JPH03179097A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH03179097A JPH03179097A JP31864589A JP31864589A JPH03179097A JP H03179097 A JPH03179097 A JP H03179097A JP 31864589 A JP31864589 A JP 31864589A JP 31864589 A JP31864589 A JP 31864589A JP H03179097 A JPH03179097 A JP H03179097A
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Landscapes
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、洗浄剤組成物に関し、さらに詳しくは、IC
部品、精密機械部品などに付着したフラックス、塵埃な
どの除去および金属部品などに付着した切削油、プレス
油などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。
部品、精密機械部品などに付着したフラックス、塵埃な
どの除去および金属部品などに付着した切削油、プレス
油などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。
従来の技術とその課題
従来から、IC部品、精密機械部品などを製造する際、
組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去す
るために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれている
。また、金属部品などに付着した切削油、プレス油など
を洗浄除去するのにも、有機溶剤が用いられている。有
機溶剤としては、1.1.2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン(R−113という)が広く使わ
れている。R−113は、不燃性で毒性が低く、安定性
に優れている。しかも適度な溶解性を有しているので、
各種の汚れのみを選択的に溶解し、金属、プラスチック
、エラストマーなどを侵すことはない。プリント基板上
のフラックス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、
金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部
品が多い。
組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去す
るために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれている
。また、金属部品などに付着した切削油、プレス油など
を洗浄除去するのにも、有機溶剤が用いられている。有
機溶剤としては、1.1.2−トリクロロ−1,2,2
−トリフルオロエタン(R−113という)が広く使わ
れている。R−113は、不燃性で毒性が低く、安定性
に優れている。しかも適度な溶解性を有しているので、
各種の汚れのみを選択的に溶解し、金属、プラスチック
、エラストマーなどを侵すことはない。プリント基板上
のフラックス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、
金属、プラスチック、エラストマーなどからなる複合部
品が多い。
従って、この点からもR−113が有利である。
しかるに、最近、R−113が成層圏のオゾンを破壊し
、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑いが
あることから、その使用が規制されつつある。
、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑いが
あることから、その使用が規制されつつある。
課題を解決するための手段
本発明者は、上記従来技術の現状に鑑みて鋭意研究を重
ねた結果、特定のフッ素化塩素化脂肪族炭化水素が、1
)オゾンを破壊する恐れが極めて小さく、2)優れた洗
浄能力を有し、3)従来使用されていたR−113と同
様の適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的
に溶解し、金属、プラスチック、エラストマーなどから
なる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成し
た。
ねた結果、特定のフッ素化塩素化脂肪族炭化水素が、1
)オゾンを破壊する恐れが極めて小さく、2)優れた洗
浄能力を有し、3)従来使用されていたR−113と同
様の適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的
に溶解し、金属、プラスチック、エラストマーなどから
なる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成し
た。
すなわち本発明は、2−トリフルオロメチル−2,3−
ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプロパンを有効成
分とする洗浄剤組成物に係る。
ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプロパンを有効成
分とする洗浄剤組成物に係る。
本発明組成物は、有効成分として、2−トリフルオロメ
チル−2,3−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプ
ロパン(以下R−336とする)を含有している。R−
336が、フラックス、塵埃、切削油などの洗浄に用い
られた例はない。
チル−2,3−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロプ
ロパン(以下R−336とする)を含有している。R−
336が、フラックス、塵埃、切削油などの洗浄に用い
られた例はない。
本発明組成物には、フラックスの溶解力を向上させるた
めに、アルコール類、エステル類、ケトン類などの有機
溶剤から選ばれる少なくとも一種を併用しても良い。有
機溶剤の配合量は、特に制限されないが、通常洗浄剤組
成物全量の20重量%程度を越えない範囲、好ましくは
0.5〜15重量%程度、さらに好ましくは1〜10重
量%程度とすれば良い。R−336と有機溶剤との混合
物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使
用が好ましい。
めに、アルコール類、エステル類、ケトン類などの有機
溶剤から選ばれる少なくとも一種を併用しても良い。有
機溶剤の配合量は、特に制限されないが、通常洗浄剤組
成物全量の20重量%程度を越えない範囲、好ましくは
0.5〜15重量%程度、さらに好ましくは1〜10重
量%程度とすれば良い。R−336と有機溶剤との混合
物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使
用が好ましい。
アルコール類としては、特に制限されないが、炭素数1
〜5程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパツール、イソプロ
パツール、n−ブチルアルコール、5eC−ブチルアル
コール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアル
コール、ペンチルアルコール、5eC−アミルアルコー
ル、1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−
ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−ペン
チルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペ
ンチルアルコール、2−エチル−1−ブタノールなどを
挙げることができる。その中でも、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、n−プロパツールなどが特に
好ましい。
〜5程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例えば、
メタノール、エタノール、n−プロパツール、イソプロ
パツール、n−ブチルアルコール、5eC−ブチルアル
コール、イソブチルアルコール、tert−ブチルアル
コール、ペンチルアルコール、5eC−アミルアルコー
ル、1−エチル−1−プロパツール、2−メチル−1−
ブタノール、イソペンチルアルコール、tert−ペン
チルアルコール、3−メチル−2−ブタノール、ネオペ
ンチルアルコール、2−エチル−1−ブタノールなどを
挙げることができる。その中でも、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、n−プロパツールなどが特に
好ましい。
エステル類としては、特に制限されないが、炭素数1〜
5程度の脂肪酸と炭素数1〜6程度の低級アルコールの
エステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸
イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、
酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げるこ
とができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。
5程度の脂肪酸と炭素数1〜6程度の低級アルコールの
エステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸
イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、
酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げるこ
とができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。
ケトン類としては、特に制限されないが、一般式R−C
o−R’ (式中、RおよびR′は炭素数1〜4程度
の飽和炭化水素基を示す)で表わされるものが好ましく
、例えば、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノンなどを挙
げることができる。
o−R’ (式中、RおよびR′は炭素数1〜4程度
の飽和炭化水素基を示す)で表わされるものが好ましく
、例えば、アセトン、2−ブタノン、2−ペンタノン、
3−ペンタノン、4−メチル−2−ペンタノンなどを挙
げることができる。
その中でも、アセトン、2−ブタノン、4−メチル−2
−ペンタノンなどが特に好ましい。
−ペンタノンなどが特に好ましい。
さらに本発明組成物には、各種の目的に応じて、従来か
らこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれていて
も良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの各
種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない水
素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する恐
れが全くない水素含有フッ素化炭化水素類などを挙げる
ことができる。
らこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれていて
も良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの各
種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない水
素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する恐
れが全くない水素含有フッ素化炭化水素類などを挙げる
ことができる。
本発明組成物を用いてフラックス洗浄、脱脂洗浄、塵埃
除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法が採用で
きる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることができる。
除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法が採用で
きる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることができる。
発明の効果
本発明の洗浄組成物は、オゾンを破壊する恐れが極めて
小さく、しかも優れた洗浄能力を有している。また、従
来使用されていたR−113と同様の適度な溶解力を持
つので、各種の汚れ(フラックス、塵埃、油分など)の
みを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、エラス
トマーなどからなる複合部品を侵すことがない。
小さく、しかも優れた洗浄能力を有している。また、従
来使用されていたR−113と同様の適度な溶解力を持
つので、各種の汚れ(フラックス、塵埃、油分など)の
みを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、エラス
トマーなどからなる複合部品を侵すことがない。
実施例
以下に実施例を挙げ、本発明を一層明瞭にする。
実施例1
下記第1表に示す本発明の洗浄剤組成物思1〜9を用い
て、フラックスの洗浄試験を行なった。
て、フラックスの洗浄試験を行なった。
プリント基板(銅張り積層板)全面にフラックス(タム
ラF−AI−4、■タムラ製作所製)を塗布し、110
℃で20秒間予備加熱後、250℃で5秒間ハンダ付け
を行なった。ハンダ付は後のプリント基板を本発明の洗
浄剤組成物に浸漬し、超音波洗浄を1分間行なった。フ
ラックスの除去の度合を以下の基準で評価した。結果を
第1表に示す。
ラF−AI−4、■タムラ製作所製)を塗布し、110
℃で20秒間予備加熱後、250℃で5秒間ハンダ付け
を行なった。ハンダ付は後のプリント基板を本発明の洗
浄剤組成物に浸漬し、超音波洗浄を1分間行なった。フ
ラックスの除去の度合を以下の基準で評価した。結果を
第1表に示す。
◎・・・フラックスを良好に除去できる。
○・・・ごく僅かにフラックスが残存する。
×・・・かなリフラックスが残存する。
第
表
実施例2
実施例1で使用した洗浄剤組成物阻1〜9を用いて、切
削油の洗浄試験を行なった。
削油の洗浄試験を行なった。
各種洗浄剤組成物にスピンドル油3重量%を混合し、1
0秒間振盪後、スピンドル油の溶解性を以下の基準で評
価した。結果を第2表に示す。
0秒間振盪後、スピンドル油の溶解性を以下の基準で評
価した。結果を第2表に示す。
○・・・完全に溶解する。
Δ・・・白濁するが、−層である。
×・・・不均一な二層に分離する。
第
2
表
実施例3
実施例1で使用した洗浄剤組成物隘1〜9のプラスチッ
クに対する影響をみるために、第3表に示す各種プラス
チックを、50℃にて1時間各組成物に浸漬し、取り出
した直後にプラスチックの重量変化率(%)を測定し、
以下の基準で影響度を評価した。結果を第3表に示す。
クに対する影響をみるために、第3表に示す各種プラス
チックを、50℃にて1時間各組成物に浸漬し、取り出
した直後にプラスチックの重量変化率(%)を測定し、
以下の基準で影響度を評価した。結果を第3表に示す。
0・・・影響がほとんどみられない
(重量変化率0〜1%)
1・・・やや膨潤するが、実質的に問題ない。
(重量変化率1〜5%)
2・・・膨潤し、プラスチックが侵される。
(重量変化率5〜10%)
第1表乃至第3表から、本発明組成物が、フラックス除
去能力および脱脂能力に優れ、フラックス、塵埃、切削
油などの洗浄剤として有用であることが判る。また、各
種プラスチックを侵さないことも判る。
去能力および脱脂能力に優れ、フラックス、塵埃、切削
油などの洗浄剤として有用であることが判る。また、各
種プラスチックを侵さないことも判る。
(以 上)
Claims (2)
- (1)2−トリフルオロメチル−2,3−ジクロロ−1
,1,1−トリフルオロプロパンを有効成分とする洗浄
剤組成物。 - (2)アルコール類、エステル類およびケトン類から選
ばれる少なくとも1種の有機溶剤を含む請求項(1)の
組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31864589A JPH03179097A (ja) | 1989-12-07 | 1989-12-07 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31864589A JPH03179097A (ja) | 1989-12-07 | 1989-12-07 | 洗浄剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03179097A true JPH03179097A (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=18101448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31864589A Pending JPH03179097A (ja) | 1989-12-07 | 1989-12-07 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03179097A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
-
1989
- 1989-12-07 JP JP31864589A patent/JPH03179097A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8021490B2 (en) | 2007-01-04 | 2011-09-20 | Eastman Chemical Company | Substrate cleaning processes through the use of solvents and systems |
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