JPH01129098A - フラックス洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ ＩＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い、従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以
下Ｒ１１３という）が広く使われている。　Ｒ１１３は
不燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。し
かも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵
さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般
にフラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチ
ック、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこ
の点からもＲ１１３が右利であった。

［発明の解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくＲ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
トリクｒ：Ｉロジフルオロエタンを有効成分として含有
するフラックス洗浄剤を提供するものである。

本発明の７ラツクス洗浄剤の有効成分であるトリクロロ
ジフルオロエタンは、不燃性で適度な溶解力がある等、
従来のＲ１１３と同様な利点を有する優れた溶剤である
。トリクロロジフルオロエタンには１，１．２−トリク
ロロ−２，２−ジフルオロエタン（以下Ｒ１２２という
）　、　１，２．２−トリクロロ−１，２−ジフルオロ
エタン（以下Ｒ１２２ａトイう）及び１，１．１−トリ
クロロ−２，２−ジフルオロエタン（以下Ｒ１２２ｂと
いう）の３種類の異性体が知られているが、これらを単
独であるいはこれら２種以上の混合物として用いること
ができる。

本発明のフラックス洗浄剤中は、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる０例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも１．ｗを含有させることができる。これらの
有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、θ〜５０
重景％重量ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましく
は２０〜３０重量％である。トリクロロジフルオロエタ
ンと有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には
、その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１−１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく。

ｎ−ペンタン、インペンタン、ｎ−ヘキサン、イソへ午
サン、２−メチルペンタン、２．２−ジメチルブタン、
２，３−ジメチルブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン
、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ
−オクタン、２−メチルへブタン、３−メチルへブタン
、４−メチルへブタン、２．２−ジメチルヘキサン、２
，５−ジメチルヘキサン、３．３−ジメチルヘキサン、
２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３−エ
チルペンタン。

２．３．３−）ジメチルペンタン、２，３．４−）ジメ
チルペンタン、　２，２．３−）ジメチルペンタン、イ
ソオクタン、ノナン、　２，２．５−トリメチルヘキサ
ン。

デカン、ドデンカン、１−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、ｌ−ノネン、　１−７’セ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン。

エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、シクロヘキ
セン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、テトラリン
、アミジノ、アミルナフタレン等から選ばれるものであ
る。より好ましくは、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ
−へブタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタ１ノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、１１ｅＣ−ブチ
ルアルコール、イソブチルアルコール、ｔａｒｔ−ブチ
ルアルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルア
ルコール。

１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１−ブタ
ノール、インペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチル
アルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチ
ルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペ
ンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチ
ル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−ヘプタツ
ール、３−ヘプタツール、１−オクタツール、２−オク
タノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノ
ール、３，５．５−）ジメチル−１−ヘキサノール、１
−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノール
、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジ
ルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロ
ヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メ
チルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノー
ル、α−テルピネオール、アビニチノール、２．８−ジ
メチル−４−ヘプタツール、トリメチルノニルアルコー
ル、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール
等から選ばれるものである、より好ましくはメタノール
、エタノール、イソプロピルアルコール等である。

ケトン類としては、Ｒ−Ｇｏ−Ｒ’　、Ｒワ０．Ｒ−Ｇ
Ｏ−Ｒ’−炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素基）
のいずれかの−名代で示されるものが好ましく、アセト
ン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタ
ノン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−プチルケトン、メ
チルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、
ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオ
キＣ／ド、ホロン、メチル−ｎ−アミルケトン、エチル
ブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４−ペ
ンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン
、フェンチ諺ン等から選ばれるものである。より好まし
くはアセトン、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、　１，１．１−トリクロルエタン、１，１．２
−）す゛クロルエタン、１，１，１．２−テトラクロル
エタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、１，１−ジクロルエチレン、１，２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、１．１，１−トリクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や、安
定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有
塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい
、洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、
超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することがで
きる。

［実施例］ 実施例１〜７ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張８１層板）全面にフラックス（タム
ラＦ−ＡＩ−４，＠タムラ製作所製）を塗布し、　２０
０℃の電気炉で２分間焼成後７ラツクス洗浄剤に１分間
浸漬した。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

第１表 （）内は混合比［重量％コ Ｏ：良好に除去できる　Δ：少量残存 Ｘ：かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）トリクロロジフルオロエタンを有効成分として含
   有するフラックス洗浄剤。
2. （２）フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
   ル類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれる少な
   くとも１種が含まれている特許請求の範囲第１項記載の
   フラックス洗浄剤。