JP2850533B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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JP2850533B2 JP2331976A JP33197690A JP2850533B2 JP 2850533 B2 JP2850533 B2 JP 2850533B2 JP 2331976 A JP2331976 A JP 2331976A JP 33197690 A JP33197690 A JP 33197690A JP 2850533 B2 JP2850533 B2 JP 2850533B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、洗浄剤組成物に関し、さらに詳しくは、IC
部品、精密機械部品などに付着したフラックス、油脂
類、塵埃などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。
従来の技術とその課題 従来から、IC部品、接密機械部品などを製造する際、
組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去す
るために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれてい
る。有機溶剤としては、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−ト
リフルオロエタン（Ｒ−113という）が広く使われてい
る。Ｒ−113は、不燃性で毒性が低く、安定性に優れて
いる。しかも適度な溶剤性を有しているので、各種の汚
れのみを選択的に溶解し、金属、プラスチック、エラス
トマーなどを浸すことはない。プリント基板上のフラッ
クス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、金属、プ
ラスチック、エラストマーなどからなる複合部品が多
い。従って、この点からもＲ−113が有利である。
しかるに、最近、Ｒ−113が成層圏のオゾンを破壊
し、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑い
があることから、その使用が規制されつつある。
課題を解決するための手段 本発明者は、上記従来技術の現状に鑑みて鋭意研究を
重ねた結果、特定のフッ化脂肪族炭化水素が、１）分子
中に塩素を含有しないので、オゾンを破壊する恐れがま
ったく無く、２）フラックス、油脂類、塵埃などの洗浄
効果に優れ、３）従来使用されていたＲ−113と同様の
適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的に溶
解除去し、金属、プラスチック、エラストマーなどから
なる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成し
た。
すなわち、本発明は、C4F6H4、C4F8H2、C5F7H5、C5F8
H4、C5F9H3、C5F10H2、C6F9H5及びC6F12H2で表される化
合物から選ばれた少なくとも１種のフッ化脂肪族炭化水
素を有効成分として含有するIC部品又は精密機械部品用
洗浄剤組成物を提供するものである。
本発明の洗浄剤組成物は、有効成分として、一般式Cn
FmH2n+2-m（式中、４≦ｎ≦６及び６≦ｍ≦12である）
で表わされるフッ化脂肪族炭化水素を含有するものであ
る。この様な化合物がフラックス、油脂類などの洗浄剤
として用いられた例は全くなく、また知られていない。
上記フッ化脂肪族炭化水素としては、具体的には、C4
F6H4、C4F8H2、C5F7H5、C5F8H4、C5F9H3、C5F10H2、C6F
9H5、C6F12H2等で表わされる化合物を例示することがで
き、好ましい具体例としては、1,1,2,3,4,4−ヘキサフ
ルオロブタン（HCF2CFHCFHCF2H）、1,1,1,2,2,3,3,4−
オクタフルオロブタン（CF3CF2CF3CH2F）、1,1,2,2,3,
3,4−ヘプタフルオロペンタン（HCF2（CF2）2CFHC
H3）、1,1,2,3,3,4,5,5−オクタフルオロペンタン（HCF
2CFHCF2CFHCF2H）、1,1,2,2,3,3,4,4,5−ノナフルオロ
ペンタン（HCF2（CF2）3CH2F）、1,1,1,2,3,3,4,4,5,5
−デカフルオロペンタン（CF3CF（CHF2）CF2CF2H）、1,
1,1,2,2,3,3,4,4−ノナフルオロヘキサン（CF3（CF2）3
CH2CH3）、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ドデカフルオロ
ヘキサン（HCF2（CF2）4CF2H）、 ２−トリフルオロメチル−1,1,1,3,4,4,5,5,5−ノナル
フルオロペンタン（CF3）2CHCFHCF2CF3等を挙げること
ができる。
本発明の洗浄剤組成物では、上記したフッ化脂肪族炭
化水素の含有量は、特に限定的ではないが、通常70重量
％程度以上、好ましくは80重量％程度以上とすればよ
い。
本発明の組成物には、フラックスの溶解力を向上させ
るために、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケ
トン類などの有機溶剤から選ばれる少なくとも一種を併
用しても良い。有機溶剤の配合量は、特に制限されない
が、通常洗浄剤組成物全量の30重量％程度を超えない範
囲、好ましくは２〜10重量％程度、さらに好ましくは３
〜８重量％程度とすれば良い。フッ化脂肪族炭化水素と
有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、そ
の共沸組成での使用が好ましい。
炭化水素類としては、特に制限されないが、例えば、
ヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオ
クタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエンなどが好ましい。
アルコール類としては、特に制限されないが、炭素数
１〜５程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例え
ば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、ｎ−ブチルアルコール、sec−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアルコ
ール、ペンチルアルコール、sec−アミルアルコール、
１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタ
ノール、イソペンチルアルコール、tert−ペンチルアル
コール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルア
ルコール、２−エチル−１−ブタノールなどを挙げるこ
とができる。その中でも、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ｎ−プロパノールなどが特に好まし
い。
エステル類としては、特に制限されないが、炭素数１
〜５程度の脂肪酸と炭素数１〜６程度の低級アルコール
のエステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢
酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチ
ル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げ
ることができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。
ケトン類としては、特に制限されないが、一般式Ｒ−
CO−Ｒ′（式中、ＲおよびＲ′は炭素数１〜４程度の飽
和炭素水素基を示す）で表わされるものが好ましく、例
えば、アセトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、３−
ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノンなどを挙げる
ことができる。その中でも、アセトン、２−ブタノン、
４−メチル−２−ペンタノンなどが特に好ましい。
さらに本発明組成物には、各種の目的に応じて、従来
からこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれてい
ても良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの
各種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない
水素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する
恐れが全くない水素含有フッ素化炭素水素類、炭化水素
類などを挙げることができる。
本発明組成物を用いてフラックス、油脂類などの洗
浄、塵埃除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法
が採用できる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、
揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることが
できる。
発明の効果 本発明の洗浄組成物は、オゾンを破壊する恐れがまっ
たく無く、しかもフラックス洗浄効果に優れている。ま
た、従来使用されていたＲ−113と同様の適度な溶解力
を持つので、各種の汚れ（フラックス、油脂類、塵埃な
ど）のみを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、
エラストマーなどからなる複合部品を浸することがな
い。
実 施 例 以下に実施例を挙げ、本発明を一層明瞭にする。
実施例１ 1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロペンタン（7Fペンタ
ン）、1,1,2,3,3,4,5,5−オクタフルオロペンタン（8F
ペンタン）又は２−トリフルオロメチル−1,1,1,3,4,4,
5,5,5−ノナフルオロペンタン（6FDH2）有効成分として
含有する下記第１表に示す本発明の洗浄剤組成物No.1〜
27を用いてフラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板（銅張り積層板）全面にフラックス（タ
ムラＦ−Al−４、（株）タムラ製作所製）を塗布し、11
0℃で20秒間予備加熱後、250℃で５秒間ハンダ付けを行
なった。ハンダ付け後のプリント基板を本発明の洗浄剤
組成物に浸漬し、超音波洗浄を１分間行なった。フラッ
クスの除去の度合を以下の基板で評価した。結果を第１
表に示す。
◎…フラックスを良好に除去できる。
○…ごく僅かにフラックスが残存する。
×…かなりフラックスが残存する。
実施例２ 実施例１で使用した洗浄剤組成物No.1〜18のプラスチ
ックに対する影響をみるために、第２表に示す各種プラ
スチックを、50℃にて１時間各組成物に浸漬し、取り出
した直後にプラスチックの重量変化率（％）を測定し、
以下の基準で影響度を評価した。結果を第２表に示す。
０…影響がほとんどみられない （重量変化率０〜１％） １…やや膨潤するが、実質的に問題ない。
（重量変化率１〜５％） ２…膨潤し、プラスチックが侵される。
（重量変化率５〜10％） 第１表および第２表から、本発明組成物が、フラック
ス洗浄効果に優れ、かつ各種プラスチックを侵さないこ
とが判る。
実施例３ 10×10cmのプリント基板に（株）タムラ製作所製のフ
ラックス（Ｆ−AL−４）を塗布し、110℃で予備加熱を
行い、250℃で５秒間ハンダづけを行った。
この基板に対て、下記第３表に示す本発明の洗浄剤を
用いて、超音波洗浄を60秒間及び蒸気洗浄を60秒間行う
ことによって、洗浄試験を行った。
洗浄後のプリント基板につき、フラックスの除去性を
目視により観察する一方、イオン性残渣量をオメガメー
ター500（KENCO社製）を用いて測定し、以下の基準で評
価した。結果を第３表に示す。
目視評価 ○：良好に除去されている。
△：わずかに残渣が認められる。
×：かなり残存する。
イオン性残渣評価:2μgNaCl/cm2以下は良好な洗浄性
を示す。
実施例４ スピンドル油の付着した100メッシュの円筒状金網（2
5φ×15Hmm）を60℃に加温した本発明の洗浄剤に浸漬
し、超音波洗浄を60秒間行った。
更に40〜50℃に加温した本発明の洗浄剤中で浸漬或い
は超音波洗浄を60秒間行った後、蒸気洗浄を60秒間行う
ことにより脱脂洗浄試験を行った。
その後金網に残留している油分量を油分濃度計
（（株）堀場製作所製）にて測定し、油分の除去された
割合を洗浄度（％）として求めた。
使用した洗浄剤の組成及び洗浄度を下記第４表に示
す。
上述のように本発明の洗浄剤組成物は脱脂洗浄性に優
れたものである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C11D 7/50 C11D 7/30 C23G 5/028 - 5/032 H05K 3/26 ＷＰＩ／Ｌ（ＱＵＥＳＴＥＬ) ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】C4F6H4、C4F8H2、C5F7H5、C5F8H4、C5F
    9H3、C5F10H2、C6F9H5及びC6F12H2で表される化合物か
    ら選ばれた少なくとも１種のフッ化脂肪族炭化水素を有
    効成分として含有するIC部品又は精密機械部品用洗浄剤
    組成物。
  2. 【請求項２】フッ化脂肪族炭化水素が、1,1,2,3,4,4−
    ヘキサフルオロブタン、1,1,1,2,2,3,3,4−オクタフル
    オロブタン、1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロペンタ
    ン、1,1,2,3,3,4,5,5−オクタフルオロペンタン、1,1,
    2,2,3,3,4,4,5−ノナフルオロペンタン、1,1,1,2,3,3,
    4,4,5,5−デカフルオロペンタン、1,1,1,2,2,3,3,4,4−
    ノナフルオロヘキサン、1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−ド
    デカフルオロヘキサン及び２−トリフルオロメチル−1,
    1,1,3,4,4,5,5,5−ノナルフルオロペンタンから選ばれ
    た少なくとも１種の化合物である請求項１に記載のIC部
    品又は精密機械部品用洗浄剤組成物。
  3. 【請求項３】炭化水素類、アルコール類、エステル類及
    びケトン類から選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含
    む請求項１に記載のIC部品又精密機械部品用洗浄剤組成
    物。
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