JP3637384B2 - 弗素化炭化水素系共沸組成物 - Google Patents
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はフッ素化炭化水素系共沸組成物および共沸様組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、トリフルオロトリクロロエタンのような塩素を含むフロン系炭化水素や１，１，１−トリクロロエタンのような塩素系炭化水素などはプラスチック、ゴム製品、電子部品などの洗浄用溶剤として広く用いられている。
しかし、かかる塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素は塩素原子を有するためオゾン層を破壊するという重大な欠点が指摘され、世界的規模でその生産と使用を停止することが決められている。
このような状況下、従来の塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素に代わり、オゾン層を破壊しない代替品の開発が活発に行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素の洗浄性や低毒性などの優れた性質を損なうことなく、オゾン層破壊の心配がない新規な組成物を提供することを目的としている。
【０００４】
本発明は前記の課題を解決するものとして、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びシクロペンタンからなることを特徴とする弗素化炭化水素系共沸組成物を提供する。
【０００５】
本発明の組成物は１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びシクロペンタンからなり、好ましくは１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％からなる共沸組成物である。このように本発明の組成物は共沸組成が存在するため、リサイクル使用しても組成の変動がない。また本発明の共沸組成物の沸点は常圧で４７．０℃である。該沸点は代表的洗浄剤でオゾン層を破壊するため生産等が中止されるトリフルオロトリクロロエタンの沸点とほぼ同じことから、これの代替品として使用できる特色がある。
【０００６】
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンは既知の物質であり、例えば、オクタフルオロシクロペンテンをパラジウム系触媒の存在下に水素化することにより容易に得ることができる。
【０００７】
本発明の組成物は必要に応じて安定化剤や希釈剤などを添加することができる。安定化剤としては、例えば、ニトロメタン、ニトロエタンなどの脂肪族ニトロ化合物；３−メチル−１−ペンチン−３−オールなどのアセチレンアルコール類；グリシドール、メチルグリシジルエーテル、アクリルグリシジルエーテルなどのエポキシド類；ジメトキシメタン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類；ヘキセン、ヘプテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどの不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブテン−３−オールなどの不飽和アルコール；アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル類；ジエチルアミン、トリエチルアミン、ブチルアミンなどのアミン類；フェノール類などが挙げられる。
希釈剤としては、例えばシクロペンタン、シクロヘキサン、ヘプタン、ヘキサンなどの飽和炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノールなどの飽和アルコールなどが挙げられる。
【０００８】
本発明の組成物は塩素原子を含まないためオゾン層破壊の心配がない。
かかる本発明の組成物は、従来の塩素を含むフロン系炭化水素と同程度の洗浄作用を有するため、プラスチック、ゴム製品、電子部品などのフラックスや油脂の洗浄に用いることが利用できる。洗浄方法は浸漬法、スプレー法、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなどの従来から用いられている方法が採用される。この場合、加熱、超音波照射などを行うこともできる。
【０００９】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特に断りのないかぎり重量基準である。
【００１０】
参考例１
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンの合成
１リットルのステンレス製反応器にオクタフルオロシクロペンテン６００グラムと５％パラジウムカーボン触媒１２グラムを仕込み、５０℃で水素圧６Ｋｇ／ｃｍ2下にて水素化を行った。
水素の吸収がなくなったところで反応を終了し、反応混合物から触媒及び副生する弗化水素を除去し、単蒸留を行ったところ、５９０グラムの反応生成物を得た。
次に、反応生成物を理論段数５５段の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ったところ、純度９９％の１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン（沸点７９℃）４５０グラムを得た。
【００１１】
実施例１
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン２００グラム及びシクロペンタン２５０グラムを混合し、理論段数５５段の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ったところ、沸点４７．０℃の共沸留分３８０グラムを得た。このものの組成をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％、シクロペンタン５７．６重量％であった。
【００１２】
実施例２
実施例１の組成物（１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行った。
ポリイミド樹脂製のプリント基板（３０ｍｍ×３０ｍｍ×０．２ｍｍ厚）全面にフラックス（千住金属社製ＰＯ−Ｆ−１０１０Ｓ）を塗布し、約２５０℃で２分間焼付けを行った。これを試験片として実施例１の組成物１００ミリリットル中に３分間浸漬した。フラックスの除去度合を肉眼で観察したところ、完全に除去されていた。
【００１３】
実施例３
ポリイミド樹脂製のプリント基板に代えて、ガラスエポキシ樹脂のプリント基板（５０ｍｍ×２５ｍｍ×１．８ｍｍ厚）を用いること以外は実施例２と同様に試験を行ったところ、フラックスは完全に除去されていた。
【００１４】
実施例４
実施例１の組成物（１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％）を用いて機械油の洗浄試験を行った。
スライドガラス（３０ｍｍ×１５ｍｍ）を機械油（出光興産社製マスタークエンチＡ）に浸漬した後、実施例１の組成物１００ミリリットル中に５分間浸漬した。機械油の除去度合を肉眼で観察したところ、完全に除去されていた。
【００１５】
実施例５
スライドガラスに代えてＳＵＳ３１６製のテストピース（直径１４ｍｍの円形、０．３ｍｍ厚）を、機械油に代えて切削油（日本石油用社製にユニカットＴＢ４５）を用いること以外は実施例４と同様に試験を行ったところ、切削油は完全に除去されていた。
【産業上の利用分野】
本発明はフッ素化炭化水素系共沸組成物および共沸様組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、トリフルオロトリクロロエタンのような塩素を含むフロン系炭化水素や１，１，１−トリクロロエタンのような塩素系炭化水素などはプラスチック、ゴム製品、電子部品などの洗浄用溶剤として広く用いられている。
しかし、かかる塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素は塩素原子を有するためオゾン層を破壊するという重大な欠点が指摘され、世界的規模でその生産と使用を停止することが決められている。
このような状況下、従来の塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素に代わり、オゾン層を破壊しない代替品の開発が活発に行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、塩素を含むフロン系炭化水素や塩素系炭化水素の洗浄性や低毒性などの優れた性質を損なうことなく、オゾン層破壊の心配がない新規な組成物を提供することを目的としている。
【０００４】
本発明は前記の課題を解決するものとして、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びシクロペンタンからなることを特徴とする弗素化炭化水素系共沸組成物を提供する。
【０００５】
本発明の組成物は１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びシクロペンタンからなり、好ましくは１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％からなる共沸組成物である。このように本発明の組成物は共沸組成が存在するため、リサイクル使用しても組成の変動がない。また本発明の共沸組成物の沸点は常圧で４７．０℃である。該沸点は代表的洗浄剤でオゾン層を破壊するため生産等が中止されるトリフルオロトリクロロエタンの沸点とほぼ同じことから、これの代替品として使用できる特色がある。
【０００６】
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンは既知の物質であり、例えば、オクタフルオロシクロペンテンをパラジウム系触媒の存在下に水素化することにより容易に得ることができる。
【０００７】
本発明の組成物は必要に応じて安定化剤や希釈剤などを添加することができる。安定化剤としては、例えば、ニトロメタン、ニトロエタンなどの脂肪族ニトロ化合物；３−メチル−１−ペンチン−３−オールなどのアセチレンアルコール類；グリシドール、メチルグリシジルエーテル、アクリルグリシジルエーテルなどのエポキシド類；ジメトキシメタン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類；ヘキセン、ヘプテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどの不飽和炭化水素類；アリルアルコール、１−ブテン−３−オールなどの不飽和アルコール；アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル類；ジエチルアミン、トリエチルアミン、ブチルアミンなどのアミン類；フェノール類などが挙げられる。
希釈剤としては、例えばシクロペンタン、シクロヘキサン、ヘプタン、ヘキサンなどの飽和炭化水素類；メタノール、エタノール、イソプロパノールなどの飽和アルコールなどが挙げられる。
【０００８】
本発明の組成物は塩素原子を含まないためオゾン層破壊の心配がない。
かかる本発明の組成物は、従来の塩素を含むフロン系炭化水素と同程度の洗浄作用を有するため、プラスチック、ゴム製品、電子部品などのフラックスや油脂の洗浄に用いることが利用できる。洗浄方法は浸漬法、スプレー法、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなどの従来から用いられている方法が採用される。この場合、加熱、超音波照射などを行うこともできる。
【０００９】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、実施例及び比較例中の部及び％は特に断りのないかぎり重量基準である。
【００１０】
参考例１
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタンの合成
１リットルのステンレス製反応器にオクタフルオロシクロペンテン６００グラムと５％パラジウムカーボン触媒１２グラムを仕込み、５０℃で水素圧６Ｋｇ／ｃｍ2下にて水素化を行った。
水素の吸収がなくなったところで反応を終了し、反応混合物から触媒及び副生する弗化水素を除去し、単蒸留を行ったところ、５９０グラムの反応生成物を得た。
次に、反応生成物を理論段数５５段の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ったところ、純度９９％の１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン（沸点７９℃）４５０グラムを得た。
【００１１】
実施例１
１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン２００グラム及びシクロペンタン２５０グラムを混合し、理論段数５５段の蒸留塔を用い、常圧にて蒸留を行ったところ、沸点４７．０℃の共沸留分３８０グラムを得た。このものの組成をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％、シクロペンタン５７．６重量％であった。
【００１２】
実施例２
実施例１の組成物（１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％）を用いてフラックスの洗浄試験を行った。
ポリイミド樹脂製のプリント基板（３０ｍｍ×３０ｍｍ×０．２ｍｍ厚）全面にフラックス（千住金属社製ＰＯ−Ｆ−１０１０Ｓ）を塗布し、約２５０℃で２分間焼付けを行った。これを試験片として実施例１の組成物１００ミリリットル中に３分間浸漬した。フラックスの除去度合を肉眼で観察したところ、完全に除去されていた。
【００１３】
実施例３
ポリイミド樹脂製のプリント基板に代えて、ガラスエポキシ樹脂のプリント基板（５０ｍｍ×２５ｍｍ×１．８ｍｍ厚）を用いること以外は実施例２と同様に試験を行ったところ、フラックスは完全に除去されていた。
【００１４】
実施例４
実施例１の組成物（１，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％）を用いて機械油の洗浄試験を行った。
スライドガラス（３０ｍｍ×１５ｍｍ）を機械油（出光興産社製マスタークエンチＡ）に浸漬した後、実施例１の組成物１００ミリリットル中に５分間浸漬した。機械油の除去度合を肉眼で観察したところ、完全に除去されていた。
【００１５】
実施例５
スライドガラスに代えてＳＵＳ３１６製のテストピース（直径１４ｍｍの円形、０．３ｍｍ厚）を、機械油に代えて切削油（日本石油用社製にユニカットＴＢ４５）を用いること以外は実施例４と同様に試験を行ったところ、切削油は完全に除去されていた。
Claims (3)
- １，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン及びシクロペンタンからなることを特徴とする弗素化炭化水素系共沸組成物。
- １，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロシクロペンタン４２．４重量％及びシクロペンタン５７．６重量％からなることを特徴とする請求項１記載の弗素化炭化水素系共沸組成物。
- 請求項１の組成物からなることを特徴とする洗浄用溶剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8802593A JP3637384B2 (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 弗素化炭化水素系共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8802593A JP3637384B2 (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 弗素化炭化水素系共沸組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06271491A JPH06271491A (ja) | 1994-09-27 |
| JP3637384B2 true JP3637384B2 (ja) | 2005-04-13 |
Family
ID=13931294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8802593A Expired - Lifetime JP3637384B2 (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 弗素化炭化水素系共沸組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3637384B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69426691T2 (de) * | 1993-08-16 | 2001-08-02 | Daikin Industries, Ltd. | Lösungsmittelhaltiges reinungsmittel und reinigungs-oder trocknungsverfahren |
-
1993
- 1993-03-23 JP JP8802593A patent/JP3637384B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06271491A (ja) | 1994-09-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |