JPH04130197A - 物品表面の清浄化方法 - Google Patents
物品表面の清浄化方法Info
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- JPH04130197A JPH04130197A JP2252692A JP25269290A JPH04130197A JP H04130197 A JPH04130197 A JP H04130197A JP 2252692 A JP2252692 A JP 2252692A JP 25269290 A JP25269290 A JP 25269290A JP H04130197 A JPH04130197 A JP H04130197A
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、物品表面の清浄化方法に関し、さらに詳しく
は、プリント配線基板のはんだ付けに使用されるロジン
フラックスの洗浄に特に適した清浄化方法に関する。本
発明方法は、さらにまた、油類、ワックス類、グリース
類、油脂性研磨剤などの汚染物質の洗浄除去にも、有用
である。
は、プリント配線基板のはんだ付けに使用されるロジン
フラックスの洗浄に特に適した清浄化方法に関する。本
発明方法は、さらにまた、油類、ワックス類、グリース
類、油脂性研磨剤などの汚染物質の洗浄除去にも、有用
である。
なお、本願明細書においては、“%”とあるのは、“重
量%”を意味する。
量%”を意味する。
従来技術とその問題点
プリント配線基板に対するIC部品およびその他の部品
類の装着は、ハンダ付けによって行なわれており、ハン
ダ付は性の改善のために、フラックスが使用されている
。
類の装着は、ハンダ付けによって行なわれており、ハン
ダ付は性の改善のために、フラックスが使用されている
。
フラックスは、ロジン系フラックスと非ロジン系或いは
水溶性フラックスとに大別される。これらの中、ロジン
系フラックスは、電子工業分野でプリント配線基板に対
するIC部品およびその他の部品類の装着に広く使用さ
れている。ハンダ付は後にロジン系フラックスが残存し
ている場合には、配線基板の抵抗が低下して、回路破壊
の原因などとなるので、好ましくない。
水溶性フラックスとに大別される。これらの中、ロジン
系フラックスは、電子工業分野でプリント配線基板に対
するIC部品およびその他の部品類の装着に広く使用さ
れている。ハンダ付は後にロジン系フラックスが残存し
ている場合には、配線基板の抵抗が低下して、回路破壊
の原因などとなるので、好ましくない。
従って、ロジンフラックスの洗浄除去は、1゜1.1−
)ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ジクロロエタ
ンなどの塩化炭化水素、トリクロロトリフルオロエタン
(フロン113)、ジクロロテトラフルオロエタンなど
の塩化フッ化炭化水素、これらの混合物或いはこれらと
他の有機溶剤との共沸混合物などを使用して行なわれて
きた。
)ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ジクロロエタ
ンなどの塩化炭化水素、トリクロロトリフルオロエタン
(フロン113)、ジクロロテトラフルオロエタンなど
の塩化フッ化炭化水素、これらの混合物或いはこれらと
他の有機溶剤との共沸混合物などを使用して行なわれて
きた。
特に、フロン113は、不燃性且つ低毒性で、化学的安
定性にも優れており、金属、プラスチックス、エラスト
マーなどの部品を装着したプリント配線基板を浸食せず
、汚染物質のみを選択的に除去するという優れた性質を
有しているため、広く利用されてきた。
定性にも優れており、金属、プラスチックス、エラスト
マーなどの部品を装着したプリント配線基板を浸食せず
、汚染物質のみを選択的に除去するという優れた性質を
有しているため、広く利用されてきた。
また、水溶性フラックスの洗浄除去には、一部で水も使
用されている。
用されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、近年、大気中に放出されたある種の塩化
フッ化炭化水素(フロン)、塩化炭化水素などが、成層
圏のオゾン層を破壊し、その結果、人類を含む地球上の
生態系に重大な悪影響を及ぼすことが指摘されており、
オゾン層破壊の可能性の高い塩化フッ化炭化水素、塩化
炭化水素など使用および生産が制限されるに至っている
。
フッ化炭化水素(フロン)、塩化炭化水素などが、成層
圏のオゾン層を破壊し、その結果、人類を含む地球上の
生態系に重大な悪影響を及ぼすことが指摘されており、
オゾン層破壊の可能性の高い塩化フッ化炭化水素、塩化
炭化水素など使用および生産が制限されるに至っている
。
一方、水による水溶性フラックスの洗浄除去においては
、水の表面張力が大きいために、微細な部分の洗浄が不
十分となったり、洗浄除去後に物品の表面に残留した水
を乾燥する際に“シミ”が残り、電気的なトラブルの原
因となることがしばしばある。また、洗浄除去に使用す
る水の精製処理或いは使用後の廃水処理などに高価な設
備を必要とするので、水によるフラックスの洗浄除去は
、あまり広くは行なわれていない。
、水の表面張力が大きいために、微細な部分の洗浄が不
十分となったり、洗浄除去後に物品の表面に残留した水
を乾燥する際に“シミ”が残り、電気的なトラブルの原
因となることがしばしばある。また、洗浄除去に使用す
る水の精製処理或いは使用後の廃水処理などに高価な設
備を必要とするので、水によるフラックスの洗浄除去は
、あまり広くは行なわれていない。
テルペンアルコールは、ロジンフラックスの溶剤として
は公知である(特開昭58−66323号)が、ハンダ
付は後のフラックス洗浄剤としては使用されてはいない
。これは、粘度が高いこと、沸点が200℃以上である
ことなどから、フラックス洗浄後に、テルペンアルコー
ルが物品表面に残留して、その除去が極めて困難である
などの理由によるものである。例えば、テルペンアルコ
ールは、水に不溶性であるため、水ですすいでその除去
を行なうことは、できない。
は公知である(特開昭58−66323号)が、ハンダ
付は後のフラックス洗浄剤としては使用されてはいない
。これは、粘度が高いこと、沸点が200℃以上である
ことなどから、フラックス洗浄後に、テルペンアルコー
ルが物品表面に残留して、その除去が極めて困難である
などの理由によるものである。例えば、テルペンアルコ
ールは、水に不溶性であるため、水ですすいでその除去
を行なうことは、できない。
課題を解決するための手段
本発明者は、上記の如き技術の現状に鑑みて研究を重ね
た結果、テルペンアルコールと特定の炭化水素との混合
物による洗浄工程と含フッ素アルコールおよび水素含有
ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によるすすぎ工程
とを併用する場合には、従来技術の問題点が大幅に軽減
乃至実質的に解消されることを見出した。
た結果、テルペンアルコールと特定の炭化水素との混合
物による洗浄工程と含フッ素アルコールおよび水素含有
ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によるすすぎ工程
とを併用する場合には、従来技術の問題点が大幅に軽減
乃至実質的に解消されることを見出した。
すなわち、本発明は、下記の物品表面の清浄化方法を提
供するものである: ■汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールと石油
系溶剤とからなる洗浄剤組成物を接触させて汚染物質を
溶解除去した後、物品を含フッ素アルコールおよび水素
含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によりすすぐ
ことを特徴とする物品表面の清浄化方法。
供するものである: ■汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールと石油
系溶剤とからなる洗浄剤組成物を接触させて汚染物質を
溶解除去した後、物品を含フッ素アルコールおよび水素
含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によりすすぐ
ことを特徴とする物品表面の清浄化方法。
■石油系溶剤が、炭素数9〜11で蒸留範囲が150〜
200℃の炭化水素からなる上記項(1)に記載の物品
表面の清浄化方法。
200℃の炭化水素からなる上記項(1)に記載の物品
表面の清浄化方法。
■洗浄剤組成物が、テルペンアルコール30〜95%と
石油系溶剤70〜5%とからなる上記項(1)に記載の
物品表面の清浄化方法。
石油系溶剤70〜5%とからなる上記項(1)に記載の
物品表面の清浄化方法。
■含フッ素アルコールが、炭素数2〜5の一価の含フッ
素アルコールである上記項(1)に記載の物品表面の清
浄化方法。
素アルコールである上記項(1)に記載の物品表面の清
浄化方法。
■水素含有ハロゲン化炭化水素が、炭素数1〜3で25
〜100℃の沸点を有する上記項(1)に記載の物品表
面の清浄化方法。
〜100℃の沸点を有する上記項(1)に記載の物品表
面の清浄化方法。
本発明の洗浄剤組成物において使用するテルペンアルコ
ールとしては、天然および合成のものがあり、より具体
的には、下記の様なものが例示される。
ールとしては、天然および合成のものがあり、より具体
的には、下記の様なものが例示される。
(a)鎖状テルペンアルコール;
*リナロール(C1oH180)、沸点=197〜19
9℃ *ゲラニオール(C1oH180)、沸点=229〜2
30℃ *シトロネロール(C10H200) 、沸点=225
226℃ (b)単環式テルペンアルコール; *α−テルピネオール(C1oH180)、沸点=21
7〜218℃ *β−テルピネオール(C1oH180) 、沸点=2
09〜210°C *γ−テルピネオール(CIOH180)*メントール
(C1oH180)、沸点=216℃*シネオール(C
1oH180)、沸点−176℃これらのテルペンアル
コールは、単独で若しくは2種以上の混合物として使用
することができる。
9℃ *ゲラニオール(C1oH180)、沸点=229〜2
30℃ *シトロネロール(C10H200) 、沸点=225
226℃ (b)単環式テルペンアルコール; *α−テルピネオール(C1oH180)、沸点=21
7〜218℃ *β−テルピネオール(C1oH180) 、沸点=2
09〜210°C *γ−テルピネオール(CIOH180)*メントール
(C1oH180)、沸点=216℃*シネオール(C
1oH180)、沸点−176℃これらのテルペンアル
コールは、単独で若しくは2種以上の混合物として使用
することができる。
本発明の洗浄剤組成物において使用する石油系溶剤は、
炭素数が9〜11であって、蒸留範囲150〜200℃
の脂肪族炭化水素からなる。この様な脂肪族炭化水素は
、鎖状、分枝鎖状および環状脂肪族炭化水素のいずれで
あっても良い。また、これらは、それぞれの単独或いは
2種以上の混合物であっても良い。この様な石油系溶剤
は、例えば、“エフソールD40″ (エクソン化学(
株)製)、“アイソパーG” (エクソン化学(株)製
)などの商標名の下に市販されており、容易に入手し得
る。石油系溶剤は、テルペンアルコールとの相乗効果に
より、汚れの溶解除去を著しく促進する。
炭素数が9〜11であって、蒸留範囲150〜200℃
の脂肪族炭化水素からなる。この様な脂肪族炭化水素は
、鎖状、分枝鎖状および環状脂肪族炭化水素のいずれで
あっても良い。また、これらは、それぞれの単独或いは
2種以上の混合物であっても良い。この様な石油系溶剤
は、例えば、“エフソールD40″ (エクソン化学(
株)製)、“アイソパーG” (エクソン化学(株)製
)などの商標名の下に市販されており、容易に入手し得
る。石油系溶剤は、テルペンアルコールとの相乗効果に
より、汚れの溶解除去を著しく促進する。
本発明で使用する洗浄剤組成物は、重量割合で、通常テ
ルペンアルコール30〜95%と石油系溶剤70〜5%
とからなっている。石油系溶剤の配合割合が、5%未満
の場合には、汚れの溶解速度の向上による洗浄効果の改
善効果が十分でなくなるのに対し、70%を上回る場合
には、石油系有溶剤自体の溶解性が劣るため、洗浄効果
の改善が充分でな(なる。
ルペンアルコール30〜95%と石油系溶剤70〜5%
とからなっている。石油系溶剤の配合割合が、5%未満
の場合には、汚れの溶解速度の向上による洗浄効果の改
善効果が十分でなくなるのに対し、70%を上回る場合
には、石油系有溶剤自体の溶解性が劣るため、洗浄効果
の改善が充分でな(なる。
また、テルペンアルコールと石油系溶剤とからなる洗浄
剤には、その重量の10%を超えない範囲で、テルペン
炭化水素、有機溶媒、防腐剤、安定化剤などを添加して
も良い。テルペン炭化水素または有機溶媒を添加する場
合には、粘度低下、凝固点降下などの効果が達成される
。
剤には、その重量の10%を超えない範囲で、テルペン
炭化水素、有機溶媒、防腐剤、安定化剤などを添加して
も良い。テルペン炭化水素または有機溶媒を添加する場
合には、粘度低下、凝固点降下などの効果が達成される
。
本発明では、テルペンアルコールと界面活性剤とからな
る洗浄液による洗浄後に、すすぎ液として含フッ素アル
コールおよび水素含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも
一種を使用して、すすぎを行なう。含フッ素アルコール
としては、下記のものが例示される。
る洗浄液による洗浄後に、すすぎ液として含フッ素アル
コールおよび水素含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも
一種を使用して、すすぎを行なう。含フッ素アルコール
としては、下記のものが例示される。
*ペンタフルオロ)ロバノール(CF3 CF2 CH
20H)沸点=81°C *トリフルオロエタノール(CF3 CH20H) 、
沸点=77°C *テトラフルオロプロパツール (CHF2 CF2 CH20H) 、沸点=109℃
*ヘキサフルオロイソプロパツール [(CF3 ) 2 CHOH)コ、沸点=59℃*オ
クタフルオロペンタノール (CHF2 CF2 CF2 CF2 CH20H)
、沸点=140℃水素含有ハロゲン化炭化水素としては
、下記のものが例示される。
20H)沸点=81°C *トリフルオロエタノール(CF3 CH20H) 、
沸点=77°C *テトラフルオロプロパツール (CHF2 CF2 CH20H) 、沸点=109℃
*ヘキサフルオロイソプロパツール [(CF3 ) 2 CHOH)コ、沸点=59℃*オ
クタフルオロペンタノール (CHF2 CF2 CF2 CF2 CH20H)
、沸点=140℃水素含有ハロゲン化炭化水素としては
、下記のものが例示される。
*1,1.2−トリクロロ−2,2−ジフルオロエタン
(R−122)、沸点=72℃ *1,1−ジクロロ−2,2,2−)リフルオロエタン
(R−123)、沸点=27℃ *1.2−ジクロロ−2,2−ジフルオロエタン(R−
132b)、沸点=47°C *1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン(R−141
b)、沸点=32°C *1−クロロ−2,2−ジフルオロエタン(R−142
)、沸点=35℃ *1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロパン(R−225a) 、ty点=45°C *1,3−ジクロロ−1,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロパン(R−225a) 、沸点=52°C $1. 1. 3−)リクロロー2. 2. 3. 3
−テトラフルオロエタン(R−224ca)、沸点=7
2℃ *1.3.3−トリクロロ−1,2,2,3−テトラフ
ルオロエタン(R−224bb) 、沸点=72℃ *1−クロロ−1,2,3,3,3−ペンタフルオロプ
ロパン(R235ca)、沸点=44°C*1,3−ジ
クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロパン(R
−234c c) 、沸点=68C *1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロパ
ン(R−244c a) 、沸点−56℃*1,1−ジ
クロロー1.2.2−1リフルオロプロパン(R−24
3c c) 、沸点=60℃*1,3−ジクロロ−2,
2−ジフルオロプロパン(R−252ca) 、沸点=
66℃*1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオロプロパ
ン(R−252cb)、沸点=79℃ *ジクロロメタン、沸点=40°C *1,1.1−トリクロロエタン、沸点=74℃すすぎ
液としてのこれらの含フッ素アルコールおよび水素含有
ハロゲン化炭化水素は、単独で若しくは2種以上の混合
物として使用することができる。
(R−122)、沸点=72℃ *1,1−ジクロロ−2,2,2−)リフルオロエタン
(R−123)、沸点=27℃ *1.2−ジクロロ−2,2−ジフルオロエタン(R−
132b)、沸点=47°C *1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン(R−141
b)、沸点=32°C *1−クロロ−2,2−ジフルオロエタン(R−142
)、沸点=35℃ *1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロパン(R−225a) 、ty点=45°C *1,3−ジクロロ−1,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロパン(R−225a) 、沸点=52°C $1. 1. 3−)リクロロー2. 2. 3. 3
−テトラフルオロエタン(R−224ca)、沸点=7
2℃ *1.3.3−トリクロロ−1,2,2,3−テトラフ
ルオロエタン(R−224bb) 、沸点=72℃ *1−クロロ−1,2,3,3,3−ペンタフルオロプ
ロパン(R235ca)、沸点=44°C*1,3−ジ
クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロパン(R
−234c c) 、沸点=68C *1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロパ
ン(R−244c a) 、沸点−56℃*1,1−ジ
クロロー1.2.2−1リフルオロプロパン(R−24
3c c) 、沸点=60℃*1,3−ジクロロ−2,
2−ジフルオロプロパン(R−252ca) 、沸点=
66℃*1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオロプロパ
ン(R−252cb)、沸点=79℃ *ジクロロメタン、沸点=40°C *1,1.1−トリクロロエタン、沸点=74℃すすぎ
液としてのこれらの含フッ素アルコールおよび水素含有
ハロゲン化炭化水素は、単独で若しくは2種以上の混合
物として使用することができる。
また、含フッ素アルコールおよび/または水素含有ハロ
ゲン化炭化水素には、その重量の10%を超えない範囲
で、他の有機溶媒、安定化剤などを添加しても良い。他
の有機溶媒を添加する場合には、すすぎ性の向上などの
効果が達成される。
ゲン化炭化水素には、その重量の10%を超えない範囲
で、他の有機溶媒、安定化剤などを添加しても良い。他
の有機溶媒を添加する場合には、すすぎ性の向上などの
効果が達成される。
本発明方法により、各種の汚染物質の洗浄除去を行なう
場合には、まず汚染物質が付着した物品にテルペンアル
コールと炭化水素とからなる洗浄剤を接触させる。物品
と洗浄剤との接触は、特に制限されず、物品を洗浄剤中
に浸漬する方法、物品に洗浄剤をスプレー式に吹き付け
る方法などの任意の手段により、行なうことができる。
場合には、まず汚染物質が付着した物品にテルペンアル
コールと炭化水素とからなる洗浄剤を接触させる。物品
と洗浄剤との接触は、特に制限されず、物品を洗浄剤中
に浸漬する方法、物品に洗浄剤をスプレー式に吹き付け
る方法などの任意の手段により、行なうことができる。
物品との接触時の洗浄剤の温度は、特に限定されないが
、汚染物質の除去促進のためには、50〜80℃程度に
加温することが好ましい。また、浸漬による処理に際し
ては、汚染物質の溶解除去を促進するために、超音波振
動、攪拌、ブラッシングなどの機械力の付与などの手段
を併用しても良い。物品と洗浄剤との接触は、汚染物質
が所望の程度まで除去されるに必要な時間とすれば良い
。
、汚染物質の除去促進のためには、50〜80℃程度に
加温することが好ましい。また、浸漬による処理に際し
ては、汚染物質の溶解除去を促進するために、超音波振
動、攪拌、ブラッシングなどの機械力の付与などの手段
を併用しても良い。物品と洗浄剤との接触は、汚染物質
が所望の程度まで除去されるに必要な時間とすれば良い
。
次いで、洗浄剤との接触による洗浄を終えた物品を含フ
ッ素アルコールおよび/または水素含有ハロゲン化炭化
水素からなるすすぎ液と接触させて、すすぎを行なう。
ッ素アルコールおよび/または水素含有ハロゲン化炭化
水素からなるすすぎ液と接触させて、すすぎを行なう。
物品とすすぎ液との接触方法も、特に制限されず、物品
をすすぎ液中に浸漬する方法、物品にすすぎ液をスプレ
ー式に吹き付ける方法、物品をすすぎ液の蒸気により洗
浄する方法などにより、行なうことができる。また、す
すぎ効果を高めるためには、同一のすすぎ方法を繰り返
し行なったり、異なるすすぎ方法を組み合わせて行なっ
ても良い。特に、浸漬方法または吹き付は方法と蒸気洗
浄とを組み合わせる場合には、すすぎ効果を高め、乾燥
を促進するのみならず、すすぎ液の再生および再使用が
行なえるので、すすぎ液量の大幅な削減および洗浄工程
の著しい簡素化が達成され、さらに安定した洗浄品質の
物品が得られる。すすぎ時の温度および時間は、汚染物
質の種類、汚染の程度、洗浄剤による洗浄の程度、すす
ぎ液の種類、すすぎ方法などにより異なるが、通常室温
乃至80°C程度で15秒乃至3分間程度である。
をすすぎ液中に浸漬する方法、物品にすすぎ液をスプレ
ー式に吹き付ける方法、物品をすすぎ液の蒸気により洗
浄する方法などにより、行なうことができる。また、す
すぎ効果を高めるためには、同一のすすぎ方法を繰り返
し行なったり、異なるすすぎ方法を組み合わせて行なっ
ても良い。特に、浸漬方法または吹き付は方法と蒸気洗
浄とを組み合わせる場合には、すすぎ効果を高め、乾燥
を促進するのみならず、すすぎ液の再生および再使用が
行なえるので、すすぎ液量の大幅な削減および洗浄工程
の著しい簡素化が達成され、さらに安定した洗浄品質の
物品が得られる。すすぎ時の温度および時間は、汚染物
質の種類、汚染の程度、洗浄剤による洗浄の程度、すす
ぎ液の種類、すすぎ方法などにより異なるが、通常室温
乃至80°C程度で15秒乃至3分間程度である。
本発明による清浄化方法は、プリント基板のはんだ付け
に使用されるロジンワックスの除去、接着テープの残留
物の除去などに特に優れた効果を発揮する。本発明によ
る清浄化方法は、さらに油類、ワックス類、グリース類
、油脂性研磨剤などの各種の他の汚染物質の洗浄除去に
も、優れた効果を発揮する。
に使用されるロジンワックスの除去、接着テープの残留
物の除去などに特に優れた効果を発揮する。本発明によ
る清浄化方法は、さらに油類、ワックス類、グリース類
、油脂性研磨剤などの各種の他の汚染物質の洗浄除去に
も、優れた効果を発揮する。
本発明方法によれば、下記のような効果か達成される。
(1)使用する洗浄液は、塩素原子を含まないので、環
境汚染或いはオゾン層の破壊などのいわゆる環境問題を
引起こすことなく、各種物品の洗浄を行なうことができ
る。
境汚染或いはオゾン層の破壊などのいわゆる環境問題を
引起こすことなく、各種物品の洗浄を行なうことができ
る。
(2)テルペンアルコールに特定の石油系溶剤を配合す
ることにより、汚染物質の溶解速度が向上し、洗浄力が
著しく改善される。
ることにより、汚染物質の溶解速度が向上し、洗浄力が
著しく改善される。
(3)洗浄工程およびすすぎ工程のいずれにおいても、
水を使用しないので、工程および設備が簡素化される。
水を使用しないので、工程および設備が簡素化される。
すなわち、水の精製処理および使用後の廃水処理を必要
としないので、これらに必要とされる多くの設備および
その用地、運転費などが不要である。
としないので、これらに必要とされる多くの設備および
その用地、運転費などが不要である。
また、水を使用する場合に必要な熱風乾燥、高周波加熱
などの付着水の乾燥処理工程も不必要となる。
などの付着水の乾燥処理工程も不必要となる。
(4)すすぎ処理に水素含有ハロゲン化炭化水素を使用
する場合にも、これは、大気圏中で容易に分解されるた
め、成層圏にまで到達し難く、オゾン層への影響は小さ
い。
する場合にも、これは、大気圏中で容易に分解されるた
め、成層圏にまで到達し難く、オゾン層への影響は小さ
い。
また、その影響力は、R−113に比して、例えば、R
−123では1/40以下、R−225cbで1/20
以下である。
−123では1/40以下、R−225cbで1/20
以下である。
すすぎ処理に含フッ素アルコールのみを使用する場合に
は、オゾン層の破壊問題は生じない。
は、オゾン層の破壊問題は生じない。
(5)従来塩化フッ化炭化水素、塩化炭化水素などを使
用していた洗浄設備では、設備の大きな改造を行なうこ
となく、洗浄液をテルペンアルコールと石油系溶剤との
混合物に代え、すすぎ液を含フッ素アルコールおよび/
または水素含有ハロゲン化炭化水素からなるすすぎ液に
代えるだけで良い。
用していた洗浄設備では、設備の大きな改造を行なうこ
となく、洗浄液をテルペンアルコールと石油系溶剤との
混合物に代え、すすぎ液を含フッ素アルコールおよび/
または水素含有ハロゲン化炭化水素からなるすすぎ液に
代えるだけで良い。
実施例
以下に実施例および比較例を示し、本発明の特徴とする
ところをより一層明確にする。
ところをより一層明確にする。
実施例1〜2および比較例]〜2
10cmX10cmのプリント基板にロジン系フラック
ス(商標“AGF−200J”、アサヒ化学研究所(製
))を自動はんだ付は装置によりはんだ付け(260’
C)L、、試験片とした。
ス(商標“AGF−200J”、アサヒ化学研究所(製
))を自動はんだ付は装置によりはんだ付け(260’
C)L、、試験片とした。
次いで、下記に示す洗浄液およびすすぎ液を使用して、
第1表に示す条件下に試験片の洗浄およびすすぎを行な
い、ロジン系フラックスに対する除去効果を判定した。
第1表に示す条件下に試験片の洗浄およびすすぎを行な
い、ロジン系フラックスに対する除去効果を判定した。
*洗浄液I・・・α−テルピネオール80%十石油系溶
剤A(商標“エフソールD40”、エクソン化学(株)
製;平均分子量142、蒸留範囲163〜194°Cの
鎖状炭化水素と環状炭化水素との混合物)20% *洗浄液■・・・α−テルピネオール80%十石油系溶
剤B(商標“アイソパーG”、エクソン化学(株)製;
平均分子量149、蒸留範囲158〜177°Cの分枝
鎖状炭化水素)20%*洗浄液■・・・a−テルピネオ
ール *すすき液■・・・R−225cb *すすぎ液■・・・ペンタクロロプロパツール第1表 洗 浄 すすぎ (浸漬) (浸漬) 蒸気すすぎ 実施例 I TV 60°C,30秒 50’C,30秒 ■ ■ 60°0130秒 50°0130秒 ■ 30秒 ■ 30秒 比較例 ■ ■ 60°C130秒 60°C130秒 ■水 60°0130秒 60°0130秒 なし なし 洗浄およびすすぎ処理後の試験片の外観およびイオン性
残渣の量を第2表に示す。なお、イオン性残渣の量(μ
g−NaC1/C♂の当量単位で示す)は、固有抵抗測
定器(商標“オメガメータ、ケンコーインダストリー(
株)製:検出感度=0.4 μg−N a C1/cJ
)により測定した。
剤A(商標“エフソールD40”、エクソン化学(株)
製;平均分子量142、蒸留範囲163〜194°Cの
鎖状炭化水素と環状炭化水素との混合物)20% *洗浄液■・・・α−テルピネオール80%十石油系溶
剤B(商標“アイソパーG”、エクソン化学(株)製;
平均分子量149、蒸留範囲158〜177°Cの分枝
鎖状炭化水素)20%*洗浄液■・・・a−テルピネオ
ール *すすき液■・・・R−225cb *すすぎ液■・・・ペンタクロロプロパツール第1表 洗 浄 すすぎ (浸漬) (浸漬) 蒸気すすぎ 実施例 I TV 60°C,30秒 50’C,30秒 ■ ■ 60°0130秒 50°0130秒 ■ 30秒 ■ 30秒 比較例 ■ ■ 60°C130秒 60°C130秒 ■水 60°0130秒 60°0130秒 なし なし 洗浄およびすすぎ処理後の試験片の外観およびイオン性
残渣の量を第2表に示す。なお、イオン性残渣の量(μ
g−NaC1/C♂の当量単位で示す)は、固有抵抗測
定器(商標“オメガメータ、ケンコーインダストリー(
株)製:検出感度=0.4 μg−N a C1/cJ
)により測定した。
第2表
外 観 イオン性残渣
(μg−NaC1/c♂)
実施例
比較例
表面清浄
表面清浄
未乾燥
白色残渣
0.4以下
0.4以下
1゜
2゜
第2表に示す結果から、
本発明方法の優れたロ
ジン系フラックスの除去効果が明らかである。
実施例3〜4および比較例3〜4
5cmX5cmの100メツシユ金網にプレス工作油(
商標“PG−3080”、日本工作油(株)製)を塗布
し、試験片とした。
商標“PG−3080”、日本工作油(株)製)を塗布
し、試験片とした。
次いで、上記第1表に示す条件下に洗浄剤およびすすぎ
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎを行ない、工
作油に対する除去効果を判定した。
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎを行ない、工
作油に対する除去効果を判定した。
処理後の試験片の外観および脱脂洗浄率を第3表に示す
。脱脂洗浄率は、工作油を塗布した試験片の処理前後の
重合測定に基いて算出した。
。脱脂洗浄率は、工作油を塗布した試験片の処理前後の
重合測定に基いて算出した。
外
観
実施例
比較例
3 未乾燥
4 未乾燥
表面清浄
表面清浄
第
表
脱脂洗浄率
(%)
99゜
99゜
50゜
80、3
第3表に示す結果から、本発明方法は、油汚れの除去に
も優れた効果を発揮することが明らかである。
も優れた効果を発揮することが明らかである。
(以 上)
Claims (5)
- (1)汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールと
石油系溶剤とからなる洗浄剤組成物を接触させて汚染物
質を溶解除去した後、物品を含フッ素アルコールおよび
水素含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によりす
すぐことを特徴とする物品表面の清浄化方法。 - (2)石油系溶剤が、炭素数9〜11で蒸留範囲が15
0〜200℃の炭化水素からなる請求項(1)に記載の
物品表面の清浄化方法。 - (3)洗浄剤組成物が、テルペンアルコール30〜95
%と石油系溶剤70〜5%とからなる請求項(1)に記
載の物品表面の清浄化方法。 - (4)含フッ素アルコールが、炭素数2〜5の一価の含
フッ素アルコールである請求項(1)に記載の物品表面
の清浄化方法。 - (5)水素含有ハロゲン化炭化水素が、炭素数1〜3で
25〜100℃の沸点を有する請求項(1)に記載の物
品表面の清浄化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2252692A JPH04130197A (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | 物品表面の清浄化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2252692A JPH04130197A (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | 物品表面の清浄化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04130197A true JPH04130197A (ja) | 1992-05-01 |
Family
ID=17240921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2252692A Pending JPH04130197A (ja) | 1990-09-20 | 1990-09-20 | 物品表面の清浄化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04130197A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994020601A1 (en) * | 1993-03-12 | 1994-09-15 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing clean article |
US5393451A (en) * | 1991-01-11 | 1995-02-28 | Koetzle; A. Richard | High temperature flashpoint, stable cleaning composition |
WO2005026309A1 (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-24 | Zeon Corporation | 洗浄剤組成物および洗浄方法 |
-
1990
- 1990-09-20 JP JP2252692A patent/JPH04130197A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5393451A (en) * | 1991-01-11 | 1995-02-28 | Koetzle; A. Richard | High temperature flashpoint, stable cleaning composition |
WO1994020601A1 (en) * | 1993-03-12 | 1994-09-15 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing clean article |
WO2005026309A1 (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-24 | Zeon Corporation | 洗浄剤組成物および洗浄方法 |
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