JPH06128592A - ワックス溶解組成物 - Google Patents
ワックス溶解組成物Info
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- JPH06128592A JPH06128592A JP27751492A JP27751492A JPH06128592A JP H06128592 A JPH06128592 A JP H06128592A JP 27751492 A JP27751492 A JP 27751492A JP 27751492 A JP27751492 A JP 27751492A JP H06128592 A JPH06128592 A JP H06128592A
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- wax
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- waxes
- petroleum fraction
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ワックス類に対する溶解速度が高く、被洗浄
物を腐食損傷したりその表面に微粒子を残存したりする
ことなく、しかも人体・環境に対して安全性が高いワッ
クス溶解組成物を得る。 【構成】 ワックス溶解組成物が、トリメチルベンゼン
類、メチルエチルベンゼン類、またはプロピルベンゼン
類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素を２０重量％以
上含有する石油留分９９．５〜２０重量％と、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン０．５〜８０重量％とからなる。
物を腐食損傷したりその表面に微粒子を残存したりする
ことなく、しかも人体・環境に対して安全性が高いワッ
クス溶解組成物を得る。 【構成】 ワックス溶解組成物が、トリメチルベンゼン
類、メチルエチルベンゼン類、またはプロピルベンゼン
類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素を２０重量％以
上含有する石油留分９９．５〜２０重量％と、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン０．５〜８０重量％とからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はワックス類を効果的に溶
解することのできる組成物に関するものであり、特に電
子工業において電子デバイスなどに付着しているワック
ス類を洗浄除去するに際して、被洗浄物を腐食損傷せ
ず、かつ洗浄液による環境汚染を起こすことなく有効に
洗浄できるワックス溶解組成物に関する。
解することのできる組成物に関するものであり、特に電
子工業において電子デバイスなどに付着しているワック
ス類を洗浄除去するに際して、被洗浄物を腐食損傷せ
ず、かつ洗浄液による環境汚染を起こすことなく有効に
洗浄できるワックス溶解組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子デバイスの製造工程等においては、
微粒子、油脂、ワックス等の付着によるワークの汚染は
製品の歩留りと密接に関係する。そのため、洗浄工程を
設けて当該製品の清浄化を計ることが必須である。中で
も、油脂、ワックス類の除去は重要である。これらを溶
解し除去する洗浄液としては、従来、トリクロロエチレ
ン、１，１，１−トリクロロエタン、テトラクロロエチ
レン、塩化メチレン等の塩素系溶剤またはフロン１１２
等のフロン系溶剤が使用されてきた。
微粒子、油脂、ワックス等の付着によるワークの汚染は
製品の歩留りと密接に関係する。そのため、洗浄工程を
設けて当該製品の清浄化を計ることが必須である。中で
も、油脂、ワックス類の除去は重要である。これらを溶
解し除去する洗浄液としては、従来、トリクロロエチレ
ン、１，１，１−トリクロロエタン、テトラクロロエチ
レン、塩化メチレン等の塩素系溶剤またはフロン１１２
等のフロン系溶剤が使用されてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、塩素系溶剤は
洗浄力は抜群に優れているが、塩素イオンが生じて被洗
浄物に腐食や損傷をもたらす可能性がある。また、塩素
系溶剤は人体に有害である。フロン系溶剤は溶剤そのも
のの安定性は大きいが、洗浄力は塩素系よりも劣る。さ
らに最近では、塩素系溶剤もフロン系溶剤も、共に環境
に対する汚染が問題とされている。これらはいずれも蒸
気圧が高く、被洗浄物の乾燥性には優れているが、使用
中に多量に気化して大気中に放散される。これらのガス
が大気中に放散されると、そのまま大気中を上昇し、オ
ゾン層の破壊をもたらす。このため、塩素系溶剤及びフ
ロン系溶剤の全面的使用禁止の機運が世界各国で急速に
高まりつつある。これらハロゲン系溶剤の代わりとし
て、脂肪族炭化水素系溶剤が洗浄液として提案されてい
る（特開平３―１４６５９７）。しかし、このものは溶
解力が充分でないためワックス類の溶解剤としては不適
当である。
洗浄力は抜群に優れているが、塩素イオンが生じて被洗
浄物に腐食や損傷をもたらす可能性がある。また、塩素
系溶剤は人体に有害である。フロン系溶剤は溶剤そのも
のの安定性は大きいが、洗浄力は塩素系よりも劣る。さ
らに最近では、塩素系溶剤もフロン系溶剤も、共に環境
に対する汚染が問題とされている。これらはいずれも蒸
気圧が高く、被洗浄物の乾燥性には優れているが、使用
中に多量に気化して大気中に放散される。これらのガス
が大気中に放散されると、そのまま大気中を上昇し、オ
ゾン層の破壊をもたらす。このため、塩素系溶剤及びフ
ロン系溶剤の全面的使用禁止の機運が世界各国で急速に
高まりつつある。これらハロゲン系溶剤の代わりとし
て、脂肪族炭化水素系溶剤が洗浄液として提案されてい
る（特開平３―１４６５９７）。しかし、このものは溶
解力が充分でないためワックス類の溶解剤としては不適
当である。
【０００４】一方、Ｎ−メチル−２−ピロリドンはワッ
クス類をよく溶解することが知られている。しかし、こ
れを例えば電子工業の製造工程においてマスキング材等
の各種ワックス類の洗浄除去に使用すると、被洗浄物の
表面に微粒子が強固に付着して除去できないという現象
が観察された。
クス類をよく溶解することが知られている。しかし、こ
れを例えば電子工業の製造工程においてマスキング材等
の各種ワックス類の洗浄除去に使用すると、被洗浄物の
表面に微粒子が強固に付着して除去できないという現象
が観察された。
【０００５】従って本発明の課題は、ワックス類に対す
る溶解速度が高く、被洗浄物を腐食損傷したりこの表面
に微粒子を残存したりすることなく、しかも人体・環境
に対して安全性の高いワックス溶解組成物を提供するこ
とにある。
る溶解速度が高く、被洗浄物を腐食損傷したりこの表面
に微粒子を残存したりすることなく、しかも人体・環境
に対して安全性の高いワックス溶解組成物を提供するこ
とにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明は、トリメチルベンゼン類、メチルエチルベン
ゼン類、またはプロピルベンゼン類の少なくとも一種類
の芳香族炭化水素を２０重量％以上含有する石油留分９
９．５〜２０重量％と、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
０．５〜８０重量％とからなるワックス溶解組成物を提
供する。
め本発明は、トリメチルベンゼン類、メチルエチルベン
ゼン類、またはプロピルベンゼン類の少なくとも一種類
の芳香族炭化水素を２０重量％以上含有する石油留分９
９．５〜２０重量％と、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
０．５〜８０重量％とからなるワックス溶解組成物を提
供する。
【０００７】本発明のワックス溶解組成物に用いられる
石油留分（以下、単に「石油留分」と称する）は、トリ
メチルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプ
ロピルベンゼン類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素
を２０重量％以上含有するものである。ここでトリメチ
ルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプロピ
ルベンゼン類の芳香族炭化水素とは、さらに詳しくは
１，２，３−トリメチルベンゼン、ｌ，２，４−トリメ
チルベンゼン、ｌ，３，５−トリメチルベンゼン、１−
メチル−２−エチルベンゼン、１−メチル−３−エチル
ベンゼン、１−メチル−４−エチルベンゼン、ノルマル
プロピルベンゼン、またはイソプロピルベンゼンであっ
て、本発明に使用する石油留分はこれらのうちの少なく
とも１種類を２０重量％以上含有している。
石油留分（以下、単に「石油留分」と称する）は、トリ
メチルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプ
ロピルベンゼン類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素
を２０重量％以上含有するものである。ここでトリメチ
ルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプロピ
ルベンゼン類の芳香族炭化水素とは、さらに詳しくは
１，２，３−トリメチルベンゼン、ｌ，２，４−トリメ
チルベンゼン、ｌ，３，５−トリメチルベンゼン、１−
メチル−２−エチルベンゼン、１−メチル−３−エチル
ベンゼン、１−メチル−４−エチルベンゼン、ノルマル
プロピルベンゼン、またはイソプロピルベンゼンであっ
て、本発明に使用する石油留分はこれらのうちの少なく
とも１種類を２０重量％以上含有している。
【０００８】このような石油留分は普通、ＬＰＧ、ナフ
サ等のクラッキングによってエチレン、プロピレン等を
生産するに際して分解ガソリンとして産出されるもので
ある。分解ガソリンはその原油産出国あるいはクラッキ
ング条件が変わると、上記炭素数９の芳香族炭化水素の
組成は変動するが、これらの含有量が２０重量％以上で
あれば、いずれも本発明のワックス溶解組成物に使用す
ることができる。本発明に使用する石油留分としては、
１４０〜２００℃の沸点範囲を有しているものが好まし
い。沸点が１４０℃未満であると引火点が低く取り扱い
に不便であり、２００℃以上では洗浄力が低下し洗浄後
の乾燥が困難となりまた昇華物が発生するなどの問題が
ある。
サ等のクラッキングによってエチレン、プロピレン等を
生産するに際して分解ガソリンとして産出されるもので
ある。分解ガソリンはその原油産出国あるいはクラッキ
ング条件が変わると、上記炭素数９の芳香族炭化水素の
組成は変動するが、これらの含有量が２０重量％以上で
あれば、いずれも本発明のワックス溶解組成物に使用す
ることができる。本発明に使用する石油留分としては、
１４０〜２００℃の沸点範囲を有しているものが好まし
い。沸点が１４０℃未満であると引火点が低く取り扱い
に不便であり、２００℃以上では洗浄力が低下し洗浄後
の乾燥が困難となりまた昇華物が発生するなどの問題が
ある。
【０００９】上記の石油留分、特にいわゆる分解ガソリ
ンには通常、微量のベンゼン、トルエン、エチルベンゼ
ン、オルトキシレン、メタキシレン、パラキシレン等が
含まれており、さらに８０重量％未満の割合で炭素数１
０の芳香族炭化水素類、例えばイソブチルベンゼン、se
c−ブチルベンゼン、１−メチル−２−イソプロピルベ
ンゼン、１−メチル−３−イソプロピルベンゼン、１−
メチル−４−イソプロピルベンゼン、１，３−ジエチル
ベンゼン、１，４−ジエチルベンゼン、１−メチル−２
−ｎ−プロピルベンゼン、１−メチル−３−ｎ−プロピ
ルベンゼン、１−メチル−４−ｎ−プロピルベンゼン、
１，２−ジメチル−３−エチルベンゼン、１，２−ジメ
チル−４−エチルベンゼン、１，３−ジメチル−２−エ
チルベンゼン、１，３−ジメチル−４−エチルベンゼ
ン、ｌ，３−ジメチル−５−エチルベンゼン、１，４−
ジメチル−２−エチルベンゼン、１，２，３，４−テト
ラメチルベンゼン、ｌ，２，３，５−テトラメチルベン
ゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、メチル
インダン等が含まれている。本発明に使用する石油留分
は、このような分解ガソリンまたはこれらの分解ガソリ
ン類の混合物であってもよい。
ンには通常、微量のベンゼン、トルエン、エチルベンゼ
ン、オルトキシレン、メタキシレン、パラキシレン等が
含まれており、さらに８０重量％未満の割合で炭素数１
０の芳香族炭化水素類、例えばイソブチルベンゼン、se
c−ブチルベンゼン、１−メチル−２−イソプロピルベ
ンゼン、１−メチル−３−イソプロピルベンゼン、１−
メチル−４−イソプロピルベンゼン、１，３−ジエチル
ベンゼン、１，４−ジエチルベンゼン、１−メチル−２
−ｎ−プロピルベンゼン、１−メチル−３−ｎ−プロピ
ルベンゼン、１−メチル−４−ｎ−プロピルベンゼン、
１，２−ジメチル−３−エチルベンゼン、１，２−ジメ
チル−４−エチルベンゼン、１，３−ジメチル−２−エ
チルベンゼン、１，３−ジメチル−４−エチルベンゼ
ン、ｌ，３−ジメチル−５−エチルベンゼン、１，４−
ジメチル−２−エチルベンゼン、１，２，３，４−テト
ラメチルベンゼン、ｌ，２，３，５−テトラメチルベン
ゼン、１，２，４，５−テトラメチルベンゼン、メチル
インダン等が含まれている。本発明に使用する石油留分
は、このような分解ガソリンまたはこれらの分解ガソリ
ン類の混合物であってもよい。
【００１０】これらの石油留分は市販品として入手する
ことができ、そのまま本発明のワックス溶解組成物の原
料成分として使用することができる。しかし、電子工業
用などで、ダストや微量の金属あるいは水分やイオン解
離性の不純物の含有が問題となる用途では、必要に応じ
て精製して使用することが望ましい。このような精製は
例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、抽出、濾過、乾
燥、蒸留などの通常の方法によって行うことができる。
また、上記炭素数９の芳香族炭化水素のいずれかの単離
された成分またはその単離成分の混合物も石油留分とし
て本発明に使用することができる。
ことができ、そのまま本発明のワックス溶解組成物の原
料成分として使用することができる。しかし、電子工業
用などで、ダストや微量の金属あるいは水分やイオン解
離性の不純物の含有が問題となる用途では、必要に応じ
て精製して使用することが望ましい。このような精製は
例えば、水洗、酸洗浄、アルカリ洗浄、抽出、濾過、乾
燥、蒸留などの通常の方法によって行うことができる。
また、上記炭素数９の芳香族炭化水素のいずれかの単離
された成分またはその単離成分の混合物も石油留分とし
て本発明に使用することができる。
【００１１】本発明のワックス溶解組成物は、Ｎ−メチ
ル−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰと記す）を含んでい
る。ＮＭＰは上記の石油留分と任意の割合で相互溶解す
ることができる。しかし組成物中でＮＭＰの配合割合が
０．５重量％未満であるとワックス類の充分な溶解除去
効果が得られず、また８０重量％を越えると、被洗浄物
の表面に微粒子が付着する傾向が観察される。よって、
本発明のワックス溶解組成物中におけるＮＭＰの配合割
合は、０．５〜８０重量％である。特に、経済効果等を
考慮すると０．５〜５０重量％とすることが好ましい。
ル−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰと記す）を含んでい
る。ＮＭＰは上記の石油留分と任意の割合で相互溶解す
ることができる。しかし組成物中でＮＭＰの配合割合が
０．５重量％未満であるとワックス類の充分な溶解除去
効果が得られず、また８０重量％を越えると、被洗浄物
の表面に微粒子が付着する傾向が観察される。よって、
本発明のワックス溶解組成物中におけるＮＭＰの配合割
合は、０．５〜８０重量％である。特に、経済効果等を
考慮すると０．５〜５０重量％とすることが好ましい。
【００１２】本発明のワックス溶解組成物を製造するに
は、上記の石油留分とＮＭＰとを上記の配合割合の範囲
内で単に混合均質化すればよい。本発明の組成物をエレ
クトロニクス工業分野で使用する場合には、上記成分を
混合し均質化した後で、必要なら濾過、限外濾過、超遠
心分離などの方法を用いて、ダストや懸濁物を可能な限
り除去することが好ましい。
は、上記の石油留分とＮＭＰとを上記の配合割合の範囲
内で単に混合均質化すればよい。本発明の組成物をエレ
クトロニクス工業分野で使用する場合には、上記成分を
混合し均質化した後で、必要なら濾過、限外濾過、超遠
心分離などの方法を用いて、ダストや懸濁物を可能な限
り除去することが好ましい。
【００１３】本発明のワックス溶解組成物は、上記の石
油留分とＮＭＰとの他に必要なら界面活性剤、着色剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、潤滑剤、希釈剤、その他の
添加剤を含んでいてもよい。また、本発明のワックス溶
解組成物は乳化剤または分散剤の存在下または非存在下
に、水中油形または油中水形のエマルジョンの形で使用
することもできる。
油留分とＮＭＰとの他に必要なら界面活性剤、着色剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、潤滑剤、希釈剤、その他の
添加剤を含んでいてもよい。また、本発明のワックス溶
解組成物は乳化剤または分散剤の存在下または非存在下
に、水中油形または油中水形のエマルジョンの形で使用
することもできる。
【００１４】本発明のワックス溶解組成物は種々なワッ
クス及び油脂を溶解することができるので、それらの溶
剤として、またはそれらが付着している物体からそれら
を洗浄除去する洗浄剤として使用することができる。本
発明のワックス溶解組成物が溶解することのできるワッ
クス及び油脂（これらを以下単に「ワックス類」とい
う）は、例えばパラフィンワックスのような炭化水素系
ワックス類、アピエゾンワックスのようなピッチ系ワッ
クス類、スカイペレットのようなロジン系ワックス類、
密ろうやラノリンワックスのような動物系ワックス類、
木ろうのような植物系ワックス類、モンタンワックスの
ような鉱物系ワックス類、合成ワックス類及びグリース
のような油脂組成物が含まれる。
クス及び油脂を溶解することができるので、それらの溶
剤として、またはそれらが付着している物体からそれら
を洗浄除去する洗浄剤として使用することができる。本
発明のワックス溶解組成物が溶解することのできるワッ
クス及び油脂（これらを以下単に「ワックス類」とい
う）は、例えばパラフィンワックスのような炭化水素系
ワックス類、アピエゾンワックスのようなピッチ系ワッ
クス類、スカイペレットのようなロジン系ワックス類、
密ろうやラノリンワックスのような動物系ワックス類、
木ろうのような植物系ワックス類、モンタンワックスの
ような鉱物系ワックス類、合成ワックス類及びグリース
のような油脂組成物が含まれる。
【００１５】従って本発明のワックス溶解組成物は単に
ワックス類を被洗浄物から溶解除去する洗浄剤として使
用できるばかりでなく、上記のようなワックス類をこの
組成物に溶解または混和し、そのまま、あるいは適当な
界面活性剤を用いて水中油形または油中水形に乳化また
は分散して、潤滑剤、撥水剤、防湿剤、つや出し剤、マ
スキング剤、皮膜剤、粘着剤などとして使用することも
できる。
ワックス類を被洗浄物から溶解除去する洗浄剤として使
用できるばかりでなく、上記のようなワックス類をこの
組成物に溶解または混和し、そのまま、あるいは適当な
界面活性剤を用いて水中油形または油中水形に乳化また
は分散して、潤滑剤、撥水剤、防湿剤、つや出し剤、マ
スキング剤、皮膜剤、粘着剤などとして使用することも
できる。
【００１６】本発明のワックス溶解組成物は特に、電子
工業において例えばシリコンウェハのマスキング剤等と
して用いられる各種ワックス類に対して大きな溶解力を
有し、これらのワックス類及び微粒子（パーティクル）
を被洗浄物から洗浄除去するための組成物として有効に
使用することができる。このようなウェハの洗浄に際し
て、既に述べたようにＮＭＰを単独で使用すると、洗浄
終了後の被洗浄物表面に微粒子が付着し除去できないと
いう現象が見いだされた。この微粒子の付着現象は、Ｎ
ＭＰと上記石油留分とからなる本発明のワックス溶解組
成物を洗浄剤として使用することによって特異的に防止
できる。
工業において例えばシリコンウェハのマスキング剤等と
して用いられる各種ワックス類に対して大きな溶解力を
有し、これらのワックス類及び微粒子（パーティクル）
を被洗浄物から洗浄除去するための組成物として有効に
使用することができる。このようなウェハの洗浄に際し
て、既に述べたようにＮＭＰを単独で使用すると、洗浄
終了後の被洗浄物表面に微粒子が付着し除去できないと
いう現象が見いだされた。この微粒子の付着現象は、Ｎ
ＭＰと上記石油留分とからなる本発明のワックス溶解組
成物を洗浄剤として使用することによって特異的に防止
できる。
【００１７】本発明の溶解組成物を上記のような電子工
業におけるワックス類の除去に使用する際は、通常は浸
漬法が採用される。この場合、洗浄効果をさらに強化す
るために超音波を使用することができる。しかし必要な
ら浸漬法に限らず、シャワー法、スピンナ法等の洗浄方
法も採用できる。
業におけるワックス類の除去に使用する際は、通常は浸
漬法が採用される。この場合、洗浄効果をさらに強化す
るために超音波を使用することができる。しかし必要な
ら浸漬法に限らず、シャワー法、スピンナ法等の洗浄方
法も採用できる。
【００１８】本発明の溶解組成物は、ワックス類の溶解
に関して従来の塩素系あるいはフロン系洗浄液と同等あ
るいはそれ以上の溶解力を有するのみならず、揮発性が
比較的軽微であって人体や環境に対する安全性が高く、
またこれを燃焼したときに有害物質や腐食性物質が発生
しないので、使用済みの液を廃棄することなく、ボイラ
ー等の良好な燃料として活用することが可能である。
に関して従来の塩素系あるいはフロン系洗浄液と同等あ
るいはそれ以上の溶解力を有するのみならず、揮発性が
比較的軽微であって人体や環境に対する安全性が高く、
またこれを燃焼したときに有害物質や腐食性物質が発生
しないので、使用済みの液を廃棄することなく、ボイラ
ー等の良好な燃料として活用することが可能である。
【００１９】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 （実施例１〜９）石油留分とＮＭＰの所定量を攪拌混合
して表１〜３に示すような溶解組成物を調製し、各種ワ
ックスの溶解速度、及びウェハ洗浄に際しての微粒子残
存の有無を測定した。実施例１〜９及び対応する比較例
において、石油留分としてはソルファイン−ＴＭ（徳山
石油化学株式会社製）を使用した。ソルファイン−ＴＭ
の組成は次の通りである。 トリメチルベンゼン類； ４５重量％ メチルエチルベンゼン類； ３５重量％ プロピルベンゼン類； ７重量％ その他； １３重量％
して表１〜３に示すような溶解組成物を調製し、各種ワ
ックスの溶解速度、及びウェハ洗浄に際しての微粒子残
存の有無を測定した。実施例１〜９及び対応する比較例
において、石油留分としてはソルファイン−ＴＭ（徳山
石油化学株式会社製）を使用した。ソルファイン−ＴＭ
の組成は次の通りである。 トリメチルベンゼン類； ４５重量％ メチルエチルベンゼン類； ３５重量％ プロピルベンゼン類； ７重量％ その他； １３重量％
【００２０】（溶解速度の測定）ワックスｌｇを一定の
形状に成形し、一定温度に保った溶解組成物１０ｍｌ中
に浸漬し、所定時間静置してしてから錠剤を引き上げ、
その減量から溶解速度を求めた。所定時間内に全て溶解
した場合はその時点で溶解速度を求めた。石油留分（ソ
ルファイン−ＴＭ）単独の溶解速度をｌとして、各溶解
組成物の溶解速度を比で示した。また所定時間内の未溶
解分の有無を記録した。 （微粒子残存の測定）それぞれのワックスで被覆したシ
リコンウェハを上記各溶解組成物中に浸漬し、ワックス
が除去された後のシリコンウェハ上の微粒子残存の有無
を目視により観察した。
形状に成形し、一定温度に保った溶解組成物１０ｍｌ中
に浸漬し、所定時間静置してしてから錠剤を引き上げ、
その減量から溶解速度を求めた。所定時間内に全て溶解
した場合はその時点で溶解速度を求めた。石油留分（ソ
ルファイン−ＴＭ）単独の溶解速度をｌとして、各溶解
組成物の溶解速度を比で示した。また所定時間内の未溶
解分の有無を記録した。 （微粒子残存の測定）それぞれのワックスで被覆したシ
リコンウェハを上記各溶解組成物中に浸漬し、ワックス
が除去された後のシリコンウェハ上の微粒子残存の有無
を目視により観察した。
【００２１】（実施例１〜３及び比較例１〜３）アピエ
ゾンワックス（軟化点８５℃）１ｇを１２ｍｍ×１０ｍ
ｍ×７ｍｍの直方体に成形し溶解速度測定試料とした。
溶解組成物温度は６５℃、浸漬時間は５分間とした。結
果を表１に示す。
ゾンワックス（軟化点８５℃）１ｇを１２ｍｍ×１０ｍ
ｍ×７ｍｍの直方体に成形し溶解速度測定試料とした。
溶解組成物温度は６５℃、浸漬時間は５分間とした。結
果を表１に示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】（実施例４〜６及び比較例４〜６）パラフ
ィンワックス（軟化点５９℃）１ｇを２８ｍｍ×２８ｍ
ｍ×１．５ｍｍの直方体に成形し溶解速度測定試料とし
た。溶解組成物温度は５０℃、浸漬時間は５分間とし
た。結果を表２に示す。
ィンワックス（軟化点５９℃）１ｇを２８ｍｍ×２８ｍ
ｍ×１．５ｍｍの直方体に成形し溶解速度測定試料とし
た。溶解組成物温度は５０℃、浸漬時間は５分間とし
た。結果を表２に示す。
【００２４】
【表２】
【００２５】（実施例７〜９及び比較例７〜９）スカイ
ペレットワックス（軟化点６１℃）１ｇを３０ｍｍφ×
１．５ｍｍ厚みのペレットに成形し溶解速度測定試料と
した。溶解組成物温度は５０℃、浸漬時間は８分間とし
た。結果を表３に示す。
ペレットワックス（軟化点６１℃）１ｇを３０ｍｍφ×
１．５ｍｍ厚みのペレットに成形し溶解速度測定試料と
した。溶解組成物温度は５０℃、浸漬時間は８分間とし
た。結果を表３に示す。
【００２６】
【表３】
【００２７】（実施例１０）実施例１〜９において、石
油留分としてソルファイン−ＴＭの代わりに下記の組成
を有する石油留分を使用した以外は同様にして実施例１
０の各溶解組成物を調製し、実施例１〜９と同様にして
ワックスの溶解速度とシリコンウェハ上の微粒子残存の
有無を測定した。実施例１０で用いた石油留分の組成は
次の通りである。 トリメチルベンゼン類； ５５重量％ メチルエチルベンゼン類； ３２重量％ プロピルベンゼン類； ４重量％ その他； ９重量％ 試験の結果は、溶解速度、微粒子残存の有無とも実施例
１〜９と同様であった。
油留分としてソルファイン−ＴＭの代わりに下記の組成
を有する石油留分を使用した以外は同様にして実施例１
０の各溶解組成物を調製し、実施例１〜９と同様にして
ワックスの溶解速度とシリコンウェハ上の微粒子残存の
有無を測定した。実施例１０で用いた石油留分の組成は
次の通りである。 トリメチルベンゼン類； ５５重量％ メチルエチルベンゼン類； ３２重量％ プロピルベンゼン類； ４重量％ その他； ９重量％ 試験の結果は、溶解速度、微粒子残存の有無とも実施例
１〜９と同様であった。
【００２８】以上の結果から、本発明のワックス溶解組
成物の実施例が、いずれのワックスに対しても優れた溶
解速度を示し、またウェハ上の微粒子を除去し得るもの
であることは明かである。これと比較して溶剤組成物が
ＮＭＰを含まないか、０．５重量％未満のＮＭＰを含む
場合は溶解速度が遅くて、規定時間内にワックスを溶解
することができず、またＮＭＰが８０重量％を越える場
合はウェハ上に微粒子が残存し洗浄液として不適性であ
ることが分かる。
成物の実施例が、いずれのワックスに対しても優れた溶
解速度を示し、またウェハ上の微粒子を除去し得るもの
であることは明かである。これと比較して溶剤組成物が
ＮＭＰを含まないか、０．５重量％未満のＮＭＰを含む
場合は溶解速度が遅くて、規定時間内にワックスを溶解
することができず、またＮＭＰが８０重量％を越える場
合はウェハ上に微粒子が残存し洗浄液として不適性であ
ることが分かる。
【００２９】
【発明の効果】本発明のワックス溶解組成物は、トリメ
チルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプロ
ピルベンゼン類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素を
２０重量％以上含有する石油留分９９．５〜２０重量％
と、Ｎ−メチル−２−ピロリドン０．５〜８０重量％と
からなるものであるので、ワックス類に対する溶解速度
が高く、被洗浄物を腐食損傷したりその表面に微粒子を
残存したりすることなく、しかも人体・環境に対して安
全性が高いという効果がある。
チルベンゼン類、メチルエチルベンゼン類、またはプロ
ピルベンゼン類の少なくとも一種類の芳香族炭化水素を
２０重量％以上含有する石油留分９９．５〜２０重量％
と、Ｎ−メチル−２−ピロリドン０．５〜８０重量％と
からなるものであるので、ワックス類に対する溶解速度
が高く、被洗浄物を腐食損傷したりその表面に微粒子を
残存したりすることなく、しかも人体・環境に対して安
全性が高いという効果がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:32）
Claims (1)
- 【請求項１】 トリメチルベンゼン類、メチルエチルベ
ンゼン類、またはプロピルベンゼン類の少なくとも一種
類の芳香族炭化水素を２０重量％以上含有する石油留分
９９．５〜２０重量％と、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
０．５〜８０重量％とからなることを特徴とするワック
ス溶解組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27751492A JPH06128592A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | ワックス溶解組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27751492A JPH06128592A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | ワックス溶解組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128592A true JPH06128592A (ja) | 1994-05-10 |
Family
ID=17584663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27751492A Withdrawn JPH06128592A (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | ワックス溶解組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06128592A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08254602A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄剤 |
| JP2002097494A (ja) * | 2000-09-22 | 2002-04-02 | Japan Energy Corp | 化学プラント用洗浄剤およびその洗浄方法 |
| WO2005001015A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Asahi Glass Company, Limited | 洗浄すすぎ方法 |
| JP2008138079A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Japan Energy Corp | 洗浄液組成物 |
| JP2009074053A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-04-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 硫黄およびセレン原子を含む光学材料用組成物の洗浄剤および洗浄方法 |
| JP4530381B2 (ja) * | 1999-12-08 | 2010-08-25 | 株式会社ジャパンエナジー | 洗浄液組成物 |
-
1992
- 1992-10-15 JP JP27751492A patent/JPH06128592A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08254602A (ja) * | 1995-03-16 | 1996-10-01 | Japan Energy Corp | 光学部品用洗浄剤 |
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| JPWO2005001015A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2006-08-10 | 旭硝子株式会社 | 洗浄すすぎ方法 |
| US7662192B2 (en) | 2003-06-27 | 2010-02-16 | Asahi Glass Company, Limited | Cleaning and rinsing method |
| JP2010242097A (ja) * | 2003-06-27 | 2010-10-28 | Asahi Glass Co Ltd | 洗浄すすぎ方法 |
| JP4655931B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2011-03-23 | 旭硝子株式会社 | 洗浄すすぎ方法 |
| JP2008138079A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Japan Energy Corp | 洗浄液組成物 |
| JP2009074053A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-04-09 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 硫黄およびセレン原子を含む光学材料用組成物の洗浄剤および洗浄方法 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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