JPH02202598A - フラックス洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はＩＣ部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ ＸＣ部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から１．１．
２−トリクロロ−１，２，２−）−リフルオロエタン（
以下Ｒ１１３という）が広く使われている。Ｒ１１３は
不燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。し
かも、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵
さず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般
にフラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチ
ック、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこ
の点からもＲ１１３が有利であった。

［発明が解決しようとする課題〕 本発明は従来使用されていたＲ１１３が種々の利点を持
つにもかかわらず、成店圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくＲ１１３と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべ（なされたものであり、
炭素数が３である特定の塩化弗化炭化水素を有効成分と
して含有するフラックス洗浄剤を提供するものである。

本発明の塩化弗化炭化水素としては ＣＦ−ＣＦｘＣＨＣＱＦ　（Ｒ２２６ｃａ）、ＣＣＱＦ
２ＣＦ２ＣＨＦ２　（Ｒ２２６ｃｂ）、ＣＣＱ、ＣＦ２
ＣＨＣＱ２　（Ｒ２２２ｃ）　、　ＣＣ２２ＦＣＦ、Ｃ
，ＨＣＱ２　（Ｒ２２３ｃａｌ、ＣＣＱ３ＣＦ、ＣＨＣ
ＱＦＣＲ２２３Ｃｂ）、ＣＣＱ、ＣＦ−ＣＨＦ−（Ｒ２
２４ｃｃ）、ＣＨＣＱ２ＣＦ２ＣＨＣＱ２　（Ｒ２３２
ｃａ）　、　ＣＣ（！５ｃＦａｃＨｚｃＱ　（Ｒ２３２
ｃｂ）、ＣＣＱ　、ＦＣＦ、ＣＨ、ＣＱ　（Ｒ２３３ｃ
ｂ）　、　ＣＨＣＱｚＣＦ、ＣＨＣＱＦ　（Ｒ２３３ｃ
ａ）　。

（：ＣＱ−ＣＦｉＣＨＪ　（Ｒ２３３ｃｃ）、ＣＣＱ、
ＣＦｘＣＨｓ　（Ｒ２４２ｃｂ）、ＣＨＣＱ、ＣＦ、Ｃ
Ｈ，Ｃ，Ｑ　（Ｒ２４２ｃａ）等の水素含有塩化弗化炭
化水素から選ばれる１種又は２種以上の混合物が好まし
い。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも１種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜５０重
量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは
２０〜３０重量％である。本発明の塩化弗化炭化水素類
と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、
その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜１５の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、２−メチル
ペンタン、２．２−ジメチルブタン、２．３−ジメチル
ブタン、ｎ−へブタン、イソへブタン、３−メチルヘキ
サン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン％２−
メチルへブタン、３−メチルへブタン、４−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．５−ジメチルヘ
キサン、３．３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−
エチルベンクン、３−メチル−３−二チルペンクン、２
、３．３−トリメチルペンタン、２，３．４−トリメチ
ルペンタン、２，２．３−トリメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、２．２．５−　トリメチルヘキサン、
デカン、ドデンカン、ｌ−ペンテン、２−ペンテン、１
−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、
シクロベンクン、メチルシクロベンクン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタ
レン等から選ばれるものである。より好ましくは、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−へブタ
ン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜１７の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、５ｅｃ−アミルアルコ
ール、ｌ−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１
−ブタノール、インペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペ
ンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオ
ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−
１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２
−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタツール、２−ヘ
プタツール、３−ヘプタツール、１−オクタツール、２
−オクタツール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−
ノナノール、３，５．５−トリメチル−１−ヘキサノー
ル、１−デカノール、■−ウンデカノール、ｌ−ドデカ
ノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチル
シクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、
３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキ
サノール、α−テルピネオール、アビニチノール、２．
６−シメチルー４−ヘプタツール、トリメチルノニルア
ルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデシルアル
コール等から選ばれるものである。より好ましくはメタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール等である
。

、ロ ケトン類としては、Ｒ−ＧＯ−Ｒ、Ｒ−ＣＯ，Ｒ−ＧＯ
−Ｒ−１，Ｆ］、ｒＣＨ・］。

ＧＯ−Ｒ、Ｒ−Ｃｏ−Ｒ、Ｒ−（：Ｏ−Ｒ（ここで、Ｒ
，Ｒ’、Ｒ”は炭素数１〜９の飽和又は不飽和炭化水素
基）のいずれかの一般式で示されるものが好ましく、ア
セトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペ
ンタノン、２−ヘキサノン、メチル−〇−ブチルケトン
、メチルブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノ
ン、シイ・ツブチルケトン、アセトニルアセトン、メシ
チルオキシド、ホロン、メチル−〇−アミルケトン、エ
チルブチルケトン、メチルへキシルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２．４
−ペンタンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェ
ノン、フエンチョン等から選ばれるものである。より好
ましくはアセトン、メチルエチルケトン等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、１．１−ジクロルエタン、１，２−ジクロロ
エタン、１．　ｌ、　１−トリクロルエタン、１．１．
２−トリクロルエタン、１．１．１．２−テトラクロル
エタン、１，１，２．２−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、１．１−ジクロルエチレン、１．２−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、１、　ｒ、　１−トリクロルエタン、トリク
ロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。

洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。

［実施例］ 実施例１〜１７ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積Ｍ板）全面にフラックス（スピー
デイフラックス、　ＡＧＦ−Ｊ−１、アサヒ化学研究所
製）を塗布し、２００℃の電気炉で２分間焼成後フラッ
クス洗浄剤に１分間浸漬した。フラックスの除去の度合
を第１表に示す。

第１表 △；倣量残存 ×；かなり残存 ［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたＲ１１３と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）ＣＦ＿３ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌＦ＿２ＣＦ
   ＿２ＣＨＦ＿２、ＣＣｌ＿３、ＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２Ｃ
   Ｃｌ＿２ＦＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２
   ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨＦ＿２ＣＨＣｌ＿
   ２ＣＦ＿２ＣＨＣｌ＿２、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿２
   Ｃｌ、ＣＣｌ＿２ＦＣＦ＿２ＣＨ＿２１Ｃｌ、ＣＨＣｌ
   ＿２ＣＦ＿２ＣＨＣｌＦ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿２
   Ｆ、ＣＣｌ＿３ＣＦ＿２ＣＨ＿３ＣＨＣｌ＿２ＣＦ＿２
   ＣＨ＿２Ｃｌの群から選ばれる少なくとも１種を有効成
   分として含有するフラックス洗浄剤。
2. （２）フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
   ル類、ケトン類及び塩素化炭化水素類から選ばれる少な
   くとも１種が含まれている請求項１記載のフラックス洗
   浄剤。