JPH01165697A - 共沸溶剤組成物 - Google Patents

共沸溶剤組成物

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Publication number
JPH01165697A
JPH01165697A JP32492887A JP32492887A JPH01165697A JP H01165697 A JPH01165697 A JP H01165697A JP 32492887 A JP32492887 A JP 32492887A JP 32492887 A JP32492887 A JP 32492887A JP H01165697 A JPH01165697 A JP H01165697A
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JP
Japan
Prior art keywords
azeotropic
compsn
dimethoxymethane
freon
wax
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32492887A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Tamura
公司 田村
Yukio Omure
大牟礼 幸雄
Satoru Ide
井手 哲
Naomi Hanatani
花谷 尚美
Hisamasa Fukuzawa
福澤 寿正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
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Publication of JPH01165697A publication Critical patent/JPH01165697A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/42Stripping or agents therefor
    • G03F7/422Stripping or agents therefor using liquids only
    • G03F7/426Stripping or agents therefor using liquids only containing organic halogen compounds; containing organic sulfonic acids or salts thereof; containing sulfoxides

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は1.1.2−トリクロロ−1,2,2−トリフ
ルオロエタン(以下、フロン−113という)とジメト
キシメタンとからなる共沸溶剤組成物に関する。
[従来の技術] 従来より、クロロフルオロエタン系化合物であるフロン
−113は不燃性で生体毒性が少ないほか、プラスチッ
クやゴムなどの高分子物質を侵すことなく、油脂、グリ
ース、ワックスなどを溶解するという選択溶解性に優れ
ており、単独または他の有機溶剤との混合あるいは共沸
組成物の形で溶剤、洗浄剤などに広く用いられている。
[発明が解決しようとする問題点] 近年、フロン−113などの水素がすべて塩素およびフ
ッ素で置換されたクロロフルオロエタン系化合物(以下
、パーハロエタンという)が地球を取り巻くオゾン層を
破壊するという地球規模の環境汚染が問題となり、そう
したパーハロエタンの使用を低減することが急務となっ
ている。
そこでフロン−113に代わる物質が種々検討されてい
るが、未だ有効な代替物は見出されていない。一方、フ
ロン−113と他の有機溶剤との混合溶剤も実用化され
ている。
しかしながら、溶剤として使用するためには使用時の液
管理が容易でかつ容易に回収、再使用できることが重要
な要件となり、さらに蒸気洗浄も可能であることが望ま
れる。そうした要件を満たす混合溶剤は単に2成分以上
を混合しただけではえられず、共沸点を有する状態、す
なわち共沸状態の混合物とする必要がある。
フロン−113との共沸混合物としては、メタノールや
エタノールとの共沸混合物が知られているが、いずれも
アルコール成分は10%(重量%、以下同様)未満であ
り(メタノール:6%、エタノール=4%)、シたがっ
てフロン−113の使用量を低減させるという点におい
ては側底満足のいくものではない。
また、フロン−113とメチレンクロライドとの1=1
共沸共沸物も実用化されているが、メチレンクロライド
の生体毒性が高いため、望ましいものではない。
本発明はフロン−113のワックス洗浄能をさらに向上
させると共にフロン−113では除去しにくいフラック
スの除去能を有し、かつフロン−113の使用量を低減
化させえた共沸溶剤組成物を提供するものである。
[問題点を解決するための手段] 本発明の共沸溶剤組成物は、42%のフロン−113と
58%のジメトキシメタンとの共沸混合物からなること
を要旨とするものである。
[作用および実施例] 本発明で用いるフロン−IH(I!3点: 47.8℃
)とジメトキシメタン(沸点: 43.0℃)との共沸
混合物は42.7℃の共沸点を有している。
ジメトキシメタンは従来、溶剤や洗浄剤としての特性は
知られておらず、とくにワックス洗浄用の溶剤としては
使用されていなかったものであり、プラスチックやゴム
への影響も少ながらずあり、そうした高分子素材を含む
被洗浄物を丸洗いすることは困難であった。
本発明によれば、フロン−113とジメトキシメタンと
を42/ 5gの重量比で含んでいるためフロン−11
3の使用量を大幅に減らすことができるうえ、プラスチ
ックやゴムへの影響を抑えることができるので被洗浄物
を丸洗いすることができ、しかもパラフィンワックスな
どのワックス類の溶解能も向上させることができる。ま
たフロン−113単独では除去できなかったような電子
工業分野などにおけるフラックスの除去も可能となる。
さらに共沸状態であるため、液管理、回収、再使用が容
易であり、蒸気洗浄にも適用できる。
本発明の組成物は化学的には比較的安定であるが、さら
に安定剤を添加してもよい。
このような安定剤として好ましい性質としては、本発明
の組成物を安定化する効果の大きいことはもちろんであ
るが、蒸留操作により同伴留出されるものや、さらには
共沸を形成するものが望ましいが、これらに限定される
ものではない。
前記のごとき安定剤の具体例としては、たとエバニトロ
メタン、ニトロエタン、ニトロプロパンなどの脂肪族ニ
トロ化合物、3−メチル−i−ブチン−3−オール、8
−メチル−1−ペンチン−3−オールなどのアセチレン
アルコール類、グリシドール、メチルグリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエ
ーテル、1.2−ブチレンオキシド、シクロヘキセンオ
キシド、エピクロルヒドリンなどのエポキシド類、ジメ
トキシメタン、1,2−ジメトキシエタン、!、4−ジ
オキサン、1.3.5−)リオキサンなどのエーテル類
、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、2.4.4− トリ
メチル−1−ペンテン、ペンタジェン、オクタジエン、
シクロヘキセン、シクロペンテンなどの不飽和炭化水素
類、アリルアルコール、l−ブテン−3−オール、3−
メチル−1−ブテン−3−オールなどのオレフィン系ア
ルコール類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類などがあげ
られ、これらは単独で用いてもよく、2種以上併用して
もよい。またこれらとフェノール、トリメチルフェノー
ル、シクロヘキシルフェノール、チモール、2,6−ジ
ーt−ブチル−4−メチルフェノール、ブチルヒドロキ
シアニソール、イソオイゲノールなどのフェノール類や
、ヘキシルアミン、ペンチルアミン、ジプロピルアミン
、ジイソプロピルアミン、ジイソブチルアミン、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、N−メチル
モルホリン、シクロヘキシルアミン、2,2.8.B−
テトラメチルピペリジン、N、N’−ジアリル−p−フ
二二レンジアミンなどのアミン類、ベンゾトリアゾール
、2−(2°−ヒドロキシ−5°−メチルフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、クロロベンゾトリアゾールなどのト
リアゾール類などと併用してもよく、併用するとさらに
優れた相乗的安定化効果が発揮される。
前記安定剤の使用量としては、安定剤の種類により異な
るため一概にはきめられないが、通常、本発明の組成物
に対して0.1〜1026用いるのが好ましく、0.5
〜5%用いるのがさらに好ましい。
こうした利点を有する本発明の共沸溶剤組成物は、油脂
やグリースの除去のほか、半導体に用いるシリコンウェ
ハーや水晶、セラミックスなどのカッティングや研磨な
どの加工時の仮止め用ワックス類の除去、フォトレジス
トの剥離剤除去、フラックスの除去などに用いる洗浄剤
として有用である。
つぎに実施例をあげて本発明の共沸溶剤組成物を説明す
るが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものでは
ない。
実施例1 フロン−113とジメトキシメタンとのそれぞれ150
gおよび150gの混合物300gを蒸溜フラスコに入
れ、理論段数30段の精留塔を用いて常圧下に蒸溜を行
なった。その結果、42.7℃において共沸を呈し、そ
の留分をガスクロマトグラフィーにより分析したところ
、組成はフロン−113が42%でジメトキシメタンが
58%であった。
実施例2 つぎの要領モシリコンウエハー加工において一時仮止め
材として使用されているワックス類の溶解性を調べた。
第1表に示す溶剤100gをそれぞれ容量 200cc
のビーカーに入れ40℃に加温した。ついで攪拌しなが
ら粉末にしたワックスとしてフラットローワックス、イ
エローワックスおよびプルーフワックス(いずれも日化
精工■製)を徐々に加えて溶解性を観察した。
結果を第1表に示す。
溶解性の評価はつぎの基準に従って行なった。
◎:ワックス濃度2%以上溶解 0:ワックス濃度196以上2%まで溶解△:ワックス
濃度1%まで溶解 ×:溶解せず 実施例3 第1表に示す各溶剤につき、素材(プラスチック)に対
する影響(膨潤度)をつぎの要領で謂べた。
100ccの耐圧ガラスビンに第1表に示す溶剤100
gと同表に示すプラスチック試験片(5X50X 2 
+aa+)を入れて、温度50℃の恒温槽中に4時間放
置し、取出したのち、ただちに重量増加および体積増加
を調べた。
結果を第1表に示す。
評価は ◎二重量または体積増加θ〜1% O:重量または体積増加1〜3% Δ:二重量たは体積増加3〜5% ×二重量または体積増加5%以上 とした。
[以下余白] [発明の効果コ 本発明の共沸溶剤組成物は、フロン系溶剤のオゾン層の
破壊の原因と考えられているフロン−113の使用量を
大幅に減少させることができるうえ、フロン−113と
ジメトキシメタンの調和のとれた溶解力を発揮し、しか
も共沸混合物の利点である使用時の液管理や回収、再使
用における取り扱い容易性を兼ね備えた極めて優れた溶
剤組成物であり、さらに被溶解物質の幅をも拡げること
もできるという優れた効果を奏するものである。
特許出願人  ダイキン工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオ
    ロエタン42重量%とジメトキシメタン58重量%とか
    らなる共沸溶剤組成物。
JP32492887A 1987-12-22 1987-12-22 共沸溶剤組成物 Pending JPH01165697A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4961870A (en) * 1989-12-14 1990-10-09 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane,1,2-dichloroethylene, and alkanol having 3 to 7 carbon atoms
US7746666B2 (en) 2004-09-27 2010-06-29 Murata Manufacturing Co., Ltd. Shield case

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4961870A (en) * 1989-12-14 1990-10-09 Allied-Signal Inc. Azeotrope-like compositions of 1,1,2-trichloro-1,2,2-trifluoroethane,1,2-dichloroethylene, and alkanol having 3 to 7 carbon atoms
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