JPH0813994B2 - フラツクス洗浄剤 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明はIC部品、精密機械部品等に付着したフラック
スを除去するために用いるフラックス洗浄剤に関するも
のである。

［従来の技術］ IC部品、精密機械部品等の組立て工程でフラックスが
使われるが、これらが付着したままでは、製品とはなら
ない場合が多い。従って、通常このような部品の仕上げ
工程では有機溶剤を用いて洗浄を行なっている。その有
機溶剤として次に掲げるような種々の利点から1,1,2−
トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン（以下R113と
いう）が広く使われている。R113は不燃性、非曝性で毒
性が低く、安定性も優れている。しかも、金属、プラス
チック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを
選択的に溶解する性質がある。一般にフラックス洗浄を
する場合の被洗物は金属、プラスチック、エラストマー
等から成る複合部品が多く従ってこの点からもR113が有
利であった。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は従来使用されていたR113が種々の利点を持つ
にもかかわらず、成層圏のオゾンを破壊し、ひいては皮
膚ガンの発生をひき起す原因となる疑いがあることから
それに対応すべくR113と同様な種々の利点を有し、同等
の洗浄が行なえる新規のフラックス洗浄剤を提供するこ
とを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ 本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであ
り、1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパ
ン及び／又は1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペンタフルオ
プロパンを有効成分として含有するフラックス洗浄剤を
提供するものである。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の目的に応じて
その他の各種成分を含有させることができる。例えば、
溶解力を高めるためには、炭化水素類、アルコール類、
ケトン類又は塩素化炭化水素類等の有機溶剤から選ばれ
る少なくとも１種を含有させることができる。これらの
有機溶剤のフラックス洗浄剤中の含有割合は、０〜50重
量％、好ましくは10〜40重量％、さらに好ましくは20〜
30重量％である。本発明の水素含有塩化弗化炭化水素類
と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、
その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては炭素数１〜15の鎖状又は環状の飽
和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、イ
ソペンタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、2,2
−ジメチルブタン、2,3−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタ
ン、イソヘプタン、３−メチルヘキサン、2,4−ジメチ
ルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−
メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、2,2−ジメチル
ヘキサン、2,5−ジメチルヘキサン、3,3−ジメチルヘキ
サン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−
３−エチルペンタン、2,3,3−トリメチルペンタン、2,
3,4−トリメチルペンタン、2,2,3−トリメチルペンタ
ン、イソオクタン、ノナン、2,2,5−トリメチルヘキサ
ン、デカン、ドデカン、１−ペンテン、２−ペンテン、
１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセ
ン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサ
ン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、
ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミレン、アミル
ナフタレン等から選ばれるものである。より好ましく
は、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ
−ヘプタン等である。

アルコール類としては、炭素数１〜17の鎖状又は環状
の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、メタノー
ル、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコ
ール、ペンチルアルコール、sec−アミルアルコール、
１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタ
ノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチルアル
コール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルア
ルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタ
ノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−
１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノー
ル、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタ
ノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノー
ル、3,5,5−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカ
ノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノール、アリ
ルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルアル
コール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサ
ノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシ
クロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、α
−テルピネオール、アビエチノール、2,6−ジメチル−
４−ヘプタノール、トリメチルノニルアルコール、テト
ラデシルアルコール、ヘプタデシルアルコール等から選
ばれるものである。より好ましくはメタノール、エタノ
ール、イソプロピルアルコール等である。

ケトン類としては、Ｒ−CO−Ｒ′ Ｒ−CO−Ｒ′−CO−Ｒ″， （ここで、R,R′,R″は炭素数１〜９の飽和又は不飽和
炭化水素基）のいずれかの一般式で示されるものが好ま
しく、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノ
ン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチル−ｎ−ブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノ
ン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、アセトニル
アセトン、メシチルオキシド、ホロン、メチル−ｎ−ア
ミルケトン、エチルブチルケトン、メチルヘキシルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソ
ホロン、2,4−ペンタンジオン、ジアセトンアルコー
ル、アセトフェノン、フェンチョン等から選ばれるもの
である。より好ましくはアセトン、メチルエチルケトン
等である。

塩素化炭化水素類としては、炭素数１〜２の飽和又は
不飽和、塩素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、
四塩化炭素、1,1−ジクロルエタン、1,2−ジクロロエタ
ン、1,1,1−トリクロルエタン、1,1,2−トリクロルエタ
ン、1,1,1,2−テトラクロルエタン、1,1,2,2−テトラク
ロルエタン、ペンタクロルエタン、1,1−ジクロルエチ
レン、1,2−ジクロルエチレン、トリクロルエチレン、
テトラクロルエチレン等から選ばれるものである。より
好ましくは塩化メチレン、1,1,1−トリクロルエタン、
トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン等である。

本発明のフラックス洗浄剤には、各種の洗浄助剤や安
定剤あるいはオゾン破壊に対する影響の少ない水素含有
塩素化フッ素化炭化水素類をさらに添加混合してもよ
い。洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺
動、超音波洗浄、蒸気洗浄等通常の方法を採用すること
ができる。

［実施例］ 実施例１〜２ 下記第１表に示すフラックス洗浄剤を用いてフラック
スの洗浄試験を行なった。

プリント基板（銅張積層板）全面にフラックス（タム
ラＦ−A1−4,（株）タムラ製作所製）を塗布し、200℃
の電気炉で２分間焼成後フラックス洗浄剤に１分間浸漬
した。フラックスの除去の度合を第１表に示す。

［発明の効果］ 本発明のフラックス洗浄剤は実施例から明らかなよう
にフラックスの洗浄効果の優れたものである。又、従来
使用されていたR113と同様に適度な溶解力を持つことか
ら、金属、プラスチック及びエラストマー等から成る複
合部品に悪影響を与えることなく、フラックス洗浄する
ことができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフルオ
   ロプロパン及び／又は1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペン
   タフルオプロパンを有効成分として含有するフラックス
   洗浄剤。
2. 【請求項２】フラックス洗浄剤中には、炭化水素類、ア
   ルコール類、ケトン類及び塩素化炭化水素類から選ばれ
   る少なくとも１種が含まれている請求項１記載のフラッ
   クス洗浄剤。