KR100354301B1 - 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매조성물 및 이를 사용한 물품의 청정화 또는 건조방법 - Google Patents

세정, 린스 또는 건조를 위한 용매조성물 및 이를 사용한 물품의 청정화 또는 건조방법 Download PDF

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히로까주 아오야마
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다이낑 고오교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 1H,2H/-헥사플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3-펜타플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3,4,4,5,5-노나플루오로사이클로펜탄, 1H/2H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H/3H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,4H,2H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/4H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H,4H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,3H/2H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/3H-헵타플루오로사이클로펜탄 및 1H,2H/3H-헵타플루오로사이클로펜탄으로 구성된 그룹중에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 세정 용매 조성물 및 이를 사용하여 제품을 세정 또는 건조하기 위한 방법 및 세정제로의 상기 조성물의 용도를 개시한다.

Description

세정, 린스 또는 건조를 위한 용매 조성물 및 이를 사용한 물품의 정정화 또는 건조 방법{CLEANING SOLVENT COMPOSITION AND A METHOD FOR CLEANING OR DRYING ARTICLES}
기술분야
본 발명은 세정 용매 조성물 및 이를 사용한 물품의 세정 방법 또는 건조 방법에 관한 것으로, 예를 들면 IC 부품, 정밀 기계 부품등에 부착된 플럭스(flux), 유지류, 먼지 등을 제거하는데 적합한 세정 용매 조성물 및 이를 사용하여 물품을 세정 또는 건조하는 방법에 관한 것이다.
배경기술
이제까지는 IC 부품, 정밀 기계 부품 등을 제조할때, 조립 공정에서 부품에 부착된 플럭스, 먼지 등을 제거하기 위해 통상적으로 유기 용매를 사용하여 세정을 행하였다.
유기 용매로 1,1,2-트리클로로-1,2,2-트리플루오로에탄(이하 R-113으로 칭함)이 광범위하게 사용되었다. R-113은 불연성이며, 생체내 독성이 적고, 안정성이 우수하다. 더우기, 적당한 용해성을 가지므로 각종 오염원을 선택적으로 용해시켜 금속, 플라스틱, 탄성중합체 등을 침식하지 않는다. 인쇄 회로 기판상의 플럭스를 세정하는 경우, 세정되는 물품은 일반적으로 금속, 플라스틱, 탄성중합체 등으로 제조한 복합 부품이 많기 때문에 R-113이 특히 유리하다.
그러나, 최근 R-113은 성층권의 오존을 파괴하여 피부암 발생의 원인으로 생각되므로, 이의 사용이 점차 규제되고 있다.
R-113 이외의 세정 용매로는, 미국 특허 제 5,176,757 호에 개시된 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로사이클로펜탄 및 일본 특허 공개 제 93-140594 호에 개시된 1,1,2,2-테트라플루오로사이클고부탄과 같은 환상 불화 탄화수소가 공지되어 있다.
상기의 공지된 환상 화합물은 수소 원자수가 많아서 가연성이고, 따라서 승온하에 세정에 사용되거나 재사용되는 세정제로서 사용할 때 안전상 문제가 있다.
발명의 개시
본 발명의 발명자들은 선행 기술에 대한 광범위한 연구를 수행하여, 특정 불화탄화수소가 (1) 불연성으로, 분자내에 염소가 없어서 오존을 파괴할 우려가 없고, (2) 플럭스, 유지류, 먼지 등을 세정하는데 우수한 효과를 나타내고, (3) 종래 사용되어 온 R-113과 유사하게 적당한 용해도를 갖기 때문에, 각종 먼지를 선택적으로 용해제거하여 금속, 플라스틱, 탄성중합체 등으로 제조한 복합 부품을 침식하지 않고, (4) 물품에 부착된 물을 용해 및 분리함으로써 물품에서 물을 제거하는 우수한 건조 효과를 나타내고, (5) 유기 용매를 병용하는 세정 방법에 사용되는 린스제로 우수하다는 것을 밝혀내어 본 발명을 완성하였다.
따라서, 본 발명은 1H,2H/-헥사플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3-펜타플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3,4,4,5,5-노나플루오로사이클로펜탄, 1H/2H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H/3H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,4H,2H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/4H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H,4H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,3H/2H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/3H-헵타플루오로사이클로펜탄 및 1H,2H,3H/-헵타플루오로사이클로펜탄(이하, 본 발명의 제 1 실시태양으로 칭함)으로 구성된 그룹중에서 선택된 하나 이상을 포함하는 세정 용매 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 1H,2H/-헥사플루오로사이클로부탄을 포함하는 세정 용매 조성물이 바람직하다.
본 발명의 세정 용매 조성물에 따르면, 유효 성분으로, 전술한 환상 불화탄화수소는 성능 (1) 내지 (5)를 나타내며, R-113의 대용물로 매우 유용한 물질이다. 본 발명의 화합물의 구조식, 물성 및 제법을 문헌과 함께 하기 표 1에 나타낸다.
표 1
표 1에서, 1H, 2H/ 등은 수소 원자의 위치 차이를 나타내는 것이다.
또한, 환상 불화탄화수소는 치환체로서 트리플루오로메틸 그룹을 가질 수 있다. 치환체를 갖는 바람직한 화합물은 예를 들면 1-트리플루오로메틸-1,2,2,4-테트라플루오로사이클로부탄이 있다.
환상 불화탄화수소는 1 또는 2개의 트리플루오로메틸 그룹으로 치환될 수 있으며, 바람직하게는 1개의 트리플루오로메틸 그룹으로 치환될 수 있다.
하기 표 2에 1개의 트리플루오로메틸 그룹이 치환된 환상 불화탄화수소의 구조식, 물성 및 제법을 문헌과 함께 나타내었다.
표 2
제 1 실시태양에서, 상기 환상 불화탄화수소의 함유량은 특별히 한정하지 않으나, 보통 70중량% 이상, 바람직하게는 80중량% 이상이다.
세정 용매 조성물은 플럭스(flux)의 용해력을 향상시키기 위해 탄화수소(I), 알콜(I), 에스테르(I) 및 케톤(I)과 같은 유기 용매(I)중에서 선택된 하나 이상을 함유할 수 있다.
유기 용매(I)의 배합량은 특별히 한정되지 않으나, 보통 세정 용매 조성물의 총량을 기준으로 30중량% 이하, 바람직하게는 2 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 3 내지 8중량%이다.
상기 환상 불화탄화수소와 상기 유기 용매(I)의 혼합물에 공비 조성이 존재하는 경우, 상기 세정 용매 조성물을 공비 조성에서 사용하는 것이 바람직하다.
상기 탄화수소(I)는 특별히 한정되지 않지만, 헥산, 헵탄, 이소헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 메틸사이클로펜탄, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산, 톨루엔 등이 바람직하다.
상기 알콜(I)은 특별히 한정되지 않지만, 탄소수 1 내지 6의 쇄상 포화 알콜류가 바람직하며, 예를 들면 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, n-부틸 알콜, 2급-부틸 알콜, 3급-부틸 알콜, 펜틸 알콜, 2급-아밀 알콜, 1-에틸-1-프로판올, 2-메틸-1-부탄올, 이소펜틸 알콜, 3급-펜틸 알콜, 3-메틸-2-부탄올, 네오펜틸 알콜, 2-에틸-1-부탄올이 있다. 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, n-프로판올 등이 특히 바람직하다.
상기 에스테르(I)는 특별히 한정되지 않지만, 탄소수 약 1 내지 5의 지방산과 탄소수 약 1 내지 6의 저급 알콜의 에스테르가 바람직하다. 에스테르(I)는 예를 들면 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 이소부틸 아세테이트, 펜틸 아세테이트, 헥실 아세테이트, 메틸 아세테이트, 에틸 프로피오네이트, 프로필 프로피오네이트, 이소프로필 프로피오네이트, 메틸 부티레이트, 에틸 부티레이트, 메틸 발레레이트 등을 들 수 있다. 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트 및 부틸 아세테이트가 특히 바람직하다.
상기 케톤(I)은 특별히 한정되지 않으나, 일반식 R-CO-R'(이때, R 및 R' 는 탄소수 1 내지 4의 직쇄 또는 분지쇄 포화 탄화수소 그룹을 나타낸다)의 화합물이 바람직하다. 케톤(I)은 예를 들면 아세톤, 2-부타논, 2-펜타논, 3-펜타논, 4-메틸-2-펜타논 등이 있다. 아세톤, 2-부타논 및 4-메틸-2-펜타논이 특히 바람직하다.
본 발명의 세정 용매 조성물은 또한 각종 목적에 따라 통상적으로 상기 유형의 세정 용매와 배합되는 성분을 함유할 수 있다. 상기 성분으로는 예를 들면 계면활성제 등의 각종 세정 보조제와 안정제, 오존을 파괴할 가능성이 적은 수소 함유 염소화불화탄화수소 및 오존을 파괴할 가능성이 적은 수소 함유 불화탄화수소가 포함된다.
본 발명의 세정 용매 조성물은 오염물이 부착된 물품을 세정하는데 유용하며, 예를 들면 플럭스, 그리스, 오일, 왁스 등의 유지류를 세정하고, 먼지를 제거하는데 유용하다. 본 발명의 세정 용매 조성물은 또한 물품에 부착된 물을 제거하고 건조시키는데 유용하다.
세정 대상 물품은 예를 들면 금속, 플라스틱, 탄성중합체 등과 같은 물질로 제조한 IC 부품, 정밀 기계 부품 등이 있다.
플럭스, 유지류를 세정하고, 먼지를 제거할때, 통상의 세정 방법을 상기 물품에 적용할 수 있다. 구체적으로는, 손으로 닦거나, 침지, 분무, 요동, 초음파 세정, 증기 세정 등과 같은 방법을 예로 들 수 있다.
또한, 증기 세정방법에서는 물이 부착된 물품에 세정 용매 조성물을 접촉시켜 상기 물을 용해 및 분리시키므로써 물품의 건조 방법을 수행한다.
본 발명에 따라, 오염물이 부착된 물품을 본 발명의 세정 용매 조성물이 아닌 용매, 특히 지방족 탄화수소(II), 방향족 또는 지환족 탄화수소(II), 고급 알콜(II), 에테르(II) 및 유기 규소(II)중에서 선택된 하나이상을 포함하는, 100℃이상의 비점을 갖는 유기 용매(II)와 접촉시킴을 포함하는 오염물을 제거하는 세척 단계; 및 상기 처리된 물품을 본 발명의 세정 용매 조성물과 접촉시킴을 포함하는 세정 단계에 의해 물품을 청정화할 수 있다(이하, 본 발명의 제 2 실시태양으로 칭함).
100℃ 이상의 비점을 갖는 유기 용매(II)는 예를 들면 하기에 나타낸다.
지방족 탄화수소(II): n-헥산, 이소헵탄, 이소옥탄, 가솔린, 석유 나프타, 미네랄 스피릿(mineral spirit) 및 등유.
방향족 또는 지환족 탄화수소(II): 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 사이클로헥산, 메틸사이클로헥산, 테트랄린, 데칼린, 디펜텐, 사이멘, 테르펜, α-피넨 및 투르펜틴 오일.
고급 알콜(II): 2-에틸부틸알콜, 2-에틸헥실알콜, 노닐알콜, 데실알콜 및 사이클로헥산올.
글리콜 에테르: 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에텔렌글리콜 모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸 에테르 및 디에틸렌글리콜 디메틸에테르.
유기 규소(II): 디메틸폴리실록산, 사이클로폴리실록산 및 옥타메틸사이클로테트라실록산.
유기 용매(II)는 선택적으로 비이온성 계면 활성제 및/또는 물을 함유할 수 있다.
상기 세정 방법의 린스 단계에서는, 상기 환상 불화탄화수소와 하기에 나타낸 탄화수소(III), 저급 알콜 (III) 및 케톤(III)으로 구성된 그룹중에서 선택된 하나 이상의 린스 보조제를 포함하는 혼합물을 사용하여 린스 공정을 수행할 수 있다. 린스 보조제의 배합량은 린스제 전체의 20% 미만이 바람직하다. 린스 보조제의 배합량이 10% 미만인 경우에는, 혼합물이 불연성인 경우가 많으므로 10% 미만이 더욱 바람직하다.
상기 기술한 바와 같이, 상기 린스 보조제 및 상기 환상 불화탄화수소를 배합할 수 있지만, 공비 혼합물이 더욱 바람직하다. 상기 환상 불화탄화수소와 탄화수소(III), 저급 알콜(III) 및 케톤(III)으로 구성된 그룹중에서 선택된 하나 이상의 린스 보조제를 포함하는 혼합물이 공비 또는 공비유사 조성물인 것이 바람직하다.
유용한 린스 보조제의 예를 하기에 나타낸다.
탄화수소(III): n-펜탄, n-헥산, 이소헥산, n-헵탄, 이소옥탄, 사이클로펜탄, 사이클로헥산 및 메틸사이클로헥산.
저급 알콜(III): 메틸 알콜, 에틸 알콜, n-프로필 알콜, 이소프로필 알콜 및 부틸 알콜.
케톤(III): 아세톤 및 메틸에틸케톤.
상기 린스 보조제는 증기 린스 단계에 사용되거나 또는 분별 증류후 재사용될 수 있기 때문에, 통상 20 내지 100℃, 바람직하게는 30 내지 100℃의 비점을 갖는다. 배합하는 환상 불화탄화수소와 비점이 유사하거나 상기 범위의 비점내에서 공비 또는 공비 유사 조성물을 형성하는 린스 보조제가 더욱 바람직하다. 후자의경우, 상기 린스 보조제의 비점은 상기 범위외의 비점일 수 있다.
본 발명의 세정 단계 및 린스 단계를 포함하는 청정화 방법으로 다양한 오염물질을 세정하여 제거할때, 오염물이 부착된 물품을 먼저 상기 유기 용매(II)와 접촉시킨다.
유기 용매(II)와 물품을 접촉시키는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 물품을 유기 용매에 침지시키는 방법, 유기 용매를 물품에 분무하는 방법 등의 임의의 방법으로 수행된다.
접촉하는 동안 유기 용매(II)의 온도는 특별히 한정되지 않지만 오염물질의 제거를 촉진하기 위해 유기 용매(II)의 발화점이내에서 어느 정도 가열하는 것이 바람직하다.
침지 처리시에는, 오염물질의 용해제거를 촉진시키기 위해서, 초음파 진동, 교반, 솔질 및 기계력을 부과하는 등의 수단을 병용하는 것이 좋다.
물품과 유기 용매(II)를 오염물질이 원하는 정도로 제거되는데 충분한 시간동안 접촉시킨다. 이어서, 유기 용매의 접촉하여 세척한 물품을 환상 불화탄화수소를 포함하는 린스액과 접촉시켜 헹군다. 물품과 린스액을 접촉시키는 방법은 특별히 한정되지 않으며, 물품을 린스액에 침지시키는 방법, 린스액의 증기로 물품을 세정하는 방법 등으로 수행된다.
린스 효과를 개선시키기 위해, 동일한 린스 방법을 반복하거나 또는 여러 린스 방법을 반복하여 린스 단계를 수행할 수 있다. 특히, 침지 또는 분무 방법과 증기 세정을 병용할때 세정 효과가 개선된다. 이경우, 증기 린스 공정은 헹궁 공정후에 수행하는 것이 바람직하다.
본 발명은 또한 세정제로서 1H,2H/-헥사플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3-펜타플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3,4,4,5,5-노나플루오로사이클로펜탄, 1H/2H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H/3H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,4H,2H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/4H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H,4H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,3H/2H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/3H-헵타플루오로사이클로펜탄 및 1H,2H,3H/-헵타플루오로사이클로펜탄으로 구성된 그룹중에서 선택된 하나 이상을 포함하는 세정 용매 조성물의 용도에 관한 것이다. 본 발명의 세정 조성물은, 상기한 특정의 환상 불화탄화수소를 유효 성분으로 하기 때문에 하기 (1) 내지 (4)의 탁월한 효과를 나타낼수 있다.
(1) 조성물은 불연성이며 분자내에 염소 원자가 존재하지 않아 오존을 파괴할 가능성이 없다.
(2) 조성물은 플럭스, 유지류, 먼지 등을 세척하는데 우수한 효과를 나타낸다.
(3) 종래 사용된 R-113과 유사하게 적당한 용해도를 갖기 때문에 조성물은 각종 오염물질을 선택적으로 용해제거하여 금속, 플라스틱, 탄성중합체 등으로 제조한 복합 부품을 침식하지 않는다.
(4) 조성물은 물품에 부착된 물을 용해 및 분리시키므로써 물품에서 물을 제거하는 우수한 건조 효과를 나타낸다.
또한, 세정 용매 조성물은 린스제로서 사용할때 하기 (i) 내지 (v)의 우수한효과를 나타낸다.
(i) 사용되는 세정 및 린스액이 염소 원자를 함유하지 않아 환경 오염 또는 오존 파괴와 같은 환경 문제를 일으키지 않는다.
(ii) 세정 및 린스 단계에서 물을 사용하지 않기 때문에, 단계 및 설비를 단순화시킨다. 구체적으로, 물의 정화 처리 및 사용후의 폐수 처리가 필요치 않으며, 상기 처리를 위한 다양한 설비, 용지 및 조작 비용이 필요치 않다. 더우기, 물을 사용할때 필요한 건조 단계가 필요치 않다.
(iii) 린스액은 불연성 지방족 불화탄화수소를 사용하기 때문에, 증기 세정시 인화 및 폭발 위험성이 없다.
(iv) 종래, 염화불화탄화수소 또는 염화탄화수소가 사용되는 통상의 세정 설비를 크게 개조하지 않고, 세정액을 유기 용매로 대체하고 린스액을 상기 환상 불화탄화수소로 이루어진 것으로 대체할 수 있다.
(v) 유기 용매를 사용하여 충분히 세정하고, 물을 사용하지 않고 환상 불화탄화수소로 유기 용매를 충분히 린스한다. 환상 불화탄화수소를 회수 및 재사용할 수 있고, 방출시 환경 파괴를 발생시키지 않아 안전하다.
실 시 예
본 발명을 실시예를 사용하여 더 상세히 기술하지만, 실시예는 본 발명을 어떤 식으로도 제한하지 않으며, 본 발명의 기술적 사상에 기초하여 각종 변형이 가능하다.
실 시 예 1
(탈지 시험)
스핀들유가 부착된 100 메쉬의 원통상 금망(25ø×15Hmm)을 실온에서, 본 발명에 기초한 하기 세정 용매 조성물(제1번 내지 제4번 조성물)에 침지시키고, 초음파 세정을 60초간 실행하여 탈지 세정 시험을 행한다. 이후, 금마에 잔류하는 유분량을 유분 농도계((주) 호리바 리미티드(Horiba Limited)의 물품)에서 측정에서 유분의 제거분을 세정율(%)로 계산한다. 하기 표 3에 결과를 나타낸다. 하기 표 3은 모든 금망이 충분히 세정되었음을 분명히 나타낸다.
표 3
실 시 예 2
철제 시험편(30 ×30 ×2tmm, 중앙에 7ø구멍을 수중에 침지시킨 후, 실온에서 본 발명에 기초한 하기 용매 조성물(제5번 내지 제8번 조성물)에 30초간 침지시킨 후, 소정량의 무수 메탄올로 세정한다. 세액(메탄올)중의 수분의 함량을 칼 피셔법으로 측정하여 수분 제거율을 계산한다. 하기 표 4에 그 결과를 나타낸다. 모든 경우 수분제거(물 추출)가 충분함을 나타낸다.
표 4
실 시 예 3
(연소성 시험)
타다 밀폐식 인화점 측정 장치(Tada Closed-Type Flash Point Analyzer)를 사용하여 본 발명에 기초한 상기 세정 용매 조성물(제1번 내지 제8번 조성물)의 연소성을 조사한다. 이 결과, 제1번 내지 제8번 화합물 및 조성물은 인화성을 나타내지 않았다. 비교 시험으로, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로사이클로펜탄 및 1,1,2,2-테트라플루오로사이클로부탄의 연소성을 각각 100%에 대하여 시험했다. 상기 두 화합물은 모두 연소성을 나타냈다.
실 시 예 4
(재질 시험)
하기 표 5에 나타낸 각종 플라스틱을 25℃에서 10분간 본 발명에 기초한 상기 세정 용매 조성물(제1번 내지 제8번 조성물)에 침지시켰다. 꺼낸 직후 플라스틱의 중량 변화를 측정하고, 하기 기준에 따라 평가했다.
0 : 거의 영향을 받지 않음(중량 변화율 0 내지 1%).
1 : 약간 팽윤되나, 실질적인 문제는 없음(중량 변화율 1 내지 5%).
2 : 팽윤되어 플라스틱이 침식되었음(중량 변화율 5% 이상).
결과를 하기 표 5에 나타냈으며, 모든 플라스틱이 실질적으로 침식되지 않았음을 나타낸다.
표 5
실 시 예 5
(로진계 플럭스의 제거)
10cm ×10cm 인쇄 회로 기판에 로진계 플럭스(상표 "H1-15" 아사히 화학 연구소(Ashahi Chemical Research Laboratory Co. Ltd) 물품)를 분류 도포하고 예비 건조시킨 후, 250℃에서 1분간 가열하여 시험편을 제조했다. 이 시험편을 표 6에 나타낸 바와 같은 세정액 및 린스액에 각종 조건에서 침지시켜 시험편의 세정 및 린스를 수행했다. 상기 린스 처리를 선택적으로 병용했다. 비교예로서 종래 린스를 수행했다.
로진계 플럭스에 대한 제거 효과로 세정 및 린스 처리후의 시험편의 외관 및이온성 잔사의 양을 하기 표 7에 나타냈다. 표 7에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 방법은 로진계 플럭스의 제거 효과가 충분했다. 이온성 잔사의 양은 오메가 메타 600SMD(일본 알파 메탈즈사(Nippon Alpha Metals Co., Ltd.) 물품)으로 측정했다.
표 6
표 7

Claims (6)

1H,2H/-헥사플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3-펜타플루오로사이클로부탄, 1,2,2,3,3,4,4,5,5-노나플루오로사이클로펜탄, 1H/2H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H/3H-옥타플루오로사이클로펜탄, 1H,4H,2H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/4H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H,4H/-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H, 3H/2H-헵타플루오로사이클로펜탄, 1H,2H/3H-헵타플루오로사이클로펜탄 및 1H,2H,3H/-헵타플루오로사이클로펜탄으로 구성된 그룹중에서 선택된 1종 이상을 70중량% 이상 포함하는 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매 조성물.
제 1 항에 있어서,
1H,2H/-헥사플루오로사이클로부탄으로 이루어진 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매 조성물.
제 1 항에 있어서,
탄화수소(I), 알콜(I), 에스테르(I) 및 케톤(I)으로 구성된 그룹중에서 선택된 하나 이상의 유기 용매를 추가로 포함하는 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매 조성물.
오염물질이 부착된 물품을 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 따른 세정,린스 또는 건조를 위한 용매 조성물과 접촉시킴을 포함하는, 물품의 청정화 방법.
물이 부착된 물품을 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 따른 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매 조성물과 접촉시킴을 포함하는, 물품의 건조 방법.
오염물질이 부착된 물품을 지방족 탄화수소(II), 방향족 또는 지환족 탄화수소(II), 고급 알콜(II), 에테르(II) 및 유기 규소(II)중에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 100℃ 이상의 비점을 갖는 유기용매와 접촉시킴으로써 상기 오염물질을 제거하는 세정 단계(cleaning step); 및 상기 물품을 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 따른 세정, 린스 또는 건조를 위한 용매 조성물과 접촉시킴을 포함하는 린스 단계(rinsing step)를 포함하는, 물품의 청정화 방법.
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