JPH01304195A - 共沸組成物 - Google Patents
共沸組成物Info
- Publication number
- JPH01304195A JPH01304195A JP13522388A JP13522388A JPH01304195A JP H01304195 A JPH01304195 A JP H01304195A JP 13522388 A JP13522388 A JP 13522388A JP 13522388 A JP13522388 A JP 13522388A JP H01304195 A JPH01304195 A JP H01304195A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- azeotropic
- freon
- present
- cyclopentane
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 22
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- WMCLYSGSAJGCJY-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-1,1,2,2-tetrafluoropropane Chemical compound FC(F)C(F)(F)CCl WMCLYSGSAJGCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 abstract description 5
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 abstract description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 abstract description 3
- SMCNZLDHTZESTK-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoropropane Chemical compound CC(F)(Cl)C(F)(F)F SMCNZLDHTZESTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 abstract 1
- AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-Trichlorotrifluoroethane Chemical compound FC(F)(Cl)C(F)(Cl)Cl AJDIZQLSFPQPEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- -1 greases Substances 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YACLCMMBHTUQON-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1-fluoroethane Chemical class CC(F)Cl YACLCMMBHTUQON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- MKUWVMRNQOOSAT-UHFFFAOYSA-N but-3-en-2-ol Chemical compound CC(O)C=C MKUWVMRNQOOSAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N cyclohexene Chemical compound C1CCC=CC1 HGCIXCUEYOPUTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N cyclopentene Chemical compound C1CC=CC1 LPIQUOYDBNQMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- AFTSHZRGGNMLHC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloro-1,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(Cl)Cl AFTSHZRGGNMLHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 1,3-Octadiene Chemical compound CCCC\C=C\C=C QTYUSOHYEPOHLV-FNORWQNLSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 1-nitropropane Chemical compound CCC[N+]([O-])=O JSZOAYXJRCEYSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRUGBBIQLIVCSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C)=C1C XRUGBBIQLIVCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)oxirane Chemical compound COCC1CO1 LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CC(C)CNCC(C)C NJBCRXCAPCODGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNVRRHSXBLFLIG-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)(O)C=C HNVRRHSXBLFLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGKNMHFWZMHABQ-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-2h-benzotriazole Chemical compound ClC1=CC=CC2=NNN=C12 NGKNMHFWZMHABQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical group CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical group FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJIOGJUNALELMI-ONEGZZNKSA-N Isoeugenol Natural products COC1=CC(\C=C\C)=CC=C1O BJIOGJUNALELMI-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N butylated hydroxyanisole Chemical compound COC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1.COC1=CC=C(O)C=C1C(C)(C)C CZBZUDVBLSSABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- BJIOGJUNALELMI-ARJAWSKDSA-N cis-isoeugenol Chemical compound COC1=CC(\C=C/C)=CC=C1O BJIOGJUNALELMI-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N dimethoxymethane Chemical compound COCOC NKDDWNXOKDWJAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012772 electrical insulation material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Chemical group 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Chemical group 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- KARLLBDFLHNKBO-UHFFFAOYSA-N hex-4-yn-3-ol Chemical compound CCC(O)C#CC KARLLBDFLHNKBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 231100000053 low toxicity Toxicity 0.000 description 1
- MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N nitroethane Chemical compound CC[N+]([O-])=O MCSAJNNLRCFZED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 235000019809 paraffin wax Nutrition 0.000 description 1
- 229940100684 pentylamine Drugs 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
- BJIOGJUNALELMI-UHFFFAOYSA-N trans-isoeugenol Natural products COC1=CC(C=CC)=CC=C1O BJIOGJUNALELMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
- C23G5/02841—Propanes
- C23G5/02845—C3H3ClF4
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はl−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロ
プロパン(以下、フロン−244という)とシクロペン
タンとからなる共沸組成物に関する。
プロパン(以下、フロン−244という)とシクロペン
タンとからなる共沸組成物に関する。
[従来の技術]
従来より、クロロフルオロエタン系化合物は、不燃性で
生体毒性が少ないほか、プラスチックやゴムなどの高分
子物質を侵すことなく、油脂、グリース、ワックスなど
を溶解するという選択溶解性に優れている1、1.2−
)ジクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下、
フロン−113という)が知られており、単独または他
の有機溶剤との混合物あるいは共沸組成物の形で溶剤、
洗浄剤などに広く用いられている。
生体毒性が少ないほか、プラスチックやゴムなどの高分
子物質を侵すことなく、油脂、グリース、ワックスなど
を溶解するという選択溶解性に優れている1、1.2−
)ジクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下、
フロン−113という)が知られており、単独または他
の有機溶剤との混合物あるいは共沸組成物の形で溶剤、
洗浄剤などに広く用いられている。
[発明が解決しようとする課題]
近年、フロン−113などのように、エタンの水素がす
べて塩素およびフッ素で置換されたクロロフルオロエタ
ン系化合物(以下、バーハロエタンという)が地球を取
り巻くオゾン層を破壊するという地球規模の環境汚染が
問題となり、そうしたパーハロエタンの使用量を低減す
ることが急務となっている。
べて塩素およびフッ素で置換されたクロロフルオロエタ
ン系化合物(以下、バーハロエタンという)が地球を取
り巻くオゾン層を破壊するという地球規模の環境汚染が
問題となり、そうしたパーハロエタンの使用量を低減す
ることが急務となっている。
そこでフロン−113に代わる物質が種々検討されてい
るが、未だ有効な代替物は見出されていない。一方、フ
ロン−113と他の有機溶剤との混合溶剤も実用化され
ている。
るが、未だ有効な代替物は見出されていない。一方、フ
ロン−113と他の有機溶剤との混合溶剤も実用化され
ている。
しかしながら、溶剤として使用するためには使用時の液
管理が容易で、かつ容易に回収、再使用できることが重
要な要件であり、さらに蒸気洗浄も可能であることが望
まれる。そうした要件を満たす混合溶剤は単に2成分以
上を混合しただけではえられず、共沸点を有する状態、
すなわち共沸状態の混合物にする必要がある。
管理が容易で、かつ容易に回収、再使用できることが重
要な要件であり、さらに蒸気洗浄も可能であることが望
まれる。そうした要件を満たす混合溶剤は単に2成分以
上を混合しただけではえられず、共沸点を有する状態、
すなわち共沸状態の混合物にする必要がある。
本発明者らは、こうしたフロン−113の代替物を鋭意
検討した結果、フロン−244とシクロペンタンとの共
沸組成物がフロン−113の有利な性質を多く受は継ぎ
、かつオゾン層の破壊の原因にもならず、しかも共沸を
呈するので極めて取扱いが容易であることを見出し、本
願発明を完成するに至った。
検討した結果、フロン−244とシクロペンタンとの共
沸組成物がフロン−113の有利な性質を多く受は継ぎ
、かつオゾン層の破壊の原因にもならず、しかも共沸を
呈するので極めて取扱いが容易であることを見出し、本
願発明を完成するに至った。
[課題を解決するための手段]
本発明の共沸溶剤組成物は、60〜85%のフロン−2
24と40〜35%のシクロペンクンとの共沸混合物か
らなることを要旨とするものである。
24と40〜35%のシクロペンクンとの共沸混合物か
らなることを要旨とするものである。
[作用および実施例]
本発明で用いるフロン−224は、沸点55.8℃で、
不燃性で生体毒性が比較的低いという性質を有し、従来
よりフロンの一般的用途、たとえば溶剤や洗浄剤などの
用途が知られている。
不燃性で生体毒性が比較的低いという性質を有し、従来
よりフロンの一般的用途、たとえば溶剤や洗浄剤などの
用途が知られている。
本発明はかかるフロン−244とシクロペンタンとの共
沸混合物である。
沸混合物である。
本発明の共沸組成物はフロン−244(t’Jt点=5
5.8℃) 60〜65%(重量%、以下同様)とシク
ロペンタン(沸点:49℃)40〜35%との共沸混合
物であり、共沸点39〜41℃を有する。
5.8℃) 60〜65%(重量%、以下同様)とシク
ロペンタン(沸点:49℃)40〜35%との共沸混合
物であり、共沸点39〜41℃を有する。
本発明の共沸組成物はオゾン層の破壊につながるパーハ
ロエタンを使用せず、しかもプラスチックやゴムに対し
て影響を与えることなく油脂やワックスなどの汚れを溶
解除去できるという選択的溶解性を有する。さらに共沸
混合物であるため、液管理、回収、再使用が容易であり
、蒸気洗浄にも適用できる。
ロエタンを使用せず、しかもプラスチックやゴムに対し
て影響を与えることなく油脂やワックスなどの汚れを溶
解除去できるという選択的溶解性を有する。さらに共沸
混合物であるため、液管理、回収、再使用が容易であり
、蒸気洗浄にも適用できる。
本発明の組成物は低毒性であり、化学的にも比較的安定
であるが、さらに安定剤を添加してもよい。
であるが、さらに安定剤を添加してもよい。
このような安定剤として必要な性質としては、もちろん
本発明の組成物を安定化する効果の大きいことがあげら
れるが、このほか蒸留操作により同伴留出するものや、
さらには共沸を形成するものなどが望ましい。
本発明の組成物を安定化する効果の大きいことがあげら
れるが、このほか蒸留操作により同伴留出するものや、
さらには共沸を形成するものなどが望ましい。
前記のごとき安定剤の具体例としては、たとえばニトロ
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの脂肪族ニ
トロ化合物、3−メチル−1−プチンー3−オール、3
−メチル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテル、■、2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメ
トキシメタン、1.2−ジメトキシエタン、1.4−ジ
オキサン、1.3.5−)ジオキサンなどのエーテル類
、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、2.4.4−)ジメ
チル−1−ペンテン、ペンタジェン、オクタジエン、シ
クロヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類
、アリルアルコール、1−ブテン−3−オール、3−メ
チル−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系アル
コール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあげら
れ、これらは単独で用いてもよく、2種以上併用しても
よい。またこれらとフェノール、トリメチルフェノール
、シクロヘキシルフェノール、チモール、2.6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキシ
アニソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や、
ヘキシルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルモ
ルホリン、シクロヘキシルアミン、2.2.8.6−チ
トラメチルピペリジン、N、N’−ジアリル−p−フェ
ニレンジアミンなどのアミン類、ベンゾトリアゾール、
2−(2°−ヒドロキシ−5゛−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾールなどのトリ
アゾール類などと併用してもよく、併用するとさらに優
れた相乗的安定化効果が発揮される。
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの脂肪族ニ
トロ化合物、3−メチル−1−プチンー3−オール、3
−メチル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテル、■、2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメ
トキシメタン、1.2−ジメトキシエタン、1.4−ジ
オキサン、1.3.5−)ジオキサンなどのエーテル類
、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、2.4.4−)ジメ
チル−1−ペンテン、ペンタジェン、オクタジエン、シ
クロヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素類
、アリルアルコール、1−ブテン−3−オール、3−メ
チル−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系アル
コール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあげら
れ、これらは単独で用いてもよく、2種以上併用しても
よい。またこれらとフェノール、トリメチルフェノール
、シクロヘキシルフェノール、チモール、2.6−ジー
t−ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキシ
アニソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や、
ヘキシルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン、
ジイソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエチ
ルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチルモ
ルホリン、シクロヘキシルアミン、2.2.8.6−チ
トラメチルピペリジン、N、N’−ジアリル−p−フェ
ニレンジアミンなどのアミン類、ベンゾトリアゾール、
2−(2°−ヒドロキシ−5゛−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾールなどのトリ
アゾール類などと併用してもよく、併用するとさらに優
れた相乗的安定化効果が発揮される。
前記安定剤の使用量としては、安定剤の種類により異な
るため一概にはきめられないが、通常、本発明の組成物
に対して0.1−10%用いるのが好ましく、0.5〜
5%用いるのがさらに好ましい。
るため一概にはきめられないが、通常、本発明の組成物
に対して0.1−10%用いるのが好ましく、0.5〜
5%用いるのがさらに好ましい。
こうした利点を有する本発明の共沸組成物は、油脂やグ
リースの除去のほか、プリント基板作製用のフラックス
の除去や半導体に用いるシリコンウェハーや水晶、セラ
ミックスなどのカッティングや研磨などの加工時の仮止
め用ワックス類の除去などに用いる洗浄剤として有用で
あり、さらに各種溶剤、水切乾燥剤、熱交換媒体、動作
流体、電気絶縁材などとしても使用できる。
リースの除去のほか、プリント基板作製用のフラックス
の除去や半導体に用いるシリコンウェハーや水晶、セラ
ミックスなどのカッティングや研磨などの加工時の仮止
め用ワックス類の除去などに用いる洗浄剤として有用で
あり、さらに各種溶剤、水切乾燥剤、熱交換媒体、動作
流体、電気絶縁材などとしても使用できる。
つぎに実施例をあげて本発明の共沸組成物を説明するが
、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない
。
、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない
。
実施例1
フロン−224とシクロペンクンとのそれぞれ100g
および100gの混合物200gを蒸溜フラスコに入れ
、理論段数30段の精留塔を用いて常圧下に蒸溜を行な
った。その結果、39〜41”Cで共沸を呈し、その留
分をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、組
成はフロン−244が60〜65%でシクロベンクンが
40〜35%であった。
および100gの混合物200gを蒸溜フラスコに入れ
、理論段数30段の精留塔を用いて常圧下に蒸溜を行な
った。その結果、39〜41”Cで共沸を呈し、その留
分をガスクロマトグラフィーにより分析したところ、組
成はフロン−244が60〜65%でシクロベンクンが
40〜35%であった。
実施例2
つぎの要領でシリコンウェハー加工において一時仮止め
材などとして使用されているワックス類の溶解性を調べ
た。
材などとして使用されているワックス類の溶解性を調べ
た。
第1表に示す各溶剤100gをそれぞれ容ffi 20
0CCのビー力に入れ、室温で攪拌しながら、粉末にし
た融点の異なる4種のパラフィンワックス(融点52〜
65℃、いずれも日本精ろう■製)を徐々に加えて溶解
性を観察した。
0CCのビー力に入れ、室温で攪拌しながら、粉末にし
た融点の異なる4種のパラフィンワックス(融点52〜
65℃、いずれも日本精ろう■製)を徐々に加えて溶解
性を観察した。
結果を第1表に示す。
溶解性の評価はつぎの基準に従って行なった。
◎:フラックス度2%以上溶解
○:フラックス度1%以上2%まで溶解△:フラックス
度1%まで溶解 ×:溶解せず 実施例3 第1表に示す各溶剤につき、素材(プラスチック)に対
する影響(膨潤度)をつぎの要領で調べた。
度1%まで溶解 ×:溶解せず 実施例3 第1表に示す各溶剤につき、素材(プラスチック)に対
する影響(膨潤度)をつぎの要領で調べた。
100ccの耐圧ガラスビンに第1表に示す溶剤100
gと同表に示すプラスチック試験片(5X50×2■)
を入れて、温度50℃の恒温槽中に4時間放置し、取出
したのち、ただちに重量増加および体積増加を調べた。
gと同表に示すプラスチック試験片(5X50×2■)
を入れて、温度50℃の恒温槽中に4時間放置し、取出
したのち、ただちに重量増加および体積増加を調べた。
結果を第1表に示す。
評価は
◎:型重量たは体積増加率2%未満
O:重量または体積増加率2%〜5%未満Δ:重量また
は体積増加率5%以上 とした。
は体積増加率5%以上 とした。
[以下余白]
[発明の効果]
本発明の共沸組成物は、オゾン層の破壊の原因と考えら
れているバーハロエタンを使用せず、またそれに充分替
わる特性を有するものであり、フロン−244とシクロ
ペンタンとが調和のとれた特性を発揮し、共沸混合物の
利点である使用時の液管理や回収、再使用における取り
扱い容易性を兼ね備えた極めて優れた組成物である。
れているバーハロエタンを使用せず、またそれに充分替
わる特性を有するものであり、フロン−244とシクロ
ペンタンとが調和のとれた特性を発揮し、共沸混合物の
利点である使用時の液管理や回収、再使用における取り
扱い容易性を兼ね備えた極めて優れた組成物である。
特許出願人 ダイキン工業株式会社
Claims (1)
- 1 1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロ
パン60〜65重量%とシクロペンタン40〜35重量
%とからなる共沸組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13522388A JPH01304195A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 共沸組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13522388A JPH01304195A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 共沸組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01304195A true JPH01304195A (ja) | 1989-12-07 |
Family
ID=15146698
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13522388A Pending JPH01304195A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 共沸組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01304195A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01319598A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-25 | Asahi Glass Co Ltd | フラツクス洗浄剤 |
JPH01319581A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-25 | Asahi Glass Co Ltd | 付着水除去用溶剤 |
WO1992001519A1 (en) * | 1990-07-20 | 1992-02-06 | David Cavill | Method, solvent composition and kit for the touch up of scratched painted metal products |
US5227088A (en) * | 1991-11-26 | 1993-07-13 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1-chloro-3,3,3-trifluoropropane and a C.sub.56 hydrocarbon |
US5607912A (en) * | 1989-02-01 | 1997-03-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Hydrochlorofluorocarbon azeotropic or azeotropic-like mixture |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP13522388A patent/JPH01304195A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01319598A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-25 | Asahi Glass Co Ltd | フラツクス洗浄剤 |
JPH01319581A (ja) * | 1988-06-22 | 1989-12-25 | Asahi Glass Co Ltd | 付着水除去用溶剤 |
US5607912A (en) * | 1989-02-01 | 1997-03-04 | Asahi Glass Company Ltd. | Hydrochlorofluorocarbon azeotropic or azeotropic-like mixture |
WO1992001519A1 (en) * | 1990-07-20 | 1992-02-06 | David Cavill | Method, solvent composition and kit for the touch up of scratched painted metal products |
US5227088A (en) * | 1991-11-26 | 1993-07-13 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1-chloro-3,3,3-trifluoropropane and a C.sub.56 hydrocarbon |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR19980025367A (ko) | 옥타메틸트리실록산과 지방족 또는 지환족 알콜의 공비혼합물 | |
JP3323697B2 (ja) | オクタメチルトリシロキサンの共沸混合物を含む及び共沸混合物様組成物を含む組成物並びにこの組成物の使用方法 | |
JPH01304194A (ja) | 共沸組成物 | |
JPH01304195A (ja) | 共沸組成物 | |
JPH01188599A (ja) | 共沸溶剤組成物 | |
JP2879847B2 (ja) | 含フッ素エーテルと塩素系有機溶剤からなる共沸及び共沸様組成物 | |
JPH10204092A (ja) | デカメチルテトラシロキサンの共沸混合物 | |
JP3209450B2 (ja) | 洗浄用溶剤組成物 | |
JPH0551597A (ja) | 共沸溶剤組成物 | |
JPH0693294A (ja) | 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤 | |
JP2881191B2 (ja) | 共沸及び共沸様組成物 | |
JPH06313196A (ja) | 共沸及び共沸様組成物および洗浄剤 | |
CS51391A2 (en) | Azeotropic solvents' mixture | |
JPH05148498A (ja) | デカフルオロペンタンを含む溶剤組成物 | |
JP2972910B2 (ja) | 含フッ素エーテルと塩化メチレンからなる共沸及び共沸様組成物 | |
JPH06200294A (ja) | 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤 | |
JPH06202051A (ja) | 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤 | |
JPH01165698A (ja) | 共沸溶剤組成物 | |
JPH06306392A (ja) | 共沸及び共沸様組成物とその洗浄剤 | |
JPH01167400A (ja) | 共沸溶剤組成物 | |
JPH02286795A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
JPH01165697A (ja) | 共沸溶剤組成物 | |
JPH06136388A (ja) | 共沸及び共沸様組成物と洗浄剤 | |
JPH02286796A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
JPS63295699A (ja) | 共沸溶剤組成物 |