JPH05263099A - 洗浄剤組成物及び物品の洗浄方法 - Google Patents
洗浄剤組成物及び物品の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH05263099A JPH05263099A JP4230080A JP23008092A JPH05263099A JP H05263099 A JPH05263099 A JP H05263099A JP 4230080 A JP4230080 A JP 4230080A JP 23008092 A JP23008092 A JP 23008092A JP H05263099 A JPH05263099 A JP H05263099A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- article
- cleaning composition
- detergent composition
- composition according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
- C11D7/262—Alcohols; Phenols fatty or with at least 8 carbon atoms in the alkyl or alkenyl chain
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
- C11D1/02—Anionic compounds
- C11D1/12—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
- C11D1/14—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof derived from aliphatic hydrocarbons or mono-alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/24—Hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/22—Organic compounds
- C11D7/26—Organic compounds containing oxygen
- C11D7/261—Alcohols; Phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5004—Organic solvents
- C11D7/5022—Organic solvents containing oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/024—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing hydrocarbons
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 オゾンに対する破壊性を示さず、非腐食性
で、不燃性であり且つ低毒性である半水性洗浄方法に適
した非ハロゲン化洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 １種又はそれ以上のＣ１０−１３の脂肪族化
合物と約８個の炭素原子を有する１種又はそれ以上の低
級アルコール、好ましくは２−エチル−ヘキサノールと
からなり、エレクトロニクス産業等における工業的洗浄
方法に使用される洗浄剤組成物。
で、不燃性であり且つ低毒性である半水性洗浄方法に適
した非ハロゲン化洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 １種又はそれ以上のＣ１０−１３の脂肪族化
合物と約８個の炭素原子を有する１種又はそれ以上の低
級アルコール、好ましくは２−エチル−ヘキサノールと
からなり、エレクトロニクス産業等における工業的洗浄
方法に使用される洗浄剤組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄剤組成物に関す
る；更に詳しくは、本発明は所謂、半水性洗浄方法、即
ち例えば、金属、ガラス、電子部品及びプリント回路基
板の如き汚染された物品を洗浄剤組成物と接触させ、残
留する洗浄剤組成物を水中で濯いで物品から除去する洗
浄方法に使用する洗浄剤組成物に関する。
る；更に詳しくは、本発明は所謂、半水性洗浄方法、即
ち例えば、金属、ガラス、電子部品及びプリント回路基
板の如き汚染された物品を洗浄剤組成物と接触させ、残
留する洗浄剤組成物を水中で濯いで物品から除去する洗
浄方法に使用する洗浄剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】汚染された物品をハロゲン化炭化水素溶
剤及び／又はその蒸気中に浸漬するか又はそれらで洗浄
する溶剤洗浄方法は周知であり且つ一般的に行われてい
る。現在では、ある種の塩素含有化合物、特にクロロフ
ルオロカーボンが地球を包囲しているオゾン層を破壊す
る虞があることは広く認められており、従って、その製
造及び使用を厳しく制限し且つ最終的には使用中止にす
べきであることが同意されている。
剤及び／又はその蒸気中に浸漬するか又はそれらで洗浄
する溶剤洗浄方法は周知であり且つ一般的に行われてい
る。現在では、ある種の塩素含有化合物、特にクロロフ
ルオロカーボンが地球を包囲しているオゾン層を破壊す
る虞があることは広く認められており、従って、その製
造及び使用を厳しく制限し且つ最終的には使用中止にす
べきであることが同意されている。
【０００３】
【発明が解決しようとしている問題点】米国特許第４，
６４０，７１９号明細書中には、非ハロゲン化溶剤、例
えば、テルペン類が上記ハロゲン含有化合物の代替品と
して提案されている。しかしながら、テルペン類は多く
の場合水に完全に不溶性であり、洗浄した物品から濯ぎ
水によって直接流し去ることが出来ない。又、米国特許
第４，６４０，７１９号明細書中には、更に１種又はそ
れ以上の乳化性界面活性剤を濯ぎ水と共に包含させて物
品からのテルペン類の除去を容易にすることが提案され
ている。最近では、多くの場合、所謂、相溶化成分(com
patibilising component)を存在させた炭化水素と二塩
基酸エステル(dibasic ester)との混合物及び脂肪族炭
化水素とある種の極性有機溶剤との混合物が、ある種の
用途に対する洗浄溶剤としてＥＰ０，４１２，４７５号
明細書及びＷＯ９１／０６６９０号明細書中に夫々提案
されている。上記の混合物はある種の欠点、例えば、毒
性、可燃性を有するか又はその１種又はそれ以上の成分
が再循環出来ないという欠点を有する。
６４０，７１９号明細書中には、非ハロゲン化溶剤、例
えば、テルペン類が上記ハロゲン含有化合物の代替品と
して提案されている。しかしながら、テルペン類は多く
の場合水に完全に不溶性であり、洗浄した物品から濯ぎ
水によって直接流し去ることが出来ない。又、米国特許
第４，６４０，７１９号明細書中には、更に１種又はそ
れ以上の乳化性界面活性剤を濯ぎ水と共に包含させて物
品からのテルペン類の除去を容易にすることが提案され
ている。最近では、多くの場合、所謂、相溶化成分(com
patibilising component)を存在させた炭化水素と二塩
基酸エステル(dibasic ester)との混合物及び脂肪族炭
化水素とある種の極性有機溶剤との混合物が、ある種の
用途に対する洗浄溶剤としてＥＰ０，４１２，４７５号
明細書及びＷＯ９１／０６６９０号明細書中に夫々提案
されている。上記の混合物はある種の欠点、例えば、毒
性、可燃性を有するか又はその１種又はそれ以上の成分
が再循環出来ないという欠点を有する。
【０００４】
【問題点を解決する為の手段】本発明者は、オゾンに対
する破壊性を示さず、非腐食性で、不燃性であり且つ低
毒性である半水性洗浄方法に適した非ハロゲン化洗浄剤
組成物を発明した。本明細書において”不燃性（non-co
mbustible)”という用語は、その溶剤がタグ密閉試験法
(Tag Closed Cup method) で測定した場合、約６０℃以
上の引火点を有することを意味している。本発明の第一
の要旨では、１種又はそれ以上の脂肪族化合物と約８個
の炭素原子を有している１種又はそれ以上の低級アルコ
ール（以下便宜上”低級アルコール”という）とからな
る洗浄剤組成物を提供する。本発明の洗浄剤組成物は典
型的には溶液の形態である。
する破壊性を示さず、非腐食性で、不燃性であり且つ低
毒性である半水性洗浄方法に適した非ハロゲン化洗浄剤
組成物を発明した。本明細書において”不燃性（non-co
mbustible)”という用語は、その溶剤がタグ密閉試験法
(Tag Closed Cup method) で測定した場合、約６０℃以
上の引火点を有することを意味している。本発明の第一
の要旨では、１種又はそれ以上の脂肪族化合物と約８個
の炭素原子を有している１種又はそれ以上の低級アルコ
ール（以下便宜上”低級アルコール”という）とからな
る洗浄剤組成物を提供する。本発明の洗浄剤組成物は典
型的には溶液の形態である。
【０００５】上記の脂肪族化合物は６０℃以上の引火点
を有しており、１５０〜２５０℃、特に１８０〜２４０
℃の範囲で沸騰する。脂肪族化合物は、アルカン類であ
ることが好ましく、線状アルカン類であることが更に好
ましく、特にデカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカ
ン、又はそれらの混合物であることが更に好ましい。脂
肪族化合物は１個又はそれ以上の環を有することが出
来、例えば、”ナフテン誘導体”、即ち、”ナフテン
族”であり得るが、これは好ましいことではない。更に
脂肪族化合物の混合物、例えば、Ｃ10-13 のアルカン類
を使用する場合には、それらの夫々の量は臨界的ではな
く、市場から入手されるアルカン類混合物は直接そのま
ま使用することが出来る。
を有しており、１５０〜２５０℃、特に１８０〜２４０
℃の範囲で沸騰する。脂肪族化合物は、アルカン類であ
ることが好ましく、線状アルカン類であることが更に好
ましく、特にデカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカ
ン、又はそれらの混合物であることが更に好ましい。脂
肪族化合物は１個又はそれ以上の環を有することが出
来、例えば、”ナフテン誘導体”、即ち、”ナフテン
族”であり得るが、これは好ましいことではない。更に
脂肪族化合物の混合物、例えば、Ｃ10-13 のアルカン類
を使用する場合には、それらの夫々の量は臨界的ではな
く、市場から入手されるアルカン類混合物は直接そのま
ま使用することが出来る。
【０００６】本発明の洗浄剤組成物は少量の、例えば、
約５ｗ／ｗ％までの芳香族化合物を含有し得るが、この
ことは好ましいことではない。上記脂肪族化合物は、洗
浄剤組成物の溶解力(solvent power)を過度に低下させ
るか或は洗浄剤組成物を使用する際の操作条件に対して
その安定性を過度に低下させることのない１種又はそれ
以上の置換基を有し得る。低級アルコールは第一級アル
コールであることが好ましいが、該アルコールは第二級
又は第三級アルコールであり得る。低級アルコールとし
ては２−エチル−ヘキサノールが好ましい。
約５ｗ／ｗ％までの芳香族化合物を含有し得るが、この
ことは好ましいことではない。上記脂肪族化合物は、洗
浄剤組成物の溶解力(solvent power)を過度に低下させ
るか或は洗浄剤組成物を使用する際の操作条件に対して
その安定性を過度に低下させることのない１種又はそれ
以上の置換基を有し得る。低級アルコールは第一級アル
コールであることが好ましいが、該アルコールは第二級
又は第三級アルコールであり得る。低級アルコールとし
ては２−エチル−ヘキサノールが好ましい。
【０００７】低級アルコールは１５０〜２５０℃、好ま
しくは１８０〜１９０℃の範囲の沸点を有し、脂肪族化
合物と相互に溶解性であり、可燃物としては分類され
ず、又、室温で水に対して２％より低い溶解度を有して
いる。この様な水に対する溶解度を有する低級アルコー
ルを使用することによって、使用後に洗浄剤組成物を水
蒸気蒸留によって回収し且つ再循環させることが出来る
という利点がある。本発明の洗浄剤組成物の脂肪族化合
物と低級アルコールの濃度、即ち両者の比率は広い範囲
で変化し得るが、洗浄剤組成物をプリント回路基板の製
造に使用する場合には、該混合物をハンダフラックス残
留物中に存在しているイオン性汚染物の少なくとも一部
を溶解することが出来る様にせしめるのに十分な量の低
級アルコールを含有するべきである。
しくは１８０〜１９０℃の範囲の沸点を有し、脂肪族化
合物と相互に溶解性であり、可燃物としては分類され
ず、又、室温で水に対して２％より低い溶解度を有して
いる。この様な水に対する溶解度を有する低級アルコー
ルを使用することによって、使用後に洗浄剤組成物を水
蒸気蒸留によって回収し且つ再循環させることが出来る
という利点がある。本発明の洗浄剤組成物の脂肪族化合
物と低級アルコールの濃度、即ち両者の比率は広い範囲
で変化し得るが、洗浄剤組成物をプリント回路基板の製
造に使用する場合には、該混合物をハンダフラックス残
留物中に存在しているイオン性汚染物の少なくとも一部
を溶解することが出来る様にせしめるのに十分な量の低
級アルコールを含有するべきである。
【０００８】本発明の洗浄剤組成物における脂肪族化合
物と低級アルコールとの重量比は、特にパラフインがＣ
10-13 であり、アルコールが２−エチル−ヘキサノール
である場合には、これらの成分の重量％に基づいて、典
型的には５０：５０であり、約８０：２０であることが
好ましい。本発明の好ましい実施態様では、Ｃ10-13の
脂肪族化合物と２−エチル−ヘキサノールとの混合物か
らなり、該Ｃ10-13 の脂肪族化合物と２−エチル−ヘキ
サノールとが、それぞれ洗浄剤組成物の８０ｗ／ｗ％及
び約２０ｗ／ｗ％を構成する洗浄剤組成物が提供され
る。本発明の洗浄剤組成物は、脂肪族化合物及び低級ア
ルコールの他に、１種又はそれ以上の添加剤、例えば、
安定剤や界面活性剤を含有し得る。本発明の洗浄剤組成
物は、公知の洗浄方法で使用されている溶剤の代替物と
して使用することが出来る。しかしながら、蒸気脱脂は
好ましい使用方法ではない。
物と低級アルコールとの重量比は、特にパラフインがＣ
10-13 であり、アルコールが２−エチル−ヘキサノール
である場合には、これらの成分の重量％に基づいて、典
型的には５０：５０であり、約８０：２０であることが
好ましい。本発明の好ましい実施態様では、Ｃ10-13の
脂肪族化合物と２−エチル−ヘキサノールとの混合物か
らなり、該Ｃ10-13 の脂肪族化合物と２−エチル−ヘキ
サノールとが、それぞれ洗浄剤組成物の８０ｗ／ｗ％及
び約２０ｗ／ｗ％を構成する洗浄剤組成物が提供され
る。本発明の洗浄剤組成物は、脂肪族化合物及び低級ア
ルコールの他に、１種又はそれ以上の添加剤、例えば、
安定剤や界面活性剤を含有し得る。本発明の洗浄剤組成
物は、公知の洗浄方法で使用されている溶剤の代替物と
して使用することが出来る。しかしながら、蒸気脱脂は
好ましい使用方法ではない。
【０００９】本発明の洗浄剤組成物は、コールド洗浄方
法においても使用することが出来るが、典型的にはその
引火点迄の昇温下で使用されるであろう。洗浄は約２０
〜５５℃で行うことが好ましい。本発明の第二の要旨で
は、物品を、本発明の第一の要旨の洗浄剤組成物と接触
させる工程を含む物品の洗浄方法を提供する。洗浄処理
において物品を洗浄剤組成物に接触させる方法は臨界的
ではない。例えば、物品又はそれらの適当な部分を、典
型的には洗浄剤組成物の浴に浸漬させることで液体洗浄
剤組成物に接触させることが出来る。しかしながら、物
品に洗浄剤組成物を噴霧すること、或は洗浄剤組成物を
静止している物品上で流動させることも出来る。更に別
の実施態様では、物品を、洗浄剤組成物に接触させてい
る工程中に超音波照射或は機械的かき混ぜを行うこと、
例えば、撹拌や振動処理することも出来る。
法においても使用することが出来るが、典型的にはその
引火点迄の昇温下で使用されるであろう。洗浄は約２０
〜５５℃で行うことが好ましい。本発明の第二の要旨で
は、物品を、本発明の第一の要旨の洗浄剤組成物と接触
させる工程を含む物品の洗浄方法を提供する。洗浄処理
において物品を洗浄剤組成物に接触させる方法は臨界的
ではない。例えば、物品又はそれらの適当な部分を、典
型的には洗浄剤組成物の浴に浸漬させることで液体洗浄
剤組成物に接触させることが出来る。しかしながら、物
品に洗浄剤組成物を噴霧すること、或は洗浄剤組成物を
静止している物品上で流動させることも出来る。更に別
の実施態様では、物品を、洗浄剤組成物に接触させてい
る工程中に超音波照射或は機械的かき混ぜを行うこと、
例えば、撹拌や振動処理することも出来る。
【００１０】物品を液体洗浄剤組成物との接触工程から
取り出し、次いで該物品に付着している洗浄剤組成物を
表面から蒸発させることが出来る。しかしながら、”濡
れた”物品を水性濯ぎ媒体(rinsing medium)で濯いで物
品表面から残留洗浄剤組成物を除去することが好まし
い。典型的な水性濯ぎ媒体は水である。濯ぎは２０〜５
５℃、例えば、周囲温度で行うことが好ましい。洗浄剤
組成物を濯ぎ工程で生じた液体混合物から回収して再循
環することが好ましい。回収は水蒸気蒸留によって行う
ことが好ましい。その留出液から有機留分を分離し、必
要に応じてその中の脂肪族化合物と低級アルコールの濃
度を調整する。
取り出し、次いで該物品に付着している洗浄剤組成物を
表面から蒸発させることが出来る。しかしながら、”濡
れた”物品を水性濯ぎ媒体(rinsing medium)で濯いで物
品表面から残留洗浄剤組成物を除去することが好まし
い。典型的な水性濯ぎ媒体は水である。濯ぎは２０〜５
５℃、例えば、周囲温度で行うことが好ましい。洗浄剤
組成物を濯ぎ工程で生じた液体混合物から回収して再循
環することが好ましい。回収は水蒸気蒸留によって行う
ことが好ましい。その留出液から有機留分を分離し、必
要に応じてその中の脂肪族化合物と低級アルコールの濃
度を調整する。
【００１１】後述する様に、本発明の別の要旨である洗
浄方法における蒸留工程は、脂肪族化合物と低級アルコ
ールとの引火点以上で行われる。本発明の洗浄方法にお
ける他の工程は上記の引火点以下で行われる。洗浄、濯
ぎ及び水蒸気蒸留の各工程は一体化している装置、例え
ば、本発明と同一出願人によるＥＰ０，４９０，５０１
号明細書に記載した如き装置内で行うことが好ましい。
前記のＥＰ０，４９０，５０１号明細書に記載された装
置においては、物品（複数でもよい）と洗浄剤組成物と
を洗浄剤組成物の引火点よりも実質的に低い温度で接触
領域で接触させる；洗浄剤組成物が付着している物品を
洗浄剤組成物の引火点よりも実質的に低い温度で水性濯
ぎ媒体と接触させる；洗浄剤組成物と水性濯ぎ媒体とか
らなる液体を物品から捕集する；上記の液体を火災の危
険のない領域内で水蒸気蒸留する；蒸気を凝縮させる；
洗浄剤組成物を水性媒体から分離する；そして、必要な
場合、それらの成分の濃度を調整した後に洗浄剤組成物
を次の物品との接触工程に再循環する。
浄方法における蒸留工程は、脂肪族化合物と低級アルコ
ールとの引火点以上で行われる。本発明の洗浄方法にお
ける他の工程は上記の引火点以下で行われる。洗浄、濯
ぎ及び水蒸気蒸留の各工程は一体化している装置、例え
ば、本発明と同一出願人によるＥＰ０，４９０，５０１
号明細書に記載した如き装置内で行うことが好ましい。
前記のＥＰ０，４９０，５０１号明細書に記載された装
置においては、物品（複数でもよい）と洗浄剤組成物と
を洗浄剤組成物の引火点よりも実質的に低い温度で接触
領域で接触させる；洗浄剤組成物が付着している物品を
洗浄剤組成物の引火点よりも実質的に低い温度で水性濯
ぎ媒体と接触させる；洗浄剤組成物と水性濯ぎ媒体とか
らなる液体を物品から捕集する；上記の液体を火災の危
険のない領域内で水蒸気蒸留する；蒸気を凝縮させる；
洗浄剤組成物を水性媒体から分離する；そして、必要な
場合、それらの成分の濃度を調整した後に洗浄剤組成物
を次の物品との接触工程に再循環する。
【００１２】本発明の別の要旨では、（Ａ）物品を本発
明の第一の要旨で記載した洗浄剤組成物と接触させる工
程、（Ｂ）工程（Ａ）からの洗浄剤組成物の付着した物
品を水性濯ぎ媒体と接触させる工程、（Ｃ）工程Ｂから
取り出された水性濯ぎ媒体と残留洗浄剤組成物とからな
る液体を捕集する工程、（Ｄ）工程Ｃで捕集された液体
を水蒸気蒸留する工程、（Ｅ）水蒸気蒸留物から洗浄剤
組成物を分離する工程、（Ｆ）工程（Ｅ）で分離した洗
浄剤組成物の成分の濃度を必要に応じて調整する工程、
及び（Ｇ）工程（Ｅ）又は（Ｆ）からの洗浄剤組成物を
更に次の物品と接触させる為に再循環させる工程；の各
工程から少なくともなる汚染物品の洗浄方法を提供す
る。
明の第一の要旨で記載した洗浄剤組成物と接触させる工
程、（Ｂ）工程（Ａ）からの洗浄剤組成物の付着した物
品を水性濯ぎ媒体と接触させる工程、（Ｃ）工程Ｂから
取り出された水性濯ぎ媒体と残留洗浄剤組成物とからな
る液体を捕集する工程、（Ｄ）工程Ｃで捕集された液体
を水蒸気蒸留する工程、（Ｅ）水蒸気蒸留物から洗浄剤
組成物を分離する工程、（Ｆ）工程（Ｅ）で分離した洗
浄剤組成物の成分の濃度を必要に応じて調整する工程、
及び（Ｇ）工程（Ｅ）又は（Ｆ）からの洗浄剤組成物を
更に次の物品と接触させる為に再循環させる工程；の各
工程から少なくともなる汚染物品の洗浄方法を提供す
る。
【００１３】次に実施例を参照して本発明を更に詳しく
説明する。 実施例１において：ハンダクリーム(solder cream)Ａは
６２％のＳｎ、３８％のＰｂ、ロジン−活性フラック
ス、８６％の金属濃度を有する粒径７５〜５３μｍの合
金粒子を含む登録(proprietary)ハンダクリームであ
る；ハンダクリームＢは登録ハンダクリームである；フ
ラックス１は２０℃における密度０．８２５、引火点１
０℃及び固形分１５．２％の登録フラックスである；フ
ラックス２は登録フラックスである；そしてフラックス
３は２０℃での密度０．８２３、引火点１２℃及び固形
分１５％の登録フラックスである。。
説明する。 実施例１において：ハンダクリーム(solder cream)Ａは
６２％のＳｎ、３８％のＰｂ、ロジン−活性フラック
ス、８６％の金属濃度を有する粒径７５〜５３μｍの合
金粒子を含む登録(proprietary)ハンダクリームであ
る；ハンダクリームＢは登録ハンダクリームである；フ
ラックス１は２０℃における密度０．８２５、引火点１
０℃及び固形分１５．２％の登録フラックスである；フ
ラックス２は登録フラックスである；そしてフラックス
３は２０℃での密度０．８２３、引火点１２℃及び固形
分１５％の登録フラックスである。。
【００１４】各実施例では、残留イオン分を測定し、”
NaClの当量（μｇ／ｉｎ2 ）”として表４〜７に示し
た。許容される工業的標準規格は米国軍規格Ｎｏ．２８
８０９であり、これは残留イオンに対する合格／不合格
値が１４μｇ／ｉｎ2 であることをオメガメーター(Ome
gameter)を用いて測定することが出来る。実施例１〜７ 実施例１、２、４及び６では本発明の洗浄剤組成物が、
プリント回路基板から残留フラックスを除去することが
出来る性能を例示する。実施例３、５及び７は比較例で
ある。
NaClの当量（μｇ／ｉｎ2 ）”として表４〜７に示し
た。許容される工業的標準規格は米国軍規格Ｎｏ．２８
８０９であり、これは残留イオンに対する合格／不合格
値が１４μｇ／ｉｎ2 であることをオメガメーター(Ome
gameter)を用いて測定することが出来る。実施例１〜７ 実施例１、２、４及び６では本発明の洗浄剤組成物が、
プリント回路基板から残留フラックスを除去することが
出来る性能を例示する。実施例３、５及び７は比較例で
ある。
【００１５】表１ ａ：分岐鎖アルカン 分子量１６０；沸点１９０〜２０
７℃ ｂ：分岐鎖アルカン 分子量１４２；沸点１８２〜１９
９℃；ナフテン誘導体溶剤 ＣＴ：比較試験
７℃ ｂ：分岐鎖アルカン 分子量１４２；沸点１８２〜１９
９℃；ナフテン誘導体溶剤 ＣＴ：比較試験
【００１６】銅−被覆（クラッド）ＦＲ−４回路基板に
ハンダクリームＡを点付けし、ＩＣＩ ＶＰ ４５３５
蒸気相ハンダ機中で再度流動させた。これらの回路基板
を洗浄剤組成物中に３分間浸漬し、続いて脱イオン水に
よって１分間濯いだ。残留イオン性汚染分をプロトニク
コンタミノメター(Protonique Contaminometer) を用
いて測定した。得られた結果を表１に示した。表１か
ら、本発明の洗浄剤組成物がｐｃｂ’ｓからイオン性ハ
ンダフラックスロジン残留物を除去する際に純粋な炭化
水素よりも実質的により有効であることが分かる。
ハンダクリームＡを点付けし、ＩＣＩ ＶＰ ４５３５
蒸気相ハンダ機中で再度流動させた。これらの回路基板
を洗浄剤組成物中に３分間浸漬し、続いて脱イオン水に
よって１分間濯いだ。残留イオン性汚染分をプロトニク
コンタミノメター(Protonique Contaminometer) を用
いて測定した。得られた結果を表１に示した。表１か
ら、本発明の洗浄剤組成物がｐｃｂ’ｓからイオン性ハ
ンダフラックスロジン残留物を除去する際に純粋な炭化
水素よりも実質的により有効であることが分かる。
【００１７】実施例８〜１３ これらの実施例は、本発明の洗浄剤組成物とそのある種
の成分の加水分解安定性を説明する。洗浄剤組成物とそ
の脂肪族化合物を、７日間表２に記載した金属試験片の
存在下及び不存在下で別々に還流し、洗浄剤組成物とそ
の成分の不揮発性成分（ＮＶＲ）と酸度(acidity)と試
験片の重量変化を測定した。前記の測定結果及び洗浄剤
組成物と試験片の外観を表２に示した。この表から本発
明の洗浄剤組成物が高温煮沸において安定であり、従っ
て水蒸気蒸留による再循環において安定であることが分
かる。上記実施例で使用した試験片の寸法は、約１ｃｍ
×７ｃｍ×０．３ｃｍであり、その重量は７〜２５ｇの
間である。
の成分の加水分解安定性を説明する。洗浄剤組成物とそ
の脂肪族化合物を、７日間表２に記載した金属試験片の
存在下及び不存在下で別々に還流し、洗浄剤組成物とそ
の成分の不揮発性成分（ＮＶＲ）と酸度(acidity)と試
験片の重量変化を測定した。前記の測定結果及び洗浄剤
組成物と試験片の外観を表２に示した。この表から本発
明の洗浄剤組成物が高温煮沸において安定であり、従っ
て水蒸気蒸留による再循環において安定であることが分
かる。上記実施例で使用した試験片の寸法は、約１ｃｍ
×７ｃｍ×０．３ｃｍであり、その重量は７〜２５ｇの
間である。
【００１８】表２
【００１９】表２の続き ｎｄ：測定せず ａ及びｂ：表１と同じ
【００２０】実施例１４〜１６ これらの実施例では、本発明の洗浄剤組成物の成分の酸
化安定性を例示する。洗浄剤組成物の各成分を１００℃
で７日間加熱し、その間空気（５０ｍｌ／ｍｉｎ．）を
その中に吹き込んだ。幾つかの実験では、表３に示す様
に、金属試験片を成分中に存在させた。試験の終点にお
ける成分の外観、過酸化物価及びＮＶＲを表３に示し
た。表３から各成分が酸化に対して安定であることが分
かる。表３ ａ：表１と同じ
化安定性を例示する。洗浄剤組成物の各成分を１００℃
で７日間加熱し、その間空気（５０ｍｌ／ｍｉｎ．）を
その中に吹き込んだ。幾つかの実験では、表３に示す様
に、金属試験片を成分中に存在させた。試験の終点にお
ける成分の外観、過酸化物価及びＮＶＲを表３に示し
た。表３から各成分が酸化に対して安定であることが分
かる。表３ ａ：表１と同じ
【００２１】実施例１７〜２０ 実施例１８〜２０では、本発明の洗浄剤組成物と、それ
を標準スクリーニング試験で使用することを更に零時す
る。実施例１７は比較例である。実施例１７〜２０にお
ける洗浄剤組成物はＣ10-13 と表４に示した２−エチル
ヘキサノール（２−ＥＨ）の濃度を有する２−ＥＨとの
混合物である。ハンダクリームＡを銅被覆エポキシガラ
ス繊維板（７．５ｃｍ×５ｃｍ）の銅表面に点付けし、
黄銅シム(shim)（０．００６インチ厚）を上記板上に載
置し、顕微鏡スライドガラスを、板とスライドガラスと
の間に０．００６インチのギャップ（所謂”スタンド
オッフ(stand off) ”）を生じる様にクリップで留め
た。このアセンブリー（集成体）をＩＣＩ ＶＰ ４５
３５蒸気相ハンダ機中で再度流動させ、そして次に洗浄
剤組成物中に浸漬して４５℃で２分間かき混ぜた。残留
洗浄剤組成物を、空気の散布によりかき混ぜられている
水で３５℃で２分間及び５０℃で２分間濯ぐことにより
板から除去した。濯いだ板を２０℃で圧縮空気流に当て
て乾燥させた。
を標準スクリーニング試験で使用することを更に零時す
る。実施例１７は比較例である。実施例１７〜２０にお
ける洗浄剤組成物はＣ10-13 と表４に示した２−エチル
ヘキサノール（２−ＥＨ）の濃度を有する２−ＥＨとの
混合物である。ハンダクリームＡを銅被覆エポキシガラ
ス繊維板（７．５ｃｍ×５ｃｍ）の銅表面に点付けし、
黄銅シム(shim)（０．００６インチ厚）を上記板上に載
置し、顕微鏡スライドガラスを、板とスライドガラスと
の間に０．００６インチのギャップ（所謂”スタンド
オッフ(stand off) ”）を生じる様にクリップで留め
た。このアセンブリー（集成体）をＩＣＩ ＶＰ ４５
３５蒸気相ハンダ機中で再度流動させ、そして次に洗浄
剤組成物中に浸漬して４５℃で２分間かき混ぜた。残留
洗浄剤組成物を、空気の散布によりかき混ぜられている
水で３５℃で２分間及び５０℃で２分間濯ぐことにより
板から除去した。濯いだ板を２０℃で圧縮空気流に当て
て乾燥させた。
【００２２】得られた結果を表４に示した。表４から外
観又は残留イオン類によって評価した場合、満足出来る
製品が得られることが分かる。表４
観又は残留イオン類によって評価した場合、満足出来る
製品が得られることが分かる。表４
【００２３】実施例２１〜２３ これらの実施例では、本発明の洗浄剤組成物によるハン
ダフラックスの除去を例示する。ハンダフラックスを銅
被覆エポキシガラス繊維板（７．５ｃｍ×５ｃｍ）の銅
表面に点付けした。この板をＩＣＩ ＶＰ ４５３５蒸
気相ハンダ機中で再度流動させ、そして次に洗浄剤組成
物中に浸漬した。洗浄剤組成物を静止している板の上方
で４５℃で２分間かき混ぜた。上記洗浄剤組成物は２−
ＥＨ（２０ｗ／ｗ％）とＣ10-13 パラフイン（８０ｗ／
ｗ％）との混合物である。板を濯ぎ次いで評価した。得
られた結果を表５に示した。表５の結果から本発明の洗
浄剤組成物が各種のハンダフラックスの除去に有効であ
ることが分かる。
ダフラックスの除去を例示する。ハンダフラックスを銅
被覆エポキシガラス繊維板（７．５ｃｍ×５ｃｍ）の銅
表面に点付けした。この板をＩＣＩ ＶＰ ４５３５蒸
気相ハンダ機中で再度流動させ、そして次に洗浄剤組成
物中に浸漬した。洗浄剤組成物を静止している板の上方
で４５℃で２分間かき混ぜた。上記洗浄剤組成物は２−
ＥＨ（２０ｗ／ｗ％）とＣ10-13 パラフイン（８０ｗ／
ｗ％）との混合物である。板を濯ぎ次いで評価した。得
られた結果を表５に示した。表５の結果から本発明の洗
浄剤組成物が各種のハンダフラックスの除去に有効であ
ることが分かる。
【００２４】表５ 実施例２４〜２９ これらの実施例は、いろいろな量のロジン汚染物を含有
する本発明の洗浄剤組成物の使用方法を例示する。実施
例１７〜２０において使用したものと同様なアセンブリ
ーを使用してハンダクリームの除去を評価（実施例２
５、２７及び２９）し、又、実施例２１〜２３で使用し
たものと同様な板を用いてハンダフラックスの除去を評
価した（実施例２４、２５及び２８）。種々の量の粉砕
ロジンを表６に示した通りに洗浄剤組成物（２０ｗ／ｗ
％の２−ＥＨと８０ｗ／ｗ％のＣ10-13 パラフイン）に
加えた。試験片を洗浄剤組成物中に浸漬し、洗浄剤組成
物をかき混ぜて試験片の上を流動させた。得られた結果
を表６に示した。
する本発明の洗浄剤組成物の使用方法を例示する。実施
例１７〜２０において使用したものと同様なアセンブリ
ーを使用してハンダクリームの除去を評価（実施例２
５、２７及び２９）し、又、実施例２１〜２３で使用し
たものと同様な板を用いてハンダフラックスの除去を評
価した（実施例２４、２５及び２８）。種々の量の粉砕
ロジンを表６に示した通りに洗浄剤組成物（２０ｗ／ｗ
％の２−ＥＨと８０ｗ／ｗ％のＣ10-13 パラフイン）に
加えた。試験片を洗浄剤組成物中に浸漬し、洗浄剤組成
物をかき混ぜて試験片の上を流動させた。得られた結果
を表６に示した。
【００２５】表６ 表６から、本発明の洗浄剤組成物によりイオン汚染物が
ロジン汚染物の存在下でも工業的に許容出来る水準に除
去されることが明らかであろう。実施例３０〜３４ これらの実施例は、各種の洗浄条件下における本発明の
洗浄剤組成物の使用を例示する。使用した洗浄剤組成物
は、２０ｗ／ｗ％の２−ＥＨと８０ｗ／ｗ％のＣ10-13
パラフインである。
ロジン汚染物の存在下でも工業的に許容出来る水準に除
去されることが明らかであろう。実施例３０〜３４ これらの実施例は、各種の洗浄条件下における本発明の
洗浄剤組成物の使用を例示する。使用した洗浄剤組成物
は、２０ｗ／ｗ％の２−ＥＨと８０ｗ／ｗ％のＣ10-13
パラフインである。
【００２６】表７ ＡＧ：かき混ぜ(agitated) ＬＳ：液体撹拌(liquid stirred) 実施例３４においては、、水で濯いでいる間板を超音波
処理した以外は実施例３３の操作を繰り返した。表７か
ら、正しい洗浄方法を行うことにより、許容され得る洗
浄性能が得られることが分かる。
処理した以外は実施例３３の操作を繰り返した。表７か
ら、正しい洗浄方法を行うことにより、許容され得る洗
浄性能が得られることが分かる。
【００２７】実施例３４〜４５ これらの実施例では、工業的洗浄に本発明の洗浄剤組成
物を使用する場合を例示する。トランスミッションオイ
ル（１．５ｍｌ）をスチールパネル（１５ｃｍ×５ｃ
ｍ）に塗り、このスチールパネルを５分間垂直にしてオ
イルを流し、洗浄剤組成物のサンプル（５ｍｌ）をパネ
ル上に注ぎ且つ５分間垂直にして流した。次に除去され
たオイルを評価した。得有られた結果を表８に示した。
物を使用する場合を例示する。トランスミッションオイ
ル（１．５ｍｌ）をスチールパネル（１５ｃｍ×５ｃ
ｍ）に塗り、このスチールパネルを５分間垂直にしてオ
イルを流し、洗浄剤組成物のサンプル（５ｍｌ）をパネ
ル上に注ぎ且つ５分間垂直にして流した。次に除去され
たオイルを評価した。得有られた結果を表８に示した。
【００２８】表８ ＣＴは比較例である。汚染物（６重量部のトランスミッ
ションオイル：３重量部の木炭：１重量部のリチウムＥ
Ｐ１グリース）の層（０．４μｍ）をスチールパネル上
に塗布した。洗浄剤組成物（１０ｍｌ）を上記の汚染し
たパネルに塗布し、該パネルを垂直にして２分間垂直に
して流し、乾燥させ、除去された溶剤の量を評価した。
得られた結果を表９に示した。
ションオイル：３重量部の木炭：１重量部のリチウムＥ
Ｐ１グリース）の層（０．４μｍ）をスチールパネル上
に塗布した。洗浄剤組成物（１０ｍｌ）を上記の汚染し
たパネルに塗布し、該パネルを垂直にして２分間垂直に
して流し、乾燥させ、除去された溶剤の量を評価した。
得られた結果を表９に示した。
【００２９】表９ ＣＴは比較例である。２ｍｌの洗浄剤組成物を使用した
以外、実施例３８〜４１の操作を繰り返し、次にパネル
を３０秒間水平に保持し、５００ｇの負荷でチッシュー
で拭いた。得られた結果を表１０に示した。
以外、実施例３８〜４１の操作を繰り返し、次にパネル
を３０秒間水平に保持し、５００ｇの負荷でチッシュー
で拭いた。得られた結果を表１０に示した。
【００３０】表１０ ＣＴは比較例である。表８、９及び１０から、本発明の
洗浄剤組成物の洗浄能力は公知の洗浄剤組成物と少なく
とも同様に良好であることが分かる。
洗浄剤組成物の洗浄能力は公知の洗浄剤組成物と少なく
とも同様に良好であることが分かる。
【００３１】実施例４６〜４８ これらの実施例では、更に工業的洗浄に本発明の洗浄剤
組成物を使用する場合を例示する。汚染されたサンプル
を表１１に示した条件で２−ＥＨ（２０ｗ／ｗ％）とＣ
11 -13 パラフイン（８０ｗ／ｗ％）からなる洗浄剤組成
物で洗浄した。次にこれらのサンプルを５５℃の熱水で
濯ぎ、６０℃の炉で乾燥する（実施例４６）か、或は６
０℃の熱風で乾燥した（実施例４７及び４６）。表１１ 上記実験から清浄な乾燥サンプルが得られるであろう。
組成物を使用する場合を例示する。汚染されたサンプル
を表１１に示した条件で２−ＥＨ（２０ｗ／ｗ％）とＣ
11 -13 パラフイン（８０ｗ／ｗ％）からなる洗浄剤組成
物で洗浄した。次にこれらのサンプルを５５℃の熱水で
濯ぎ、６０℃の炉で乾燥する（実施例４６）か、或は６
０℃の熱風で乾燥した（実施例４７及び４６）。表１１ 上記実験から清浄な乾燥サンプルが得られるであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:26） (72)発明者 クリストフアー・ジヨン・ミツチエル イギリス国．ダブリユエイ７・４キユエ フ．チエシヤー．ランコーン．ザ・ヒース （番地その他表示なし)
Claims (13)
- 【請求項１】 １種又はそれ以上の脂肪族化合物と約８
個の炭素原子を有する１種又はそれ以上の低級アルコー
ルとなることを特徴とする洗浄剤組成物。 - 【請求項２】 １種又はそれ以上の脂肪族化合物が１種
又はそれ以上のアルカン類からなる請求項１に記載の洗
浄剤組成物。 - 【請求項３】 １種又はそれ以上のアルカン類がデカ
ン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン又はそれらの混
合物からなる請求項１に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項４】 低級アルコールが水に対して２％よりも
低い溶解度を有する請求項１に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項５】 低級アルコールが第１級アルコールであ
る請求項４に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項６】 第一級アルコールが２−エチル−ヘキサ
ノールである請求項５に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項７】 低級アルコールの濃度が約２０ｗ／ｗ％
である請求項１に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項８】 脂肪族化合物がＣ10-13 の脂肪族化合物
の混合物である請求項６に記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項９】 脂肪族化合物：２−エチル−ヘキサノー
ルの重量比が約４：１である請求項８に記載の洗浄剤組
成物。 - 【請求項１０】 物品を請求項１に記載の洗浄剤組成物
に接触させる工程を含むことを特徴とする物品の洗浄方
法。 - 【請求項１１】 物品を洗浄剤組成物との接触工程から
取り出した後、洗浄剤組成物が残留している物品を水性
濯ぎ媒体によって濯ぐ工程を有する請求項１０に記載の
物品の洗浄方法。 - 【請求項１２】 洗浄剤組成物と水性濯ぎ媒体とからな
る、濯ぎ工程で生じた液体から洗浄剤組成物を回収する
工程を含む請求項４に記載の洗浄剤組成物を使用する請
求項１１に記載の物品の洗浄方法。 - 【請求項１３】 洗浄剤組成物を水蒸気蒸留によって回
収する請求項１２に記載の物品の洗浄方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9118629:6 | 1991-08-30 | ||
| GB919118629A GB9118629D0 (en) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | Cleaning composition |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05263099A true JPH05263099A (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=10700705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4230080A Pending JPH05263099A (ja) | 1991-08-30 | 1992-08-28 | 洗浄剤組成物及び物品の洗浄方法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0529869A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05263099A (ja) |
| KR (1) | KR930004446A (ja) |
| AU (1) | AU2108392A (ja) |
| CA (1) | CA2077151A1 (ja) |
| FI (1) | FI923849A (ja) |
| GB (2) | GB9118629D0 (ja) |
| IE (1) | IE922580A1 (ja) |
| NO (1) | NO923389L (ja) |
| ZA (1) | ZA926222B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0699746A4 (en) * | 1993-05-17 | 1996-09-11 | Toshiba Kk | CLEANING AGENTS, CLEANING METHOD AND CLEANING DEVICE |
| FR2723958B1 (fr) | 1994-08-25 | 1996-09-20 | Atochem Elf Sa | Composition de nettoyage a base d'un melange d'alcanes et d'alcools de faible masse molaire. |
| FR2733247B1 (fr) * | 1995-04-20 | 1997-06-13 | Atochem Elf Sa | Agent de nettoyage a base de cycloalcanes |
| WO1996039479A1 (en) * | 1995-06-06 | 1996-12-12 | Intermedics, Inc. | Cleaning process for implantable medical device |
| EP0837913B1 (en) * | 1995-07-11 | 2003-10-15 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Cleaning composition |
| CN107641561A (zh) * | 2016-07-21 | 2018-01-30 | 北京洁航箭达环保科技有限公司 | 一种新型高效的环保型助焊剂专用清洗剂及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1045068A (en) * | 1964-07-20 | 1966-10-05 | Pittsburgh Plate Glass Co | Methylchloroform |
| US3326989A (en) * | 1964-08-18 | 1967-06-20 | Pittsburgh Plate Glass Co | Stabilized methyl chloroform compositions with improved evaporation characteristics |
| JPH01132694A (ja) * | 1987-11-19 | 1989-05-25 | Asahi Glass Co Ltd | フラツクス洗剤 |
| EP0330379A3 (en) * | 1988-02-26 | 1990-04-18 | The British Petroleum Company p.l.c. | Cleansing compositions |
| JPH03146597A (ja) * | 1989-11-01 | 1991-06-21 | Henkel Hakusui Kk | プリント基板の洗浄用組成物 |
-
1991
- 1991-08-30 GB GB919118629A patent/GB9118629D0/en active Pending
-
1992
- 1992-08-11 EP EP92307353A patent/EP0529869A1/en not_active Withdrawn
- 1992-08-11 GB GB9217007A patent/GB2259097A/en not_active Withdrawn
- 1992-08-13 IE IE258092A patent/IE922580A1/en not_active IP Right Cessation
- 1992-08-18 ZA ZA926222A patent/ZA926222B/xx unknown
- 1992-08-18 AU AU21083/92A patent/AU2108392A/en not_active Abandoned
- 1992-08-27 FI FI923849A patent/FI923849A/fi not_active Application Discontinuation
- 1992-08-28 NO NO92923389A patent/NO923389L/no unknown
- 1992-08-28 JP JP4230080A patent/JPH05263099A/ja active Pending
- 1992-08-28 CA CA002077151A patent/CA2077151A1/en not_active Abandoned
- 1992-08-29 KR KR1019920015646A patent/KR930004446A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB9118629D0 (en) | 1991-10-16 |
| GB9217007D0 (en) | 1992-09-23 |
| AU2108392A (en) | 1993-03-04 |
| EP0529869A1 (en) | 1993-03-03 |
| NO923389L (no) | 1993-03-01 |
| FI923849A (fi) | 1993-03-01 |
| FI923849A0 (fi) | 1992-08-27 |
| ZA926222B (en) | 1993-05-05 |
| GB2259097A (en) | 1993-03-03 |
| CA2077151A1 (en) | 1993-03-01 |
| NO923389D0 (no) | 1992-08-28 |
| IE922580A1 (en) | 1993-03-10 |
| KR930004446A (ko) | 1993-03-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100210135B1 (ko) | 테르펜 및 일염기성 에스테르를 사용한 불순물의 세정공정 및 그를 위한 조성물 | |
| US5196136A (en) | Cleaning composition of hydrocarbon component, surfactant and multibasic ester additive | |
| JP4761293B2 (ja) | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 | |
| JPH05263099A (ja) | 洗浄剤組成物及び物品の洗浄方法 | |
| JPH08231989A (ja) | 洗浄剤組成物及び洗浄方法 | |
| EP0621907A1 (en) | Method for cleaning articles | |
| JP3089089B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JPH03162496A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| WO1994028196A1 (en) | Multiple solvent cleaning system | |
| JP3227704B2 (ja) | 清浄化物品の製造方法 | |
| JP3266936B2 (ja) | 水除去用組成物及び物品の水除去方法 | |
| JPH04130199A (ja) | 洗浄剤組成物および洗浄方法 | |
| JP2001137792A (ja) | 洗浄方法 | |
| EP0523892B1 (en) | Cleaning compositions | |
| JPH04127956A (ja) | 物品表面の清浄化方法 | |
| JPH04130197A (ja) | 物品表面の清浄化方法 | |
| JPH04127955A (ja) | 物品表面の清浄化方法 | |
| WO1994013777A1 (en) | Cleaning compositions | |
| Dehon et al. | An Efficient and Innovative Cleaning Solution with Low Environmental Impact | |
| JPH08333600A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP2003527446A (ja) | １−ブロモプロパンとジクロロペンタフルオロプロパンとの共沸組成物及び共沸様組成物 | |
| JPH06192694A (ja) | 半田フラックス除去用洗浄剤 | |
| JP2008024901A (ja) | 共沸様洗浄剤組成物 | |
| JPH0665769A (ja) | 脱脂洗浄剤 | |
| JPH04127957A (ja) | 物品表面の清浄化方法 |