JPH01319598A

JPH01319598A - フラツクス洗浄剤

Info

Publication number: JPH01319598A
Application number: JP63152276A
Authority: JP
Inventors: Akio Asano; 浅野　昭雄; Naohiro Watanabe; 渡辺　直洋; Kazuki Jinushi; 地主　一樹; Shunichi Samejima; 鮫島　俊一
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 1988-06-22
Filing date: 1988-06-22
Publication date: 1989-12-25
Anticipated expiration: 2011-02-14
Also published as: JPH0813994B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点がら１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−１−リフルオロエタン（
以下Ｒ１１３という）が広く使われている。Ｒ１１３は
不燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れてぃる。し
かも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵
さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般
にフラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチ
ック、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこ
の点からもＲ１１３が有利であった。

［発明が解決しようとする課題］本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応ずべくＲ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。

［課題を解決するだめの手段］本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
炭素数が３である塩化弗化炭化水素を有効成分として含
有するフラックス洗浄剤を提供するものである。

本発明の塩化弗化炭化水素としては］５１−ジクロロ−
２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン（ｂ、ｐ
４５．５°Ｃ）、１．３−ジクロロ−１，２，２，３，
３−ペンタフルオロプロパン（ｂ、ｐ、５２℃）　、　
１．１．３−１−シクロロー２．２．３．３−テトラフ
ルオロプロパン（ｂ、ｐ。

９１．５℃）　、　１．３．３−１−シクロロー１．２
．２．３−テトラフルオロプロパン（ｂ、ｐ、９０．５
℃）、１−クロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオ
ロプロパン（ｂ、ｐ、４３．９°Ｃ）、ＩＪ−ジクロロ
−２，２，３，３−テトラフルオロプロパン（ｂ、　ｐ
、　６８℃）、１−クロロ−２，２，３，３−テトラフ
ルオロプロパン（ｂ、　ｐ、　５４°Ｃ）、　１．１−
ジクロロ−１，２，２−トリフルオロプロパン（ｂ、ｐ
、　６０．２’Ｃ）、１．３−ジクロロ−２，２，−ジ
フルオロプロパン（ｂ、　ｐ、　９６．７℃）、１．１
−ジクロロ−２，２，−ジフルオロプロパン［ｂ、　ｐ
、　７９°Ｃ）及び１−クロロ−２，２−ジフルオロプ
ロパン（ｂ、　ｐ、　５５．１°Ｃ）等の水素含有塩化
弗化炭化水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が
好ましい。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応してそ
の他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも１種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５０重
二％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは
２０〜３０重量％である。本発明の塩化弗化炭化水素類
と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、
その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンクン、イ
ンペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２．４−ジメチルペンクン、ｎ−オクタン、２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルヘブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルペンクン、３−メチル−３−エチルベンクン、２
、３．３−トリメデルペンクン、２，３．４−１−ジメ
チルペンクン、２．２．３−１−ジメチルペンクン、イ
ソオクタン、ノナン、２．２．５−トリメチルヘキサン
、デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン、
１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン
、シクロペンクン、メチルシクロペンクン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘギサン、
ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペ
ンテン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフ
タレン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ
−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へブ
タン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎮状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンデルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ノナノール、インペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、ｌ−へギザノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンクノール、２
−エチル−１−ノナノール、１−ヘプタツール、２〜ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタノール、２
−オクタノール、２−エヂルー１−へギザノール、１−
ノナノール、３．５．５−１−ウメチル−１−ヘキザノ
ール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデ
カノール、フリルアルコール、プロパルギルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチ
ルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール
、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘ
キサノール、α−テルピネオール、アビニチノール、２
．６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメデルノニル
アルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルア
ルコール等から選ばれるものである。より好ましくはメ
タノール、エタノール、イソプロピルアルコール等であ
る。

炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）のいずれか
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−
ヘキサノン、メチル−ｎ−プチルケトン、メチルブチル
ケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチ
ルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ボ
ロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチルブチルケトン
、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペンクンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１．２−ジクロロ
エタン、１．１．１−トリクロルエタン、１．１．２−
トリクロルエタン、１．１．１．２−テトラクロルエタ
ン、１．１．２．２−テトラクロルエタン、ペンタクロ
ルエタン、１．１−ジクロルエタン、１．２−シクロル
エヂレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン
等から選ばれるものである。より好ましくは塩化メチレ
ン、１、１．１−　）ジクロルエタン、トリクロルエチ
レン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。

洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。

［実施例］実施例１〜１５下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（クムラ
Ｆ−Ａｔ−４．■タムラ製作所製）を塗布し、２００°
Ｃの電気炉で２分間焼成後フラックス洗浄剤に１分間浸
漬した。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１表（）内は混合比［重量％コ０・良好に除去できる　　　　Ｏ−はぼ良好△、徹ヱ残
存　　　　　　　　×　かなり残存［発明の効果コ本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。

］２

Claims

【特許請求の範囲】

（１）炭素数が３である塩化弗化炭化水素を有効成分と
して含有するフラックス洗浄剤。
（２）塩化弗化炭化水素が１，１−ジクロロ−２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロ
ロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン、１
，１，３−トリクロロ−２，２，３，３−テトラフルオ
ロプロパン、１，３，３−トリクロロ−１，２，２，３
−テトラフルオロプロパン、１−クロロ−１，２，２，
３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−
２，２，３，３−テトラフルオロプロパン、１−クロロ
−２，２，３，３−テトラフルオロプロパン、１，１−
ジクロロ−１，２，２−トリフルオロプロパン、１，３
−ジクロロ−２，２，−ジフルオロプロパン、１，１−
ジクロロ−２，２，−ジフルオロプロパン、１−クロロ
−２，２，−ジフルオロプロパンである請求項１記載の
フラックス洗浄剤。
（３）フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
ル類、ケトン類及び塩素化炭化水素類から選ばれる少な
くとも１種が含まれている請求項１記載のフラックス洗
浄剤。