Inkontaktbringens dieses mit einem fluorierten Ether, wobei der fluorierte Ether eine durch die Formel 1 dargestellte Verbindung ist, R1-O-R2 Formel 1wobei jedes von R1 und R2, die unabhängig voneinander sind, eine fluorierte Alkylgruppe ist, wobei die Zahl an Fluoratomen, die in jedem von R1 und R2 enthalten sind, mindestens Eins ist, und die Gesamtzahl an in R1 und R2 enthaltenen Kohlenstoffatomen von 4 bis 8 ist.
  2. Reinigungs- und Spülverfahren nach Anspruch 1, wobei der fluorierte Ether 1,1,2,2-Tetrafluorethyl-2,2,2-trifluorethylether oder 1,1,2,2-Tetrafluorethyl-2,2,3,3-tetrafluorpropylether ist.
  3. Reinigungs- und Spülverfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei der aliphatische Kohlenwasserstoff einer gerader oder verzweigter gesättigter Kohlenwasserstoff mit mindestens 8 Kohlenstoffatomen ist.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4761293B2 (ja) * 2005-03-08 2011-08-31 Ｊｘ日鉱日石エネルギー株式会社 洗浄剤組成物及び洗浄方法
JP4749006B2 (ja) * 2005-03-15 2011-08-17 新オオツカ株式会社 被洗浄物防錆方法及び被洗浄物防錆装置
JP4894307B2 (ja) * 2005-03-29 2012-03-14 旭硝子株式会社 潜熱輸送装置用作動液および潜熱輸送装置の作動方法
TWI346837B (en) * 2005-07-12 2011-08-11 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Protective film-forming material and method of photoresist patterning with it
US8084367B2 (en) * 2006-05-24 2011-12-27 Samsung Electronics Co., Ltd Etching, cleaning and drying methods using supercritical fluid and chamber systems using these methods
JPWO2008149907A1 (ja) * 2007-06-08 2010-08-26 旭硝子株式会社 洗浄溶剤および洗浄方法
KR101137268B1 (ko) * 2007-07-05 2012-04-20 닛뽕소다 가부시키가이샤 유기 박막 세정용 용제
JP2011072967A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素ポリマーの除去方法
JP5960439B2 (ja) * 2012-01-27 2016-08-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 除塵洗浄液およびそれを用いた洗浄方法
JP6849064B2 (ja) * 2017-06-26 2021-03-24 Ａｇｃ株式会社 真空蒸着用のマスクの洗浄方法及びリンス組成物

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9007645D0 (en) * 1990-04-04 1990-05-30 Ici Plc Solvent cleaning of articles
DE4013369A1 (de) * 1990-04-26 1991-10-31 Hoechst Ag Neues azeotropes oder azeotropartiges gemisch aus 2,2,2-trifluorethyl-1,1,2,2-tetrafluorethylether und ethanol sowie dessen verwendung
JP3056239B2 (ja) * 1990-11-15 2000-06-26 昭和電工株式会社 ハンダフラックス除去液
JPH04270799A (ja) * 1991-02-25 1992-09-28 Arakawa Chem Ind Co Ltd 非ハロゲン系の工業用脱脂洗浄剤及び該洗浄剤を用いてなる物品の洗浄処理方法
JPH06128592A (ja) * 1992-10-15 1994-05-10 Tokuyama Sekiyu Kagaku Kk ワックス溶解組成物
JP3312758B2 (ja) * 1992-12-22 2002-08-12 山口日本電気株式会社 エレクトロニクス用洗浄液
JP4063906B2 (ja) * 1996-05-20 2008-03-19 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 洗浄方法
JPH10202209A (ja) * 1997-01-20 1998-08-04 Otsuka Giken Kogyo Kk 洗浄装置
JP3560269B2 (ja) * 1997-01-28 2004-09-02 第一工業製薬株式会社 非引火性工業用洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法
DE69840266D1 (de) * 1997-05-16 2009-01-08 Nippon Zeon Co Polymer enthaltende flüssigkeit und verfahren zur herstellung eines polymerfilms
JP2881195B1 (ja) * 1998-03-30 1999-04-12 工業技術院長 共沸様組成物
JP5013562B2 (ja) * 1998-06-25 2012-08-29 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 洗浄方法及び装置
JP4227695B2 (ja) 1999-02-09 2009-02-18 株式会社リコー 画像形成装置
JP3404541B2 (ja) * 1999-12-15 2003-05-12 独立行政法人産業技術総合研究所 １，１，２，２−テトラフルオロ−３−（１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパンとアルコール類からなる組成物
KR100632536B1 (ko) * 2000-03-20 2006-10-09 에스케이 주식회사 파울링 제거용 세정제 조성물 및 이의 사용방법
US6310018B1 (en) * 2000-03-31 2001-10-30 3M Innovative Properties Company Fluorinated solvent compositions containing hydrogen fluoride
US6372700B1 (en) * 2000-03-31 2002-04-16 3M Innovative Properties Company Fluorinated solvent compositions containing ozone
JP2001300446A (ja) * 2000-04-28 2001-10-30 Nippon Zeon Co Ltd 被洗浄物の洗浄方法
TWI250206B (en) * 2000-06-01 2006-03-01 Asahi Kasei Corp Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus
TWI315301B (en) * 2002-03-06 2009-10-01 Asahi Glass Co Ltd Solvent composition
JP2003327999A (ja) * 2002-03-06 2003-11-19 Asahi Glass Co Ltd 溶剤組成物
JP4270799B2 (ja) 2002-03-22 2009-06-03 オリンパス株式会社 画像記録装置
JP3833650B2 (ja) * 2003-12-04 2006-10-18 関東化学株式会社 低分子型有機ｅｌ素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物および洗浄方法
JP4182062B2 (ja) 2005-01-21 2008-11-19 新明和工業株式会社 車両の荷役装置

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