JPH04249598A - 洗浄用組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄力に優れかつ人体
及び生活環境に悪影響を殆ど及ぼすことのない洗浄用組
成物、特に電子部品洗浄組成物に関する。

【０００２】

【従来技術とその問題点】苛性ソーダ等のアルカリを含
む洗浄剤は優秀な洗浄力を有し、最も広範に多種類の物
品の洗浄に使用されている。しかし半導体等の電子部品
等の洗浄にアルカリを含む洗浄剤を使用すると洗浄面に
アルカリが残存し製品の性能に顕著な悪影響を及ぼすた
め前記洗浄剤を使用することは好ましくない。

【０００３】従って前記電子部品等の洗浄には、パーク
ロルエチレンやフロン等のハロゲン化炭化水素系の溶剤
が使用されている。しかし該溶剤は人体に対する悪影響
は勿論のこと、例えば大気中のオゾン層を破壊する等自
然環境に対して大きな被害をもたらしつつある。このた
めこのような溶剤の使用の制限は、全地球的規模での要
請ということができる。従って従来からハロゲン化炭素
系特にフッ化炭素系以外の洗浄剤の開発が検討されてい
るが、優れた洗浄力を有しかつ人体等への悪影響を有し
ない洗浄剤を見出すに至っていない。

【０００４】前記パークロルエチレン、フロンに代わる
溶剤としては、引火点が高い、洗浄力が十分である、安
全性が確認されている、洗浄面に残存しない等の条件が
必要であるが、従来開発された溶剤の中にこれらの条件
を満たすと評価されたものは存在しないのである。フロ
ン代替洗浄剤としてエタノール、炭化水素、リモーネン
及び界面活性剤水溶液系を使用する洗浄剤の開発が行わ
れているが、エタノール、炭化水素及びリモーネンは引
火性が高いため安全性に欠け、又臭いも強く、更に有機
性の汚れの洗浄除去には有効であるが無機性の汚れの除
去には不適当であるという問題点があり、更に通常の界
面活性剤は引火性や臭いはないが洗浄力が不足し特に有
機性の汚れの除去には不向きである。

【０００５】

【発明の目的】本発明は、洗浄用組成物特に電子材料の
洗浄に適した引火性が低く臭いも殆どなく更に人体や生
活環境に対する悪影響の殆どない洗浄用組成物を提供す
ることを目的とする。

【０００６】

【問題点を解決するための手段】本発明は、ベンジルア
ルコールのアルキレンオキシド付加体を含有する洗浄用
組成物である。

【０００７】以下本発明を詳細に説明する。本発明に係
わる洗浄用組成物はベンジルアルコールのアルキレンオ
キシド付加体を含有する。ベンジルアルコールは医薬品
、食品、化粧品等に使用されており、人体に対する安全
性は極めて高く、ハロゲン化炭化水素系の溶剤の場合の
ように環境衛生上の問題が生ずることがない。又ベンジ
ルアルコールの引火点は９５℃以上であり、他の有機溶
剤と比較するとかなり引火点が高く従って引火性が低く
なり取扱いが容易である。しかしながらベンジルアルコ
ールは水に約４％しか溶解しないため水系の洗浄剤に少
量しか使用できないという欠点がある。

【０００８】本発明では、このような特性及び欠点を有
するベンジルアルコールを、該ベンジルアルコールにア
ルキレンオキシドを付加させた付加体として使用する。 アルキレンオキシド付加体とすることにより該付加体の
親水性が増加し水系でかなり溶解し使用することができ
るようになる。この付加体の化学式は（化１）に示す通
りであり、式中ｍ及びｎは１、２又は３であることが望
ましく、ｍとｎと同一でも異なっていてもよい。ｎが１
であるとアルキレンオキシドはエチレンオキシドであり
、ｎが２であるとプロピレンオキシド、ｎが３であると
ブチレンオキシドであるが、炭素数が増加するほど溶剤
としての機能が低下するためエチレンオキシド又はプロ
ピレンオキシド、特にエチレンオキシドを使用すること
が望ましい。式中のｍは付加モル数であり、この付加モ
ル数が増加するほど引火性は低下するがその一方洗浄力
が低下するため、付加モル数は３モル以下特に１〜２モ
ルであることが好ましい。

【０００９】本発明の洗浄用組成物は前記付加体の他に
、界面活性剤、キレート剤、酸及びアルカリ等を含むこ
とができる。例えば界面活性剤としてはエーテルカルボ
ン酸アンモニウム型の界面活性剤を使用することができ
、この界面活性剤は従来のエーテルサルフェート型界面
活性剤と比較して遙に容易に洗浄面からの除去を行うこ
とができる。本発明の洗浄用組成物は従来のハロゲン化
炭化水素系の洗浄剤と同等あるいはそれ以上の良好な洗
浄力を有し、しかも安全性が高く、人体及び環境への悪
影響が殆どない。

【００１０】（実施例）以下に本発明に係わる洗浄用組
成物を各種洗浄に使用した際の実施例を記載するが、該
実施例は本発明を限定するものではない。

【００１１】実施例１ はんだ付けを行ったプリント基板を表１中ＰＯＥＨポリ
オキシエチレンの略である）に示す組成を有する各種洗
浄用組成物（洗浄剤１〜８）を使用して超音波洗浄し（
２５℃、１分）、純水洗浄し（６０℃、３分）、純水リ
ンスを行い（６０℃、３分）、乾燥し（１３０℃、１分
）た後、フラックス残渣量（μｇ・ＮａＣｌ／ｉｎ２）
　を日本アルファメタルズ社製のオメガメータ６００Ｓ
ＭＤを使用して測定した。その結果を表２に示す。

【００１２】実施例２ 工１ヒマシ油に鉄片を浸漬し２４時間放置後表１に示す
組成を有する各種洗浄用組成物（洗浄剤１〜８）を使用
して浸漬洗浄し（２５℃、１分）、純水洗浄し（６０℃
、１分）、乾燥し（１００℃、１分）た後、外観を目視
により観察して評価した。その結果を表２に示す（◎：
非常に良好、〇：良好、△：若干残存、×：かなり残存
）。

【００１３】実施例３ スライドガラスに指紋の汚れを付着させ、２４時間放置
後表１に示す組成を有する各種洗浄用組成物（洗浄剤１
〜８）を使用して浸漬洗浄し（２５℃、１分）、純水洗
浄し（６０℃、１分）、乾燥し（１００℃、１分）た後
、外観を目視により観察して評価した。その結果を第２
表に示す（◎：非常に良好、〇：良好、△：若干残存、
×：かなり残存）。

【００１４】 表２から判るように、ＰＯＥ（２）ベンジルエーテル〔
（化１）のｍ＝２、ｎ＝１に相当〕を含有する洗浄剤１
〜４では実施例１のフラックス残渣量がトリクロルエチ
レンと同等かあるいはかなり少なくかつ前記ＰＯＥ（２
）ベンジルエーテルを含有しない洗浄剤（５及び６）や
フロンより遙に少なくなっている。又実施例２の鉄片の
外観においても、前記ベンジルアルコール付加体を含有
する洗浄剤（１〜４）は該付加体を含有しない洗浄剤（
５及び６）より遙に良好な洗浄力を示し、フロンやトリ
クロルエチレンと同程度の洗浄力を有していることが判
る。更に実施例３のスライドガラスの汚れでは、洗浄剤
（１〜４）は他の洗浄剤（５〜８）より遙に良好な洗浄
力を示している。又洗浄剤２が良好な洗浄力を示すこと
からも明らかなように、前記付加体は非水系で使用する
こともできる。

【００１５】

【発明の効果】本発明に係わる洗浄用組成物は、ベンジ
ルアルコールのアルキレンオキシド付加体を含有してい
る（請求項１）。該洗浄用組成物は従来のフロンやトリ
クロルエチレン等のハロゲン化炭化水素系洗浄剤と同等
あるいはそれ以上の洗浄力を有し、しかもベンジルアル
コールの付加体でありベンジルアルコールの引火点（９
５℃）より高い引火点を有するため引火による危険が少
なく、更にベンジルアルコール系であるため人体に対す
る悪影響や環境に対する被害を考慮する必要もない。

【００１６】前記アルキレンオキシドは特に限定されな
いがエチレンオキシド又はプロピレンオキシドであるこ
とが望ましく（請求項２）、ブチレンオキシドより炭素
数の多いアルキレンオキシドを使用すると洗浄力の低下
が生ずることがある。

【００１７】アルキレンオキシドとしてエチレンオキシ
ドを使用する場合には該エチレンオキシドの平均付加モ
ル数は２モル以下であることが望ましく（請求項３）、
２モルを越えると洗浄力の低下が見られることがある。

【００１８】前記ベンジルアルコールのアルキレンオキ
シド付加体は洗浄剤全体に対する含有量が２０重量％以
上となるような割合で使用すると（請求項４）最良の洗
浄力を得ることができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　ベンジルアルコールのアルキレンオキ
   シド付加体を含有する洗浄用組成物。
2. 【請求項２】　　アルキレンオキシドがエチレンオキシ
   ド又はプロピレンオキシドである請求項１に記載の洗浄
   用組成物。
3. 【請求項３】　　エチレンオキシドの平均付加モル数が
   ２モル以下である請求項２に記載の洗浄用組成物。
4. 【請求項４】　　付加体の含有量が２０重量％以上であ
   る請求項１から３までのいずれかに記載の洗浄用組成物
   。