JPH01132693A - フラツクス洗浄剤 - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02825—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine containing hydrogen
- C23G5/02829—Ethanes
- C23G5/02832—C2H3Cl2F
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はIC部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。
[従来の技術]
IC部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い、従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から1.1.
2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以
下R113という)が広く使われている。R113は不
燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からもR113が有利であった。
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い、従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から1.1.
2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以
下R113という)が広く使われている。R113は不
燃性、非曝性で毒性が低く、安定性も優れている。しか
も、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さ
ず、各種の汚れを選択的に溶解する性質がある。一般に
フラックス洗浄をする場合の被洗物は金属、プラスチッ
ク、エラストマー等から成る複合部品が多く従ってこの
点からもR113が有利であった。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は従来使用されていたR113が種々の利点を持
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくR113と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。
つにもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては
皮膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることか
らそれに対応すべくR113と同様な種々の利点を有し
、同等の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供
することを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
1.l−ジクロロ−1−フルオロエタンを有効成分とし
て含有するフラックス洗浄剤を提供するものである。
1.l−ジクロロ−1−フルオロエタンを有効成分とし
て含有するフラックス洗浄剤を提供するものである。
本発明のフラックス洗浄剤の有効成分であるi、t−ジ
クロロ−1−フルオロエタン(以下R141bという)
は適度な溶解力がある等、従来のR113と同様な利点
を有する優れた溶剤である。
クロロ−1−フルオロエタン(以下R141bという)
は適度な溶解力がある等、従来のR113と同様な利点
を有する優れた溶剤である。
本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる0例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも1種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、0〜50重
量%、好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは
20〜30重量%である。 1.1−ジクロロ−1−フ
ルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組成が存在す
る場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
の他の各種成分を含有させることができる0例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも1種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、0〜50重
量%、好ましくは10〜40重量%、さらに好ましくは
20〜30重量%である。 1.1−ジクロロ−1−フ
ルオロエタンと有機溶剤との混合物に共沸組成が存在す
る場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
炭化水素類としては炭素数1〜15の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ンペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2,2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2,4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2−
メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへブ
タン、2.2−ジメチルヘキサン、2,5−ジメチルへ
午サン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3−
エチルペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、2
.3.3−)ジメチルペンタン、2,3.4−トリメチ
ルペンタン、2,2.3−)ジメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、2,2.5−)ジメチルヘキサン、デ
カン、ドデンカン、1−ペンテン、2−ペンテン、1−
ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−テセン、シ
クロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン
、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシ
クロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペンテ
ン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等である。
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、n−ペンタン、イ
ンペンタン、n−ヘキサン、イソヘキサン、2−メチル
ペンタン、2,2−ジメチルブタン、2.3−ジメチル
ブタン、n−へブタン、イソへブタン、3−メチルヘキ
サン、2,4−ジメチルペンタン、n−オクタン、2−
メチルへブタン、3−メチルへブタン、4−メチルへブ
タン、2.2−ジメチルヘキサン、2,5−ジメチルへ
午サン、3.3−ジメチルヘキサン、2−メチル−3−
エチルペンタン、3−メチル−3−エチルペンタン、2
.3.3−)ジメチルペンタン、2,3.4−トリメチ
ルペンタン、2,2.3−)ジメチルペンタン、イソオ
クタン、ノナン、2,2.5−)ジメチルヘキサン、デ
カン、ドデンカン、1−ペンテン、2−ペンテン、1−
ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−テセン、シ
クロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン
、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシ
クロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペンテ
ン、デカリン、テトラリン、アミジノ、アミルナフタレ
ン等から選ばれるものである。より好ましくは、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、n−へブタン等である。
アルコール類としては、炭素数1〜17の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、 5ec−アミルアル
コール、l−エチル−1−プロパツール、2−メチル−
1−ブタノール、インペンチルアルコール、tert−
ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル
−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、
2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−
ヘプタツール、3−ヘプタツール、■−オクタツール、
2−オクタツール、2−エチル−1−ヘキサノール、1
−ノナノール、 3,5.5−トリメチル−1−ヘキサ
ノール、 1−7’カノ一ル、1−ウンデカノール、1
−ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアル
コール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1
−メチルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサ
ノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシ
クロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノー
ル、2.6−シメチルー4−ヘプタツール、トリメチル
ノニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデ
シルアルコール等から選ばれるものである。より好まし
くはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等である。
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール
、エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピル
アルコール、n−ブチルアルコール、5ec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール、ペンチルアルコール、 5ec−アミルアル
コール、l−エチル−1−プロパツール、2−メチル−
1−ブタノール、インペンチルアルコール、tert−
ペンチルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネ
オペンチルアルコール、1−ヘキサノール、2−メチル
−1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、
2−エチル−1−ブタノール、1−ヘプタツール、2−
ヘプタツール、3−ヘプタツール、■−オクタツール、
2−オクタツール、2−エチル−1−ヘキサノール、1
−ノナノール、 3,5.5−トリメチル−1−ヘキサ
ノール、 1−7’カノ一ル、1−ウンデカノール、1
−ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアル
コール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、1
−メチルシクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサ
ノール、3−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシ
クロヘキサノール、α−テルピネオール、アビニチノー
ル、2.6−シメチルー4−ヘプタツール、トリメチル
ノニルアルコール、テトラデシルアルコール、ヘプタデ
シルアルコール等から選ばれるものである。より好まし
くはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール
等である。
炭素数1〜9の飽和又は不飽和炭化水素基)のいずれか
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−
ヘキサノン、メチル−n−ブチルケトン、メチルブチル
ケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチ
ルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホ
ロン、メチル−n−アミルケトン、エチルブチルケトン
、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、イソホロン、2.4−ペンタンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルケトン等である。
の一般式で示されるものが好ましく、アセトン、メチル
エチルケトン、2−ペンタノン、3−ペンタノン、2−
ヘキサノン、メチル−n−ブチルケトン、メチルブチル
ケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、ジイソブチ
ルケトン、アセトニルアセトン、メシチルオキシド、ホ
ロン、メチル−n−アミルケトン、エチルブチルケトン
、メチルへキシルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン、イソホロン、2.4−ペンタンジオン
、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、フェンチョ
ン等から選ばれるものである。より好ましくはアセトン
、メチルエチルケトン等である。
塩素化炭化水素類としては、炭素数1〜2の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、 1.2−ジクロ
ロエタン、 1,1.1−トリクロルエタン、1,1.
2−トリクロルエタン、1,1,1.2−テトラクロル
エタン、1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、!、1.l−)ジクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1.1−ジクロルエタン、 1.2−ジクロ
ロエタン、 1,1.1−トリクロルエタン、1,1.
2−トリクロルエタン、1,1,1.2−テトラクロル
エタン、1,1,2.2−テトラクロルエタン、ペンタ
クロルエタン、1,1−ジクロルエチレン、1,2−ジ
クロルエチレン、トリクロルエチレン、テトラクロルエ
チレン等から選ばれるものである。より好ましくは塩化
メチレン、!、1.l−)ジクロルエタン、トリクロル
エチレン、テトラクロルエチレン等である。
本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい、
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。
[実施例]
実施例1〜5
下記第1表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。
の洗浄試験を行なった。
プリント基板(銅張積層板)全面にフラックス(タムラ
F−AI−4.■タムラ製作所製)を塗布し、200℃
の電気炉で2分間焼成後フラックス洗浄剤に1分間浸漬
した。フラックスの除去の度合を第1表に示す。
F−AI−4.■タムラ製作所製)を塗布し、200℃
の電気炉で2分間焼成後フラックス洗浄剤に1分間浸漬
した。フラックスの除去の度合を第1表に示す。
第1表
()内は混合比[重量%]
O:良好に除去できる Δ:少量残存
X:かなり残存
[発明の効果]
本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたR113と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたR113と同様に適度な溶解力を持つこと
から、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る
複合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄す
ることができる。
Claims (2)
- (1)1,1,−ジクロロ−1−フルオロエタンを有効
成分として含有するフラックス洗浄剤。 - (2)フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、アルコー
ル類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれる少な
くとも1種が含まれている特許請求の範囲第1項記載の
フラックス洗浄剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62289582A JPH0749596B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | フラツクス洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62289582A JPH0749596B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | フラツクス洗浄剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01132693A true JPH01132693A (ja) | 1989-05-25 |
JPH0749596B2 JPH0749596B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=17745099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62289582A Expired - Lifetime JPH0749596B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | フラツクス洗浄剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0749596B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991018964A1 (en) * | 1990-06-05 | 1991-12-12 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1,1-dichloro-1-fluoroethane, dichloromethane and optionally alkanol |
WO1991018966A1 (en) * | 1990-06-05 | 1991-12-12 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1,1-dichloro-1-fluoroethane, 1,2-dichloroethylene and optionally an alkanol |
FR2665907A1 (fr) * | 1990-08-14 | 1992-02-21 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane, de chlorure de methylene et de methanol. |
FR2708935A1 (fr) * | 1993-06-03 | 1995-02-17 | Lenglen Jean Luc | Produit liquide de nettoyage, en particulier pour opérations manuelles de nettoyage à température ambiante. |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4035258A (en) * | 1973-08-27 | 1977-07-12 | Phillips Petroleum Company | Azeotropic compositions |
US4086180A (en) * | 1976-05-27 | 1978-04-25 | Phillips Petroleum Company | Constant boiling admixtures |
JPS56109298A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-29 | Daikin Ind Ltd | Azeotropic solvent composition |
JPS5715639A (en) * | 1980-06-23 | 1982-01-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Repair method of pipe |
JPS5778982A (en) * | 1980-11-05 | 1982-05-17 | Mitsui Fluorochemicals Co Ltd | Method of decreasing loss of salt alkane fluoride solvent |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62289582A patent/JPH0749596B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4035258A (en) * | 1973-08-27 | 1977-07-12 | Phillips Petroleum Company | Azeotropic compositions |
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WO1991018964A1 (en) * | 1990-06-05 | 1991-12-12 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1,1-dichloro-1-fluoroethane, dichloromethane and optionally alkanol |
WO1991018966A1 (en) * | 1990-06-05 | 1991-12-12 | Allied-Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1,1-dichloro-1-fluoroethane, 1,2-dichloroethylene and optionally an alkanol |
FR2665907A1 (fr) * | 1990-08-14 | 1992-02-21 | Atochem | Composition nettoyante a base de 1,1-dichloro-1-fluoroethane, de chlorure de methylene et de methanol. |
EP0474528A1 (fr) * | 1990-08-14 | 1992-03-11 | Elf Atochem S.A. | Composition nettoyante à base de 1,1-dichloro-1-fluoroéthane, de chlorure de méthylène et de méthanol |
FR2708935A1 (fr) * | 1993-06-03 | 1995-02-17 | Lenglen Jean Luc | Produit liquide de nettoyage, en particulier pour opérations manuelles de nettoyage à température ambiante. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0749596B2 (ja) | 1995-05-31 |
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Legal Events
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