JPH0749596B2 - フラツクス洗浄剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はIC部品、精密機械部品等に付着したフラックス
を除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するもの
である。

［従来の技術］ IC部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが使
われるが、これらが付着したままでは、製品とはならな
い場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ工
程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有機
溶剤として次に掲げるような種々の利点から1,1,2−ト
リクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン（以下R113とい
う）が広く使われている。R113は不燃性、非曝性で毒性
が低く、安定性も優れている。しかも、金属、プラスチ
ック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選
択的に溶解する性質がある。一般にフラックス洗浄をす
る場合の被洗物は金属、プラスチック、エラストマー等
から成る複合部品が多く従ってこの点からもR113が有利
であった。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明は従来使用されていたR113が種々の利点を持つに
もかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては皮膚
ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることからそ
れに対応すべくR113と同様な種々の利点を有し、同等の
洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供すること
を目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、
1,1−ジクロロ−１−フルオロエタンを有効成分として
含有するフラックス洗浄剤を提供するものである。

本発明のフラックス洗浄剤の有効成分である1,1−ジク
ロロ−１−フルオロエタン（以下R141bという）は適度
な溶解力がある等、従来のR113と同様な利点を有する優
れた溶剤である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じてそ
の他の各種成分を含有させることができる。例えば、溶
解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、ケ
トン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれる
少なくとも１種を含有させることができる。これらの有
機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜50重量
％、好ましくは10〜40重量％、さらに好ましくは20〜30
重量％である。1,1−ジクロロ−１−フルオロエタンと
有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、そ
の共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜15の鎖状又は環状の飽和
又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イソ
ペンタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、2,2−
ジメチルブタン、2,3−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタ
ン、イソヘプタン、３−メチルヘキサン、2,4−ジメチ
ルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−
メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、2,2−ジメチル
ヘキサン、2,5−ジメチヘキサン、3,3−ジメチルヘキサ
ン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３
−エチルペンタン、2,3,3−トリメチルペンタン、2,3,4
−トリメチルペンタン、2,2,3−トリメチルペンタン、
イソオクタン、ノナン、2,2,5−トリメチルヘキサン、
デカン、ドデカン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−
ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、シ
クロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサ
ン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビ
シクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペン
テン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミルナフタ
レン等から選ばれるこのである。より好ましくは、ｎ−
ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜17の鎖状又は環状の
飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノール、
エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルア
ルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルアルコ
ール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコー
ル、ペンチルアルコール、sec−アミルアルコール、１
−エチル−１−プロパノール、２−エチル−１−ブタノ
ール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチルアルコ
ール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアル
コール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノ
ール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１
−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、
３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノー
ル、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、
3,3,5−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノー
ル、１−ウンデカノール、１−ドデカノール、アリルア
ルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルアルコー
ル、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノー
ル、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロ
ヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、α，−
テルピネオール、アビエチノール、2,6−ジメチル−４
−ヘプタノール、トリメチルノニルアルコール、テトラ
デシルアルコール、ヘプタデシルアルコール等から選ば
れるものである。より好ましくはメタノール、エタノー
ル、イソプロピルアルコール等である。

ケタン類としては、Ｒ−CO−Ｒ′， Ｒ−CO−Ｒ′−CO−Ｒ″ （ここで、R,R′,R″は炭素数１〜９の飽和又は不飽和
炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが好ま
しく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノ
ン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノ
ン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニル
アセトン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−ｎ−ア
ミルケトン、エチルブチルケトン、メチルヘキシルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソ
ホロン、2,4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコー
ル、アセトフェノン、フェンチョン等から選ばれるもの
である。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン
等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は不
飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、四
塩化炭素、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロロエタ
ン、1,1,1−トリクロルエタン、1,1,2−トリクロルエタ
ン、1,1,1,2−テトラクロルエタン、1,1,2,2−テトラク
ロルエタン、ペンタクロルエタン、1,1−ジクロルエチ
レン、1,2−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、
テトラクロルエチレン等から選ばれるものである。より
好ましくは塩化メチレン、1,1,1−トリクロルエタン、
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安定
剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有塩
素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよい。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用することができ
る。

［実施例］ 実施例１〜５ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（タムラ
Ｆ−Al−4,（株）タムラ製作所製）を塗布し、200℃の
電気炉で２分間焼成後フラックス洗浄剤に１分間浸漬し
た。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなように
フラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来使
用されていたR113と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】1,1−ジクロロ−１−フルオロエタンを有
   効成分として含有するフラックス洗浄剤。
2. 【請求項２】フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、ア
   ルコール類、ケトン類又は塩素化炭化水素類から選ばれ
   る少なくとも１種が含まれている特許請求の範囲第１項
   記載のフラックス洗浄剤。