JPH03179097A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

Info

Publication number
JPH03179097A
JPH03179097A JP31864589A JP31864589A JPH03179097A JP H03179097 A JPH03179097 A JP H03179097A JP 31864589 A JP31864589 A JP 31864589A JP 31864589 A JP31864589 A JP 31864589A JP H03179097 A JPH03179097 A JP H03179097A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
flux
present
composition
alcohol
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP31864589A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroichi Aoyama
博一 青山
Yukio Omure
大牟礼 幸雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to JP31864589A priority Critical patent/JPH03179097A/ja
Publication of JPH03179097A publication Critical patent/JPH03179097A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Detergent Compositions (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、洗浄剤組成物に関し、さらに詳しくは、IC
部品、精密機械部品などに付着したフラックス、塵埃な
どの除去および金属部品などに付着した切削油、プレス
油などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。
従来の技術とその課題 従来から、IC部品、精密機械部品などを製造する際、
組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去す
るために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれている
。また、金属部品などに付着した切削油、プレス油など
を洗浄除去するのにも、有機溶剤が用いられている。有
機溶剤としては、1.1.2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン(R−113という)が広く使わ
れている。R−113は、不燃性で毒性が低く、安定性
に優れている。しかも適度な溶解性を有しているので、
各種の汚れのみを選択的に溶解し、金属、プラスチック
、エラストマーなどを侵すことはない。プリント基板上
のフラックス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、
金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部
品が多い。
従って、この点からもR−113が有利である。
しかるに、最近、R−113が成層圏のオゾンを破壊し
、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑いが
あることから、その使用が規制されつつある。
課題を解決するための手段 本発明者は、上記従来技術の現状に鑑みて鋭意研究を重
ねた結果、特定のフッ素化塩素化脂肪族炭化水素が、1
)オゾンを破壊する恐れが極めて小さく、2)優れた洗
浄能力を有し、3)従来使用されていたR−113と同
様の適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的
に溶解し、金属、プラスチック、エラストマーなどから
なる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成し
た。
すなわち本発明は、2−トリフルオロメチル−2,3−
ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプロパンを有効成
分とする洗浄剤組成物に係る。
本発明組成物は、有効成分として、2−トリフルオロメ
チル−2,3−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプ
ロパン(以下R−336とする)を含有している。R−
336が、フラックス、塵埃、切削油などの洗浄に用い
られた例はない。
本発明組成物には、フラックスの溶解力を向上させるた
めに、アルコール類、エステル類、ケトン類などの有機
溶剤から選ばれる少なくとも一種を併用しても良い。有
機溶剤の配合量は、特に制限されないが、通常洗浄剤組
成物全量の20重量%程度を越えない範囲、好ましくは
0.5〜15重量%程度、さらに好ましくは1〜10重
量%程度とすれば良い。R−336と有機溶剤との混合
物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使
用が好ましい。
アルコール類としては、特に制限されないが、炭素数1
〜5程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパツール、イソプロ
パツール、n−ブチルアルコール、5eC−ブチルアル
コール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアル
コール、ペンチルアルコール、5eC−アミルアルコー
ル、1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−
ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−ペン
チルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペ
ンチルアルコール、2−エチル−1−ブタノールなどを
挙げることができる。その中でも、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、n−プロパツールなどが特に
好ましい。
エステル類としては、特に制限されないが、炭素数1〜
5程度の脂肪酸と炭素数1〜6程度の低級アルコールの
エステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸
イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、
酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げるこ
とができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。
ケトン類としては、特に制限されないが、一般式R−C
o−R’  (式中、RおよびR′は炭素数1〜4程度
の飽和炭化水素基を示す)で表わされるものが好ましく
、例えば、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノンなどを挙
げることができる。
その中でも、アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2
−ペンタノンなどが特に好ましい。
さらに本発明組成物には、各種の目的に応じて、従来か
らこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれていて
も良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの各
種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない水
素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する恐
れが全くない水素含有フッ素化炭化水素類などを挙げる
ことができる。
本発明組成物を用いてフラックス洗浄、脱脂洗浄、塵埃
除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法が採用で
きる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることができる。
発明の効果 本発明の洗浄組成物は、オゾンを破壊する恐れが極めて
小さく、しかも優れた洗浄能力を有している。また、従
来使用されていたR−113と同様の適度な溶解力を持
つので、各種の汚れ(フラックス、塵埃、油分など)の
みを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、エラス
トマーなどからなる複合部品を侵すことがない。
実施例 以下に実施例を挙げ、本発明を一層明瞭にする。
実施例1 下記第1表に示す本発明の洗浄剤組成物思1〜9を用い
て、フラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板(銅張り積層板)全面にフラックス(タム
ラF−AI−4、■タムラ製作所製)を塗布し、110
℃で20秒間予備加熱後、250℃で5秒間ハンダ付け
を行なった。ハンダ付は後のプリント基板を本発明の洗
浄剤組成物に浸漬し、超音波洗浄を1分間行なった。フ
ラックスの除去の度合を以下の基準で評価した。結果を
第1表に示す。
◎・・・フラックスを良好に除去できる。
○・・・ごく僅かにフラックスが残存する。
×・・・かなリフラックスが残存する。
第 表 実施例2 実施例1で使用した洗浄剤組成物阻1〜9を用いて、切
削油の洗浄試験を行なった。
各種洗浄剤組成物にスピンドル油3重量%を混合し、1
0秒間振盪後、スピンドル油の溶解性を以下の基準で評
価した。結果を第2表に示す。
○・・・完全に溶解する。
Δ・・・白濁するが、−層である。
×・・・不均一な二層に分離する。
第 2 表 実施例3 実施例1で使用した洗浄剤組成物隘1〜9のプラスチッ
クに対する影響をみるために、第3表に示す各種プラス
チックを、50℃にて1時間各組成物に浸漬し、取り出
した直後にプラスチックの重量変化率(%)を測定し、
以下の基準で影響度を評価した。結果を第3表に示す。
0・・・影響がほとんどみられない (重量変化率0〜1%) 1・・・やや膨潤するが、実質的に問題ない。
(重量変化率1〜5%) 2・・・膨潤し、プラスチックが侵される。
(重量変化率5〜10%) 第1表乃至第3表から、本発明組成物が、フラックス除
去能力および脱脂能力に優れ、フラックス、塵埃、切削
油などの洗浄剤として有用であることが判る。また、各
種プラスチックを侵さないことも判る。
(以 上)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)2−トリフルオロメチル−2,3−ジクロロ−1
    ,1,1−トリフルオロプロパンを有効成分とする洗浄
    剤組成物。
  2. (2)アルコール類、エステル類およびケトン類から選
    ばれる少なくとも1種の有機溶剤を含む請求項(1)の
    組成物。
JP31864589A 1989-12-07 1989-12-07 洗浄剤組成物 Pending JPH03179097A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31864589A JPH03179097A (ja) 1989-12-07 1989-12-07 洗浄剤組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31864589A JPH03179097A (ja) 1989-12-07 1989-12-07 洗浄剤組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03179097A true JPH03179097A (ja) 1991-08-05

Family

ID=18101448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31864589A Pending JPH03179097A (ja) 1989-12-07 1989-12-07 洗浄剤組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03179097A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8021490B2 (en) 2007-01-04 2011-09-20 Eastman Chemical Company Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8021490B2 (en) 2007-01-04 2011-09-20 Eastman Chemical Company Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2850533B2 (ja) 洗浄剤組成物
EP0559777B1 (en) A process for cleaning contaminants with monobasic ester
US5667594A (en) Cleaning method with solvent
EP0670365B1 (en) Cleaning solvent composition and method of cleaning or drying article
JP4292348B2 (ja) パーフルオロブチルメチルエーテル含有共沸様組成物
WO1991009105A1 (en) High-boiling hydrochlorofluorocarbon solvent blends
JPH03179097A (ja) 洗浄剤組成物
JP2869432B2 (ja) 溶剤及びそれを用いる物品表面の清浄化方法
JPH04211500A (ja) 共沸溶剤組成物
JPH05125396A (ja) 洗浄剤
EP0500951A1 (en) Halogen-free detergent composition
JPH0649491A (ja) 洗浄に用いる溶剤組成物
JPH06100891A (ja) 溶剤又はその組成物
JPH0649490A (ja) 洗浄剤組成物
JPH02286796A (ja) 混合溶剤組成物
JPH0649492A (ja) 洗浄溶剤の組成物
JP3194622B2 (ja) 共沸組成物または共沸様組成物および乾燥液
JPH04249598A (ja) 洗浄用組成物
JPH04130197A (ja) 物品表面の清浄化方法
JP2002519507A (ja) エーテルで安定化され臭化n−プロピルをベースとする溶媒系により銀を洗浄する際に曇りの形成を抑制する方法
JP2003027268A (ja) 混合溶剤組成物
JPH08151600A (ja) 混合洗浄溶剤
JPH06293899A (ja) フラックス除去用洗浄剤
JPH06322395A (ja) 洗浄溶剤用の組成物
JPH01245098A (ja) 不燃性共沸様溶剤組成物