JP2850533B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、洗浄剤組成物に関し、さらに詳しくは、IC
部品、精密機械部品などに付着したフラックス、油脂
類、塵埃などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。
従来の技術とその課題 従来から、IC部品、接密機械部品などを製造する際、
組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去す
るために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれてい
る。有機溶剤としては、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−ト
リフルオロエタン(R−113という)が広く使われてい
る。R−113は、不燃性で毒性が低く、安定性に優れて
いる。しかも適度な溶剤性を有しているので、各種の汚
れのみを選択的に溶解し、金属、プラスチック、エラス
トマーなどを浸すことはない。プリント基板上のフラッ
クス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、金属、プ
ラスチック、エラストマーなどからなる複合部品が多
い。従って、この点からもR−113が有利である。
しかるに、最近、R−113が成層圏のオゾンを破壊
し、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑い
があることから、その使用が規制されつつある。
課題を解決するための手段 本発明者は、上記従来技術の現状に鑑みて鋭意研究を
重ねた結果、特定のフッ化脂肪族炭化水素が、1)分子
中に塩素を含有しないので、オゾンを破壊する恐れがま
ったく無く、2)フラックス、油脂類、塵埃などの洗浄
効果に優れ、3)従来使用されていたR−113と同様の
適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的に溶
解除去し、金属、プラスチック、エラストマーなどから
なる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成し
た。
すなわち、本発明は、C4F6H4、C4F8H2、C5F7H5、C5F8
H4、C5F9H3、C5F10H2、C6F9H5及びC6F12H2で表される化
合物から選ばれた少なくとも1種のフッ化脂肪族炭化水
素を有効成分として含有するIC部品又は精密機械部品用
洗浄剤組成物を提供するものである。
本発明の洗浄剤組成物は、有効成分として、一般式Cn
FmH2n+2-m(式中、4≦n≦6及び6≦m≦12である)
で表わされるフッ化脂肪族炭化水素を含有するものであ
る。この様な化合物がフラックス、油脂類などの洗浄剤
として用いられた例は全くなく、また知られていない。
上記フッ化脂肪族炭化水素としては、具体的には、C4
F6H4、C4F8H2、C5F7H5、C5F8H4、C5F9H3、C5F10H2、C6F
9H5、C6F12H2等で表わされる化合物を例示することがで
き、好ましい具体例としては、1,1,2,3,4,4−ヘキサフ
ルオロブタン(HCF2CFHCFHCF2H)、1,1,1,2,2,3,3,4−
オクタフルオロブタン(CF3CF2CF3CH2F)、1,1,2,2,3,
3,4−ヘプタフルオロペンタン(HCF2(CF22CFHC
H3)、1,1,2,3,3,4,5,5−オクタフルオロペンタン(HCF
2CFHCF2CFHCF2H)、1,1,2,2,3,3,4,4,5−ノナフルオロ
ペンタン(HCF2(CF23CH2F)、1,1,1,2,3,3,4,4,5,5
−デカフルオロペンタン(CF3CF(CHF2)CF2CF2H)、1,
1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロヘキサン(CF3(CF23
CH2CH3)、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカフルオロ
ヘキサン(HCF2(CF24CF2H)、 2−トリフルオロメチル−1,1,1,3,4,4,5,5,5−ノナル
フルオロペンタン(CF32CHCFHCF2CF3等を挙げること
ができる。
本発明の洗浄剤組成物では、上記したフッ化脂肪族炭
化水素の含有量は、特に限定的ではないが、通常70重量
%程度以上、好ましくは80重量%程度以上とすればよ
い。
本発明の組成物には、フラックスの溶解力を向上させ
るために、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケ
トン類などの有機溶剤から選ばれる少なくとも一種を併
用しても良い。有機溶剤の配合量は、特に制限されない
が、通常洗浄剤組成物全量の30重量%程度を超えない範
囲、好ましくは2〜10重量%程度、さらに好ましくは3
〜8重量%程度とすれば良い。フッ化脂肪族炭化水素と
有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、そ
の共沸組成での使用が好ましい。
炭化水素類としては、特に制限されないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオ
クタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエンなどが好ましい。
アルコール類としては、特に制限されないが、炭素数
1〜5程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例え
ば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソ
プロパノール、n−ブチルアルコール、sec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコ
ール、ペンチルアルコール、sec−アミルアルコール、
1−エチル−1−プロパノール、2−メチル−1−ブタ
ノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチルアル
コール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペンチルア
ルコール、2−エチル−1−ブタノールなどを挙げるこ
とができる。その中でも、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、n−プロパノールなどが特に好まし
い。
エステル類としては、特に制限されないが、炭素数1
〜5程度の脂肪酸と炭素数1〜6程度の低級アルコール
のエステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢
酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げ
ることができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。
ケトン類としては、特に制限されないが、一般式R−
CO−R′(式中、RおよびR′は炭素数1〜4程度の飽
和炭素水素基を示す)で表わされるものが好ましく、例
えば、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、3−
ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノンなどを挙げる
ことができる。その中でも、アセトン、2−ブタノン、
4−メチル−2−ペンタノンなどが特に好ましい。
さらに本発明組成物には、各種の目的に応じて、従来
からこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれてい
ても良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの
各種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない
水素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する
恐れが全くない水素含有フッ素化炭素水素類、炭化水素
類などを挙げることができる。
本発明組成物を用いてフラックス、油脂類などの洗
浄、塵埃除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法
が採用できる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、
揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることが
できる。
発明の効果 本発明の洗浄組成物は、オゾンを破壊する恐れがまっ
たく無く、しかもフラックス洗浄効果に優れている。ま
た、従来使用されていたR−113と同様の適度な溶解力
を持つので、各種の汚れ(フラックス、油脂類、塵埃な
ど)のみを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、
エラストマーなどからなる複合部品を浸することがな
い。
実 施 例 以下に実施例を挙げ、本発明を一層明瞭にする。
実施例1 1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロペンタン(7Fペンタ
ン)、1,1,2,3,3,4,5,5−オクタフルオロペンタン(8F
ペンタン)又は2−トリフルオロメチル−1,1,1,3,4,4,
5,5,5−ノナフルオロペンタン(6FDH2)有効成分として
含有する下記第1表に示す本発明の洗浄剤組成物No.1〜
27を用いてフラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板(銅張り積層板)全面にフラックス(タ
ムラF−Al−4、(株)タムラ製作所製)を塗布し、11
0℃で20秒間予備加熱後、250℃で5秒間ハンダ付けを行
なった。ハンダ付け後のプリント基板を本発明の洗浄剤
組成物に浸漬し、超音波洗浄を1分間行なった。フラッ
クスの除去の度合を以下の基板で評価した。結果を第1
表に示す。
◎…フラックスを良好に除去できる。
○…ごく僅かにフラックスが残存する。
×…かなりフラックスが残存する。
実施例2 実施例1で使用した洗浄剤組成物No.1〜18のプラスチ
ックに対する影響をみるために、第2表に示す各種プラ
スチックを、50℃にて1時間各組成物に浸漬し、取り出
した直後にプラスチックの重量変化率(%)を測定し、
以下の基準で影響度を評価した。結果を第2表に示す。
0…影響がほとんどみられない (重量変化率0〜1%) 1…やや膨潤するが、実質的に問題ない。
(重量変化率1〜5%) 2…膨潤し、プラスチックが侵される。
(重量変化率5〜10%) 第1表および第2表から、本発明組成物が、フラック
ス洗浄効果に優れ、かつ各種プラスチックを侵さないこ
とが判る。
実施例3 10×10cmのプリント基板に(株)タムラ製作所製のフ
ラックス(F−AL−4)を塗布し、110℃で予備加熱を
行い、250℃で5秒間ハンダづけを行った。
この基板に対て、下記第3表に示す本発明の洗浄剤を
用いて、超音波洗浄を60秒間及び蒸気洗浄を60秒間行う
ことによって、洗浄試験を行った。
洗浄後のプリント基板につき、フラックスの除去性を
目視により観察する一方、イオン性残渣量をオメガメー
ター500(KENCO社製)を用いて測定し、以下の基準で評
価した。結果を第3表に示す。
目視評価 ○:良好に除去されている。
△:わずかに残渣が認められる。
×:かなり残存する。
イオン性残渣評価:2μgNaCl/cm2以下は良好な洗浄性
を示す。
実施例4 スピンドル油の付着した100メッシュの円筒状金網(2
5φ×15Hmm)を60℃に加温した本発明の洗浄剤に浸漬
し、超音波洗浄を60秒間行った。
更に40〜50℃に加温した本発明の洗浄剤中で浸漬或い
は超音波洗浄を60秒間行った後、蒸気洗浄を60秒間行う
ことにより脱脂洗浄試験を行った。
その後金網に残留している油分量を油分濃度計
((株)堀場製作所製)にて測定し、油分の除去された
割合を洗浄度(%)として求めた。
使用した洗浄剤の組成及び洗浄度を下記第4表に示
す。
上述のように本発明の洗浄剤組成物は脱脂洗浄性に優
れたものである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C11D 7/50 C11D 7/30 C23G 5/028 - 5/032 H05K 3/26 WPI/L(QUESTEL) CA(STN)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】C4F6H4、C4F8H2、C5F7H5、C5F8H4、C5F
    9H3、C5F10H2、C6F9H5及びC6F12H2で表される化合物か
    ら選ばれた少なくとも1種のフッ化脂肪族炭化水素を有
    効成分として含有するIC部品又は精密機械部品用洗浄剤
    組成物。
  2. 【請求項2】フッ化脂肪族炭化水素が、1,1,2,3,4,4−
    ヘキサフルオロブタン、1,1,1,2,2,3,3,4−オクタフル
    オロブタン、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロペンタ
    ン、1,1,2,3,3,4,5,5−オクタフルオロペンタン、1,1,
    2,2,3,3,4,4,5−ノナフルオロペンタン、1,1,1,2,3,3,
    4,4,5,5−デカフルオロペンタン、1,1,1,2,2,3,3,4,4−
    ノナフルオロヘキサン、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ド
    デカフルオロヘキサン及び2−トリフルオロメチル−1,
    1,1,3,4,4,5,5,5−ノナルフルオロペンタンから選ばれ
    た少なくとも1種の化合物である請求項1に記載のIC部
    品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。
  3. 【請求項3】炭化水素類、アルコール類、エステル類及
    びケトン類から選ばれた少なくとも1種の有機溶剤を含
    む請求項1に記載のIC部品又精密機械部品用洗浄剤組成
    物。
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