JPH04130197A - 物品表面の清浄化方法 - Google Patents

物品表面の清浄化方法

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JPH04130197A
JPH04130197A JP2252692A JP25269290A JPH04130197A JP H04130197 A JPH04130197 A JP H04130197A JP 2252692 A JP2252692 A JP 2252692A JP 25269290 A JP25269290 A JP 25269290A JP H04130197 A JPH04130197 A JP H04130197A
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JP
Japan
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cleaning
article
boiling point
rinsing
alcohol
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JP2252692A
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English (en)
Inventor
Yukio Omure
大牟礼 幸雄
Satoru Ide
井手 哲
Keisuke Kitano
圭祐 北野
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Publication date
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、物品表面の清浄化方法に関し、さらに詳しく
は、プリント配線基板のはんだ付けに使用されるロジン
フラックスの洗浄に特に適した清浄化方法に関する。本
発明方法は、さらにまた、油類、ワックス類、グリース
類、油脂性研磨剤などの汚染物質の洗浄除去にも、有用
である。
なお、本願明細書においては、“%”とあるのは、“重
量%”を意味する。
従来技術とその問題点 プリント配線基板に対するIC部品およびその他の部品
類の装着は、ハンダ付けによって行なわれており、ハン
ダ付は性の改善のために、フラックスが使用されている
フラックスは、ロジン系フラックスと非ロジン系或いは
水溶性フラックスとに大別される。これらの中、ロジン
系フラックスは、電子工業分野でプリント配線基板に対
するIC部品およびその他の部品類の装着に広く使用さ
れている。ハンダ付は後にロジン系フラックスが残存し
ている場合には、配線基板の抵抗が低下して、回路破壊
の原因などとなるので、好ましくない。
従って、ロジンフラックスの洗浄除去は、1゜1.1−
)ジクロロエタン、トリクロロエチレン、ジクロロエタ
ンなどの塩化炭化水素、トリクロロトリフルオロエタン
(フロン113)、ジクロロテトラフルオロエタンなど
の塩化フッ化炭化水素、これらの混合物或いはこれらと
他の有機溶剤との共沸混合物などを使用して行なわれて
きた。
特に、フロン113は、不燃性且つ低毒性で、化学的安
定性にも優れており、金属、プラスチックス、エラスト
マーなどの部品を装着したプリント配線基板を浸食せず
、汚染物質のみを選択的に除去するという優れた性質を
有しているため、広く利用されてきた。
また、水溶性フラックスの洗浄除去には、一部で水も使
用されている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、近年、大気中に放出されたある種の塩化
フッ化炭化水素(フロン)、塩化炭化水素などが、成層
圏のオゾン層を破壊し、その結果、人類を含む地球上の
生態系に重大な悪影響を及ぼすことが指摘されており、
オゾン層破壊の可能性の高い塩化フッ化炭化水素、塩化
炭化水素など使用および生産が制限されるに至っている
一方、水による水溶性フラックスの洗浄除去においては
、水の表面張力が大きいために、微細な部分の洗浄が不
十分となったり、洗浄除去後に物品の表面に残留した水
を乾燥する際に“シミ”が残り、電気的なトラブルの原
因となることがしばしばある。また、洗浄除去に使用す
る水の精製処理或いは使用後の廃水処理などに高価な設
備を必要とするので、水によるフラックスの洗浄除去は
、あまり広くは行なわれていない。
テルペンアルコールは、ロジンフラックスの溶剤として
は公知である(特開昭58−66323号)が、ハンダ
付は後のフラックス洗浄剤としては使用されてはいない
。これは、粘度が高いこと、沸点が200℃以上である
ことなどから、フラックス洗浄後に、テルペンアルコー
ルが物品表面に残留して、その除去が極めて困難である
などの理由によるものである。例えば、テルペンアルコ
ールは、水に不溶性であるため、水ですすいでその除去
を行なうことは、できない。
課題を解決するための手段 本発明者は、上記の如き技術の現状に鑑みて研究を重ね
た結果、テルペンアルコールと特定の炭化水素との混合
物による洗浄工程と含フッ素アルコールおよび水素含有
ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によるすすぎ工程
とを併用する場合には、従来技術の問題点が大幅に軽減
乃至実質的に解消されることを見出した。
すなわち、本発明は、下記の物品表面の清浄化方法を提
供するものである: ■汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールと石油
系溶剤とからなる洗浄剤組成物を接触させて汚染物質を
溶解除去した後、物品を含フッ素アルコールおよび水素
含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によりすすぐ
ことを特徴とする物品表面の清浄化方法。
■石油系溶剤が、炭素数9〜11で蒸留範囲が150〜
200℃の炭化水素からなる上記項(1)に記載の物品
表面の清浄化方法。
■洗浄剤組成物が、テルペンアルコール30〜95%と
石油系溶剤70〜5%とからなる上記項(1)に記載の
物品表面の清浄化方法。
■含フッ素アルコールが、炭素数2〜5の一価の含フッ
素アルコールである上記項(1)に記載の物品表面の清
浄化方法。
■水素含有ハロゲン化炭化水素が、炭素数1〜3で25
〜100℃の沸点を有する上記項(1)に記載の物品表
面の清浄化方法。
本発明の洗浄剤組成物において使用するテルペンアルコ
ールとしては、天然および合成のものがあり、より具体
的には、下記の様なものが例示される。
(a)鎖状テルペンアルコール; *リナロール(C1oH180)、沸点=197〜19
9℃ *ゲラニオール(C1oH180)、沸点=229〜2
30℃ *シトロネロール(C10H200) 、沸点=225
226℃ (b)単環式テルペンアルコール; *α−テルピネオール(C1oH180)、沸点=21
7〜218℃ *β−テルピネオール(C1oH180) 、沸点=2
09〜210°C *γ−テルピネオール(CIOH180)*メントール
(C1oH180)、沸点=216℃*シネオール(C
1oH180)、沸点−176℃これらのテルペンアル
コールは、単独で若しくは2種以上の混合物として使用
することができる。
本発明の洗浄剤組成物において使用する石油系溶剤は、
炭素数が9〜11であって、蒸留範囲150〜200℃
の脂肪族炭化水素からなる。この様な脂肪族炭化水素は
、鎖状、分枝鎖状および環状脂肪族炭化水素のいずれで
あっても良い。また、これらは、それぞれの単独或いは
2種以上の混合物であっても良い。この様な石油系溶剤
は、例えば、“エフソールD40″ (エクソン化学(
株)製)、“アイソパーG” (エクソン化学(株)製
)などの商標名の下に市販されており、容易に入手し得
る。石油系溶剤は、テルペンアルコールとの相乗効果に
より、汚れの溶解除去を著しく促進する。
本発明で使用する洗浄剤組成物は、重量割合で、通常テ
ルペンアルコール30〜95%と石油系溶剤70〜5%
とからなっている。石油系溶剤の配合割合が、5%未満
の場合には、汚れの溶解速度の向上による洗浄効果の改
善効果が十分でなくなるのに対し、70%を上回る場合
には、石油系有溶剤自体の溶解性が劣るため、洗浄効果
の改善が充分でな(なる。
また、テルペンアルコールと石油系溶剤とからなる洗浄
剤には、その重量の10%を超えない範囲で、テルペン
炭化水素、有機溶媒、防腐剤、安定化剤などを添加して
も良い。テルペン炭化水素または有機溶媒を添加する場
合には、粘度低下、凝固点降下などの効果が達成される
本発明では、テルペンアルコールと界面活性剤とからな
る洗浄液による洗浄後に、すすぎ液として含フッ素アル
コールおよび水素含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも
一種を使用して、すすぎを行なう。含フッ素アルコール
としては、下記のものが例示される。
*ペンタフルオロ)ロバノール(CF3 CF2 CH
20H)沸点=81°C *トリフルオロエタノール(CF3 CH20H) 、
沸点=77°C *テトラフルオロプロパツール (CHF2 CF2 CH20H) 、沸点=109℃
*ヘキサフルオロイソプロパツール [(CF3 ) 2 CHOH)コ、沸点=59℃*オ
クタフルオロペンタノール (CHF2 CF2 CF2 CF2 CH20H) 
、沸点=140℃水素含有ハロゲン化炭化水素としては
、下記のものが例示される。
*1,1.2−トリクロロ−2,2−ジフルオロエタン
(R−122)、沸点=72℃ *1,1−ジクロロ−2,2,2−)リフルオロエタン
(R−123)、沸点=27℃ *1.2−ジクロロ−2,2−ジフルオロエタン(R−
132b)、沸点=47°C *1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン(R−141
b)、沸点=32°C *1−クロロ−2,2−ジフルオロエタン(R−142
)、沸点=35℃ *1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロパン(R−225a) 、ty点=45°C *1,3−ジクロロ−1,2,3,3,3−ペンタフル
オロプロパン(R−225a) 、沸点=52°C $1. 1. 3−)リクロロー2. 2. 3. 3
−テトラフルオロエタン(R−224ca)、沸点=7
2℃ *1.3.3−トリクロロ−1,2,2,3−テトラフ
ルオロエタン(R−224bb) 、沸点=72℃ *1−クロロ−1,2,3,3,3−ペンタフルオロプ
ロパン(R235ca)、沸点=44°C*1,3−ジ
クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロパン(R
−234c c) 、沸点=68C *1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロプロパ
ン(R−244c a) 、沸点−56℃*1,1−ジ
クロロー1.2.2−1リフルオロプロパン(R−24
3c c) 、沸点=60℃*1,3−ジクロロ−2,
2−ジフルオロプロパン(R−252ca) 、沸点=
66℃*1,1−ジクロロ−2,2−ジフルオロプロパ
ン(R−252cb)、沸点=79℃ *ジクロロメタン、沸点=40°C *1,1.1−トリクロロエタン、沸点=74℃すすぎ
液としてのこれらの含フッ素アルコールおよび水素含有
ハロゲン化炭化水素は、単独で若しくは2種以上の混合
物として使用することができる。
また、含フッ素アルコールおよび/または水素含有ハロ
ゲン化炭化水素には、その重量の10%を超えない範囲
で、他の有機溶媒、安定化剤などを添加しても良い。他
の有機溶媒を添加する場合には、すすぎ性の向上などの
効果が達成される。
本発明方法により、各種の汚染物質の洗浄除去を行なう
場合には、まず汚染物質が付着した物品にテルペンアル
コールと炭化水素とからなる洗浄剤を接触させる。物品
と洗浄剤との接触は、特に制限されず、物品を洗浄剤中
に浸漬する方法、物品に洗浄剤をスプレー式に吹き付け
る方法などの任意の手段により、行なうことができる。
物品との接触時の洗浄剤の温度は、特に限定されないが
、汚染物質の除去促進のためには、50〜80℃程度に
加温することが好ましい。また、浸漬による処理に際し
ては、汚染物質の溶解除去を促進するために、超音波振
動、攪拌、ブラッシングなどの機械力の付与などの手段
を併用しても良い。物品と洗浄剤との接触は、汚染物質
が所望の程度まで除去されるに必要な時間とすれば良い
次いで、洗浄剤との接触による洗浄を終えた物品を含フ
ッ素アルコールおよび/または水素含有ハロゲン化炭化
水素からなるすすぎ液と接触させて、すすぎを行なう。
物品とすすぎ液との接触方法も、特に制限されず、物品
をすすぎ液中に浸漬する方法、物品にすすぎ液をスプレ
ー式に吹き付ける方法、物品をすすぎ液の蒸気により洗
浄する方法などにより、行なうことができる。また、す
すぎ効果を高めるためには、同一のすすぎ方法を繰り返
し行なったり、異なるすすぎ方法を組み合わせて行なっ
ても良い。特に、浸漬方法または吹き付は方法と蒸気洗
浄とを組み合わせる場合には、すすぎ効果を高め、乾燥
を促進するのみならず、すすぎ液の再生および再使用が
行なえるので、すすぎ液量の大幅な削減および洗浄工程
の著しい簡素化が達成され、さらに安定した洗浄品質の
物品が得られる。すすぎ時の温度および時間は、汚染物
質の種類、汚染の程度、洗浄剤による洗浄の程度、すす
ぎ液の種類、すすぎ方法などにより異なるが、通常室温
乃至80°C程度で15秒乃至3分間程度である。
本発明による清浄化方法は、プリント基板のはんだ付け
に使用されるロジンワックスの除去、接着テープの残留
物の除去などに特に優れた効果を発揮する。本発明によ
る清浄化方法は、さらに油類、ワックス類、グリース類
、油脂性研磨剤などの各種の他の汚染物質の洗浄除去に
も、優れた効果を発揮する。
本発明方法によれば、下記のような効果か達成される。
(1)使用する洗浄液は、塩素原子を含まないので、環
境汚染或いはオゾン層の破壊などのいわゆる環境問題を
引起こすことなく、各種物品の洗浄を行なうことができ
る。
(2)テルペンアルコールに特定の石油系溶剤を配合す
ることにより、汚染物質の溶解速度が向上し、洗浄力が
著しく改善される。
(3)洗浄工程およびすすぎ工程のいずれにおいても、
水を使用しないので、工程および設備が簡素化される。
すなわち、水の精製処理および使用後の廃水処理を必要
としないので、これらに必要とされる多くの設備および
その用地、運転費などが不要である。
また、水を使用する場合に必要な熱風乾燥、高周波加熱
などの付着水の乾燥処理工程も不必要となる。
(4)すすぎ処理に水素含有ハロゲン化炭化水素を使用
する場合にも、これは、大気圏中で容易に分解されるた
め、成層圏にまで到達し難く、オゾン層への影響は小さ
い。
また、その影響力は、R−113に比して、例えば、R
−123では1/40以下、R−225cbで1/20
以下である。
すすぎ処理に含フッ素アルコールのみを使用する場合に
は、オゾン層の破壊問題は生じない。
(5)従来塩化フッ化炭化水素、塩化炭化水素などを使
用していた洗浄設備では、設備の大きな改造を行なうこ
となく、洗浄液をテルペンアルコールと石油系溶剤との
混合物に代え、すすぎ液を含フッ素アルコールおよび/
または水素含有ハロゲン化炭化水素からなるすすぎ液に
代えるだけで良い。
実施例 以下に実施例および比較例を示し、本発明の特徴とする
ところをより一層明確にする。
実施例1〜2および比較例]〜2 10cmX10cmのプリント基板にロジン系フラック
ス(商標“AGF−200J”、アサヒ化学研究所(製
))を自動はんだ付は装置によりはんだ付け(260’
C)L、、試験片とした。
次いで、下記に示す洗浄液およびすすぎ液を使用して、
第1表に示す条件下に試験片の洗浄およびすすぎを行な
い、ロジン系フラックスに対する除去効果を判定した。
*洗浄液I・・・α−テルピネオール80%十石油系溶
剤A(商標“エフソールD40”、エクソン化学(株)
製;平均分子量142、蒸留範囲163〜194°Cの
鎖状炭化水素と環状炭化水素との混合物)20% *洗浄液■・・・α−テルピネオール80%十石油系溶
剤B(商標“アイソパーG”、エクソン化学(株)製;
平均分子量149、蒸留範囲158〜177°Cの分枝
鎖状炭化水素)20%*洗浄液■・・・a−テルピネオ
ール *すすき液■・・・R−225cb *すすぎ液■・・・ペンタクロロプロパツール第1表 洗 浄   すすぎ (浸漬)    (浸漬) 蒸気すすぎ 実施例 I         TV 60°C,30秒 50’C,30秒 ■        ■ 60°0130秒 50°0130秒 ■ 30秒 ■ 30秒 比較例 ■        ■ 60°C130秒 60°C130秒 ■水 60°0130秒 60°0130秒 なし なし 洗浄およびすすぎ処理後の試験片の外観およびイオン性
残渣の量を第2表に示す。なお、イオン性残渣の量(μ
g−NaC1/C♂の当量単位で示す)は、固有抵抗測
定器(商標“オメガメータ、ケンコーインダストリー(
株)製:検出感度=0.4 μg−N a C1/cJ
)により測定した。
第2表 外 観     イオン性残渣 (μg−NaC1/c♂) 実施例 比較例 表面清浄 表面清浄 未乾燥 白色残渣 0.4以下 0.4以下 1゜ 2゜ 第2表に示す結果から、 本発明方法の優れたロ ジン系フラックスの除去効果が明らかである。
実施例3〜4および比較例3〜4 5cmX5cmの100メツシユ金網にプレス工作油(
商標“PG−3080”、日本工作油(株)製)を塗布
し、試験片とした。
次いで、上記第1表に示す条件下に洗浄剤およびすすぎ
液を使用して、試験片の洗浄およびすすぎを行ない、工
作油に対する除去効果を判定した。
処理後の試験片の外観および脱脂洗浄率を第3表に示す
。脱脂洗浄率は、工作油を塗布した試験片の処理前後の
重合測定に基いて算出した。
外 観 実施例 比較例 3    未乾燥 4    未乾燥 表面清浄 表面清浄 第 表 脱脂洗浄率 (%) 99゜ 99゜ 50゜ 80、3 第3表に示す結果から、本発明方法は、油汚れの除去に
も優れた効果を発揮することが明らかである。
(以 上)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)汚染物質が付着した物品にテルペンアルコールと
    石油系溶剤とからなる洗浄剤組成物を接触させて汚染物
    質を溶解除去した後、物品を含フッ素アルコールおよび
    水素含有ハロゲン化炭化水素の少なくとも一種によりす
    すぐことを特徴とする物品表面の清浄化方法。
  2. (2)石油系溶剤が、炭素数9〜11で蒸留範囲が15
    0〜200℃の炭化水素からなる請求項(1)に記載の
    物品表面の清浄化方法。
  3. (3)洗浄剤組成物が、テルペンアルコール30〜95
    %と石油系溶剤70〜5%とからなる請求項(1)に記
    載の物品表面の清浄化方法。
  4. (4)含フッ素アルコールが、炭素数2〜5の一価の含
    フッ素アルコールである請求項(1)に記載の物品表面
    の清浄化方法。
  5. (5)水素含有ハロゲン化炭化水素が、炭素数1〜3で
    25〜100℃の沸点を有する請求項(1)に記載の物
    品表面の清浄化方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1994020601A1 (en) * 1993-03-12 1994-09-15 Daikin Industries, Ltd. Process for producing clean article
US5393451A (en) * 1991-01-11 1995-02-28 Koetzle; A. Richard High temperature flashpoint, stable cleaning composition
WO2005026309A1 (ja) * 2003-09-09 2005-03-24 Zeon Corporation 洗浄剤組成物および洗浄方法

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