JP2002097494A - 化学プラント用洗浄剤およびその洗浄方法 - Google Patents
化学プラント用洗浄剤およびその洗浄方法Info
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Abstract
完全に除去し、かつ、作業上・環境上の制約のない、洗
浄方法および洗浄剤を提供する 【解決手段】 化学プラント内に付着した不溶性汚れを
洗浄するための洗浄剤であって、炭素数9〜18の芳香
族炭化水素を80重量%以上含有し、蒸留性状における
5%留出温度が150℃以上、95%留出温度が320
℃以下であることを特徴とし、特には、その不溶性汚れ
が、ヘプタン不溶分を5%以上含み、トルエン不溶分を
0.2%以上含み、かつ、動粘度(120℃)が500
mm2/s以上である。
Description
学製品などを製造する化学プラントに付着した不溶性汚
れの洗浄に関する。
熱などにより炭化水素重合物などの不溶性の汚れが堆積
し、配管が閉塞するため、正常な運転が困難となること
がある。また、閉塞しない場合でも、圧損を低減させな
ければならない熱交換器などでは、このような堆積が障
害となる。さらに、タワーやベッセルなどの圧力容器で
は、定期的に材料の残存肉厚を測定しなければならない
が、正確な残存肉厚の測定のためには堆積した汚れを完
全に除去することが必要となる。このような汚れは、装
置内にスチームを導入して軟化させ、スチームの凝集し
た水とともに抜き出すスチーム洗浄により除去される。
は、汚れを完全に除去することができず、人手により汚
れを機械的に除去することとなる。これは、作業者の技
量によっては洗浄むらが多く残ることもあり、多くの人
手・時間を必要としていた。また、汚れにより閉塞した
配管の洗浄では、スチームを導入することができず、ス
チーム洗浄を行うことができない。トリクロロエチレン
・塩化メチレン・フロン溶剤などを用いて洗浄すること
もできるが、これらの洗浄剤は作業上・環境上の取り扱
いが難しい。本発明は、このような課題を解決するもの
で、化学プラント内に付着した不溶性の汚れを、完全に
除去し、かつ、作業上・環境上の制約のない、洗浄方法
および洗浄剤を提供するものである。
内に付着した不溶性汚れを洗浄するための洗浄剤であっ
て、炭素数9〜18の芳香族炭化水素を80重量%以上
含有し、蒸留性状における5%留出温度が150℃以
上、95%留出温度が320℃以下であることを特徴と
し、特には、その不溶性汚れが、ヘプタン不溶分を5%
以上含み、トルエン不溶分を0.2%以上含み、かつ、
動粘度(120℃)が500mm2/s以上である。
不溶性汚れが付着した化学プラント内に、炭素数9〜1
8の芳香族炭化水素を80重量%以上含有し、蒸留性状
における5%留出温度が150℃以上、95%留出温度
が320℃以下である洗浄剤を導入して前記不溶性汚れ
を浸漬するものである。
重量%以上含有し、蒸留性状における5%留出温度が1
50℃以上、95%留出温度が320℃以下である洗浄
剤は、化学プラント内の不溶性汚れを溶解する能力が高
い。このため、機械的洗浄や人手に頼ることなく、効率
的な洗浄が可能となる。また、洗浄剤の環境上・作業上
の制約も少なく、洗浄後の廃液も処理しやすい。
剤において、炭素数9〜18の芳香族炭化水素は、アル
キルベンゼン、ナフタレンおよびアルキル置換ナフタレ
ンを含むものである。洗浄能力の点から炭素数9〜16
の芳香族炭化水素であることが好ましい。具体的には、
炭素数9のアルキルベンゼンとして、イソプロピルベン
ゼン、n−プロピルベンゼン、1,2−エチルメチルベ
ンゼン、1,3−エチルメチルベンゼン、1,4−エチ
ルメチルベンゼン、1,2,3−トリメチルベンゼン、
1,2,4−トリメチルベンゼン、1,3,5−トリメ
チルベンゼン、インダンなどが、炭素数10のアルキル
ベンゼンとして、イソブチルベンゼン、sec−ブチル
ベンゼン、1,3−ジエチルベンゼン、1−メチル−3
−n−プロピルベンゼン、1,4−ジエチルベンゼン、
1,3−ジメチル−5−エチルベンゼン、1,2,4,
5−テトラメチルベンゼン、メチルインダン、テトラリ
ンなどが、炭素数11のアルキルベンゼンとして、ペン
チルベンゼン、トリメチルエチルベンゼン、ジエチルメ
チルベンゼン、ジメチルインダン、エチルインダンなど
が、炭素数12のアルキルベンゼンとして、ヘキシルベ
ンゼン、トリエチルベンゼンなどが、そして、炭素数1
1〜16のアルキルナフタレンとして、メチルナフタレ
ン、ジメチルナフタレン、ジメチル−イソプロピルナフ
タレン、メチル−n−プロピルナフタレン、ジメチルプ
ロピルナフタレン、ジイソプロピルナフタレンなどが挙
げられる。これらの化合物を単独で用いても必要に応じ
て2種以上を混合して用いても差し支えない。また、こ
れらの芳香族炭化水素を含有する石油留分などを用いる
こともできる。
上、好ましくは90重量%以上である。また、芳香族炭
化水素の炭素数は9〜16,特には9〜14であること
が洗浄能力の点から好ましい。
度が150℃以上、好ましくは160℃以上、95%留
出温度が320℃以下、好ましくは280℃以下であ
る。5%留出温度が150℃未満では、引火点が低くな
り取扱い上好ましくない。また、95%留出温度が32
0℃を越えると、洗浄剤の浸透力が低いため好ましくな
い。なお、本明細書における蒸留性状は、蒸留試験はJ
IS K 2254(石油製品−蒸留試験方法)に準拠
して測定するものである。
わない範囲で、他の炭化水素類、エステル類、アルコー
ル類、グリコールエーテル類、ケトン類等の配合成分
や、界面活性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤等
の慣用の添加剤を含めることができる。界面活性剤とし
ては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級アル
コールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノール
エチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド
付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加
物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、シ
ョ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系等いずれの
ものも使用できる。また、紫外線吸収剤及び酸化防止剤
としては、洗浄剤の長期保存等における安定性の向上に
役立ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾー
ル系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等を使用
でき、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン
系、硫黄系、リン系等、本発明の洗浄液組成物に溶解す
るものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤
を、50〜1000ppm添加することが特に好まし
い。
プラントとしては、原油からナフサ、ガソリン、重油な
どの石油製品を精製するための石油精製装置、残渣油な
どから石油コークスを製造する石油コークス製造装置、
ナフサなどの石油化学原料から石油化学製品を製造する
石油化学製造装置、ポリエチレンの重合などを行う高分
子合成装置、界面活性剤、染料などを合成する有機合成
装置などが挙げられる。特に、汚れが堆積し、閉塞して
いる部分の洗浄に有効である。
を除去する。この汚れは、通常、ヘプタン不溶分を5〜
30%含み、トルエン不溶分を0.2〜5%含み、か
つ、動粘度(120℃)が500〜1500mm2/s
であり、特には、ヘプタン不溶分を15%以上含み、ト
ルエン不溶分を1%以上含み、かつ、動粘度(120
℃)が1000mm2/s以上であるような汚れを除去
することもできる。ヘプタン不溶分、トルエン不溶分
は、石油学会法JPI−5S−22に準拠し、動粘度
(120℃)はJIS K2207に準拠して測定し
た。
洗浄剤を導入し、洗浄剤を循環すること、または、その
まま静置して洗浄することもできる。洗浄時に加熱して
もよい。加熱は、化学プラントの熱交換器、加熱炉など
により加熱してもよいし、スチームなどを導入してもよ
い。特に、閉塞部分の洗浄のためには、常温(0〜40
℃)において浸漬して静置することで十分に洗浄でき
る。なお、本発明では使用後の洗浄剤は、重油などの燃
料と混合して燃焼させること、または、原油に混合して
石油原料とすることができるため、廃棄物として処理す
る必要がない。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
分解装置(ディレードコーカー)では、加熱した重質油
をコークドラムに導入して、熱分解させ、軽質な熱分解
油を製造する際に石油コークスが副製品として得られ
る。この熱分解に付帯する石油コークスの冷却時に、油
分や微細なコークス分を含んだ水蒸気が発生する。この
水蒸気は、そのまま大気中へ放出することができないた
め、エアフィンクーラで冷却して、液化し回収してい
る。このエアフィンクーラは、外径20mm、管厚2m
m、長さ12mのチューブ300本で構成されている。
このチューブ内に重質油分、コークス粉などの汚れ成分
が蓄積し、閉塞するため、運転が困難となることもあ
る。この汚れを採取して分析したところ、ヘプタン不溶
分を21%、トルエン不溶分を2%含み、かつ、動粘度
(120℃)が1168mm2/sであった。
1〜3、ナフテン系洗浄剤、パラフィン系洗浄剤を用い
た。これらの洗浄剤の性状を表1に示す。なお、芳香族
系洗浄剤1は、トリメチルベンゼンを53重量%、メチ
ルエチルベンゼンを38重量%、n−プロピルベンゼン
を4重量%含有する。芳香族系洗浄剤2は、炭素数10
のアルキルベンゼンを38重量%、炭素数9のアルキル
ベンゼンを36重量%、メチルインダンを15重量%含
有する。芳香族系洗浄剤3は、メチルナフタレンを61
重量%、ジメチルナフタレンを17重量%、エチルナフ
タレンを15重量%含有する。表1中、ナフテゾールH
は日石三菱株式会社の商品名であり、NSクリーン23
0は日鉱石油化学株式会社の商品名である。
残留した不溶性閉塞物に対する溶解力を評価した。不溶
性の汚れとしてこの不溶性閉塞物10gを、洗浄剤10
0mlに投入して、25℃で30分間攪拌して溶解させ
た。その結果、不溶性の汚れが完全に溶解したものを
○、溶解ぜず残った洗浄剤を×として表1に示した。こ
のように、芳香族系洗浄剤1〜3は、このような汚れに
優れた溶解力を示すが、それ以外では、溶解できず、洗
浄剤として適切でないことがわかる。
後、エアフィンクーラを開放して芳香族系洗浄剤1を汚
れにより閉塞したチューブ内に導入した。そのまま常温
(18〜20℃)で、24時間放置し、その後、洗浄剤
を抜き出した。チューブ内を観察したところ、閉塞して
いた汚れは完全になくなっていた。
Claims (3)
- 【請求項1】 化学プラント内に付着した不溶性汚れを
洗浄するための洗浄剤であって、炭素数9〜18の芳香
族炭化水素を80重量%以上含有し、蒸留性状における
5%留出温度が150℃以上、95%留出温度が320
℃以下であることを特徴とする化学プラント用洗浄剤。 - 【請求項2】 請求項1の不溶性汚れが、ヘプタン不溶
分を5%以上含み、トルエン不溶分を0.2%以上含
み、かつ、動粘度(120℃)が500mm2/s以上
である請求項1記載の化学プラント用洗浄剤。 - 【請求項3】 不溶性汚れが付着した化学プラント内
に、炭素数9〜18の芳香族炭化水素を80重量%以上
含有し、蒸留性状における5%留出温度が150℃以
上、95%留出温度が320℃以下である洗浄剤を導入
して前記不溶性汚れを浸漬する工程を含む化学プラント
の洗浄方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2000287888A JP2002097494A (ja) | 2000-09-22 | 2000-09-22 | 化学プラント用洗浄剤およびその洗浄方法 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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