JPH04227695A - ２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテルおよびエタノールの新規共沸または共沸様混合物およびその使用方法 - Google Patents
２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテルおよびエタノールの新規共沸または共沸様混合物およびその使用方法Info
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- JPH04227695A JPH04227695A JP3094271A JP9427191A JPH04227695A JP H04227695 A JPH04227695 A JP H04227695A JP 3094271 A JP3094271 A JP 3094271A JP 9427191 A JP9427191 A JP 9427191A JP H04227695 A JPH04227695 A JP H04227695A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/032—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing oxygen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
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- C11D7/5063—Halogenated hydrocarbons containing heteroatoms, e.g. fluoro alcohols
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】本発明は、２，２，２−トリフルオロエチ
ル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル，
ＣＦ３ ＣＨ２ ＯＣＦ２ＣＦ２ Ｈ、およびエタノー
ルの新規共沸または共沸様混合物に関し、当該混合物は
電気および電子構成品を洗浄するために使用され得る。
ル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル，
ＣＦ３ ＣＨ２ ＯＣＦ２ＣＦ２ Ｈ、およびエタノー
ルの新規共沸または共沸様混合物に関し、当該混合物は
電気および電子構成品を洗浄するために使用され得る。
【０００２】電気および電子構成品で行われるはんだ付
け操作の後、過剰のソルダリング・フラックスは一般に
再度除去される。はんだ付回路板および別の電子構成品
の洗浄のため、例えば、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタン（Ｒ １１３）および、
メタノール、エタノールまたは２−プロパノールのよう
なアルコールの混合物が使用される（英国特許第１，０
２６，００３号、英国特許第１，３９９，８６７号）。 米国特許第３，９６０，７４６号は、Ｒ １１３、メ
タノールおよびニトロメタンの共沸様混合物を開示して
いる。しかしながら、クロロフルオロカーボンはオゾン
層を破壊するという疑いがあるので、塩素のない代用品
を開発する必要がある。
け操作の後、過剰のソルダリング・フラックスは一般に
再度除去される。はんだ付回路板および別の電子構成品
の洗浄のため、例えば、１，１，２−トリクロロ−１，
２，２−トリフルオロエタン（Ｒ １１３）および、
メタノール、エタノールまたは２−プロパノールのよう
なアルコールの混合物が使用される（英国特許第１，０
２６，００３号、英国特許第１，３９９，８６７号）。 米国特許第３，９６０，７４６号は、Ｒ １１３、メ
タノールおよびニトロメタンの共沸様混合物を開示して
いる。しかしながら、クロロフルオロカーボンはオゾン
層を破壊するという疑いがあるので、塩素のない代用品
を開発する必要がある。
【０００３】塩素のない代用品は、例えば、水性塩基ま
たは非ハロゲン化有機溶剤との溶剤混合物である。しか
しながら、水性洗浄剤の場合、適当な界面活性剤／錯化
剤の組合せを見出すことは困難である。この系はまたす
すぎ、ブラッシング、蒸気ジェット処理または超音波の
ような機械的処理に適合しなければならない。ＳＭＴ（
表面取付け技術：ｓｕｒｆａｃｅ ｍｏｕｎｔ ｔｅｃ
ｈｎｏｌｏｇｙ）の場合、水性洗浄系は、構成品下の水
の除去は困難であるため、しばしば除外される。ガソリ
ン、アルコール、テルペンまたはエーテルのような非ハ
ロゲン化有機溶剤が使用される場合、これらの物質の引
火性および爆発性のため、爆発を防ぐプラントの設計が
必要であり、その結果、経済上の理由のため、一定の場
合にのみ使用され得る。未だ公にされていないドイツ特
許出願Ｐ４，００２，１２０．３は、電気および電子構
成品の洗浄に適している、１，４−ジヒドロペルフルオ
ロブタンおよびメタノールの共沸様溶剤混合物を開示し
ている。
たは非ハロゲン化有機溶剤との溶剤混合物である。しか
しながら、水性洗浄剤の場合、適当な界面活性剤／錯化
剤の組合せを見出すことは困難である。この系はまたす
すぎ、ブラッシング、蒸気ジェット処理または超音波の
ような機械的処理に適合しなければならない。ＳＭＴ（
表面取付け技術：ｓｕｒｆａｃｅ ｍｏｕｎｔ ｔｅｃ
ｈｎｏｌｏｇｙ）の場合、水性洗浄系は、構成品下の水
の除去は困難であるため、しばしば除外される。ガソリ
ン、アルコール、テルペンまたはエーテルのような非ハ
ロゲン化有機溶剤が使用される場合、これらの物質の引
火性および爆発性のため、爆発を防ぐプラントの設計が
必要であり、その結果、経済上の理由のため、一定の場
合にのみ使用され得る。未だ公にされていないドイツ特
許出願Ｐ４，００２，１２０．３は、電気および電子構
成品の洗浄に適している、１，４−ジヒドロペルフルオ
ロブタンおよびメタノールの共沸様溶剤混合物を開示し
ている。
【０００４】驚くべきことに、本発明者は、２，２，２
−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオ
ロエチルエーテル，ＣＦ３ ＣＨ２ＯＣＦ２ ＣＦ２
Ｈが、エタノールと共に、電気および電子構成品、特に
はんだ付回路板またはプリント回路を洗浄するのに、特
にソルダリング・フラックスを除去するのに、著しく適
している共沸または共沸様溶剤混合物を形成することを
見出した。
−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオ
ロエチルエーテル，ＣＦ３ ＣＨ２ＯＣＦ２ ＣＦ２
Ｈが、エタノールと共に、電気および電子構成品、特に
はんだ付回路板またはプリント回路を洗浄するのに、特
にソルダリング・フラックスを除去するのに、著しく適
している共沸または共沸様溶剤混合物を形成することを
見出した。
【０００５】従って、本発明の一つの対象は、有効量の
２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テ
トラフルオロエチルエーテルおよびエタノールを実質的
に含む共沸または共沸様混合物である。
２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テ
トラフルオロエチルエーテルおよびエタノールを実質的
に含む共沸または共沸様混合物である。
【０００６】一般に、当該混合物は、９０〜９７質量％
の２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−
テトラフルオロエチルエーテルおよび約３〜１０質量％
のエタノールを含む。好ましくは、当該混合物は、約９
２〜９５質量％、特に９３．６〜９３．８質量％の２，
２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラ
フルオロエチルエーテルを含み、その際、残りは全ての
場合において実質的にエタノールである。
の２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−
テトラフルオロエチルエーテルおよび約３〜１０質量％
のエタノールを含む。好ましくは、当該混合物は、約９
２〜９５質量％、特に９３．６〜９３．８質量％の２，
２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラ
フルオロエチルエーテルを含み、その際、残りは全ての
場合において実質的にエタノールである。
【０００７】本発明のさらに別の対象は、電気または電
子構成品、特にはんだ付回路板またはプリント回路を洗
浄する方法であって、当該構成品を、約９０〜９７質量
％の２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２
−テトラフルオロエチルエーテルおよび約３〜１０質量
％のエタノールを実質的に含む共沸または共沸様混合物
で洗浄することを特徴とする方法である。好ましくは、
９２〜９５質量％、特に９３．６〜９３．８質量％の２
，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テト
ラフルオロエチルエーテルを含む混合物が使用され、そ
の際、残りは全ての場合において実質的にエタノールで
ある。
子構成品、特にはんだ付回路板またはプリント回路を洗
浄する方法であって、当該構成品を、約９０〜９７質量
％の２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２
−テトラフルオロエチルエーテルおよび約３〜１０質量
％のエタノールを実質的に含む共沸または共沸様混合物
で洗浄することを特徴とする方法である。好ましくは、
９２〜９５質量％、特に９３．６〜９３．８質量％の２
，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テト
ラフルオロエチルエーテルを含む混合物が使用され、そ
の際、残りは全ての場合において実質的にエタノールで
ある。
【０００８】特に好ましい溶剤混合物は、９３．７質量
％の２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２
−テトラフルオロエチルエーテルおよび６．３質量％の
エタノールを実質的に含みかつ１ｂａｒで５３．１℃の
沸点を有する。
％の２，２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２
−テトラフルオロエチルエーテルおよび６．３質量％の
エタノールを実質的に含みかつ１ｂａｒで５３．１℃の
沸点を有する。
【０００９】本発明による混合物において、蒸気の組成
は、液体の組成と同一であるかまたは実質的に同一であ
る、すなわち、混合物の組成は、蒸発の際に変化しない
かまたは実質的に変化しない。
は、液体の組成と同一であるかまたは実質的に同一であ
る、すなわち、混合物の組成は、蒸発の際に変化しない
かまたは実質的に変化しない。
【００１０】本発明による溶剤混合物は、当該混合物は
塩素を含まず、その結果、いかなるオゾン損傷をも引き
起こさないという利点を有する。さらに、当該混合物は
可燃性でなくかつ、電子構成品の洗浄のための標準の超
音波、浸漬またはブラッシングプラントにおいて使用さ
れ得る。さらに、本発明による混合物を用いて電子構成
品を洗浄する時間は、慣用の剤と比較して８０％までよ
り短い。さらに、電子構成品上のイオン残留物は、慣用
の混合物を用いた場合より良好に除去され得る。
塩素を含まず、その結果、いかなるオゾン損傷をも引き
起こさないという利点を有する。さらに、当該混合物は
可燃性でなくかつ、電子構成品の洗浄のための標準の超
音波、浸漬またはブラッシングプラントにおいて使用さ
れ得る。さらに、本発明による混合物を用いて電子構成
品を洗浄する時間は、慣用の剤と比較して８０％までよ
り短い。さらに、電子構成品上のイオン残留物は、慣用
の混合物を用いた場合より良好に除去され得る。
【００１１】２，２，２−トリフルオロエチル−１，１
，２，２−テトラフルオロエチルエーテル（ＣＡＳ
Ｎｏ．４０６／７８／０）は、ＣＦ３ ＣＨ２ ＯＨと
Ｆ２ Ｃ＝ＣＦ２ とを塩基（例えばＮａＯＨ）の存在
下に溶剤（例えばＮ−メチルピロリドン）中で反応する
ことにより製造され得る。
，２，２−テトラフルオロエチルエーテル（ＣＡＳ
Ｎｏ．４０６／７８／０）は、ＣＦ３ ＣＨ２ ＯＨと
Ｆ２ Ｃ＝ＣＦ２ とを塩基（例えばＮａＯＨ）の存在
下に溶剤（例えばＮ−メチルピロリドン）中で反応する
ことにより製造され得る。
【００１２】
【実施例】新規溶剤混合物の洗浄効果を、３つの選択さ
れたソルダリング・フラックスに関して、実施例で証明
する。
れたソルダリング・フラックスに関して、実施例で証明
する。
【００１３】実施例１：
回路板用のポリエステル基材を用いたガラス繊維強化基
礎材料に、市販のソルダリング・フラックス（Ｚｅｖａ
ｔｒｏｎ社より供給される”Ｚｅｖａ Ｃ２０−２０
０”，その主成分は、活性剤の他に、ロジン（ｃｏｌｏ
ｐｈｏｎｙ） である）を塗布しそして１８時間６０℃
で乾燥オーブン中で乾燥した。次いで、当該材料を２，
２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラ
フルオロエチルエーテル（９３．７質量％）およびエタ
ノール（６．３質量％）の混合物で超音波を用いて洗浄
した。 暴露時間は２０秒であった。この後、フラックスは、基
礎材料から完全に除去されていた。
礎材料に、市販のソルダリング・フラックス（Ｚｅｖａ
ｔｒｏｎ社より供給される”Ｚｅｖａ Ｃ２０−２０
０”，その主成分は、活性剤の他に、ロジン（ｃｏｌｏ
ｐｈｏｎｙ） である）を塗布しそして１８時間６０℃
で乾燥オーブン中で乾燥した。次いで、当該材料を２，
２，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラ
フルオロエチルエーテル（９３．７質量％）およびエタ
ノール（６．３質量％）の混合物で超音波を用いて洗浄
した。 暴露時間は２０秒であった。この後、フラックスは、基
礎材料から完全に除去されていた。
【００１４】実施例２：
実施例２は、実施例１と同一の方法で行われた。但し、
Ｚｅｖａｔｒｏｎ社により供給される”Ｚｅｖａ Ｃ
３０−３００”（主成分は、活性剤の他に、ロジンであ
る）をソルダリング・フラックスとして使用した。２０
秒の暴露時間の後、フラックスは完全に除去されていた
。
Ｚｅｖａｔｒｏｎ社により供給される”Ｚｅｖａ Ｃ
３０−３００”（主成分は、活性剤の他に、ロジンであ
る）をソルダリング・フラックスとして使用した。２０
秒の暴露時間の後、フラックスは完全に除去されていた
。
【００１５】実施例３：
実施例３は、実施例１と同一の方法で行われた。但し、
ＥＲＳＡ社により供給される”Ｆｌｕｘ １００”（
主成分は、活性材の他に、ロジンである）をソルダリン
グ・フラックスとして使用した。２０秒の暴露時間の後
、フラックスは完全に除去されていた。
ＥＲＳＡ社により供給される”Ｆｌｕｘ １００”（
主成分は、活性材の他に、ロジンである）をソルダリン
グ・フラックスとして使用した。２０秒の暴露時間の後
、フラックスは完全に除去されていた。
Claims (10)
- 【請求項１】 有効量の２，２，２−トリフルオロエ
チル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル
およびエタノールを実質的に含む、共沸または共沸様混
合物。 - 【請求項２】 約９０〜９７質量％の２，２，２−ト
リフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオロエ
チルエーテルおよび約３〜１０質量％のエタノールを実
質的に含む、請求項１記載の共沸または共沸様混合物。 - 【請求項３】 約９２〜９５質量％の２，２，２−ト
リフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオロエ
チルエーテルおよび約５〜８質量％のエタノールを実質
的に含む、請求項１記載の共沸または共沸様混合物。 - 【請求項４】 約９３．６〜９３．８質量％の２，２
，２−トリフルオロエチル−１，１，２，２−テトラフ
ルオロエチルエーテルおよび約６．２〜６．４質量％の
エタノールを実質的に含む、請求項１記載の共沸または
共沸様混合物。 - 【請求項５】 ９３．７質量％の２，２，２−トリフ
ルオロエチル−１，１，２，２−テトラフルオロエチル
エーテルおよび６．３質量％のエタノールを実質的に含
みかつ１ｂａｒで５３．１℃の沸点を有する、請求項４
記載の共沸または共沸様混合物。 - 【請求項６】 有効量の２，２，２−トリフルオロエ
チル−１，１，２，２−テトラフルオロエチルエーテル
およびエタノールを含む溶剤。 - 【請求項７】 電気または電子構成品、特にはんだ付
回路板またはプリント回路を洗浄する方法であって、当
該構成品を請求項１〜５のいずれか１項に記載の共沸ま
たは共沸様混合物を用いて洗浄することを特徴とする方
法。 - 【請求項８】 請求項１〜５のいずれか１項に記載の
共沸または共沸様混合物を用いて洗浄することからなる
ソルダリング・フラックスの除去方法。 - 【請求項９】 固体表面を請求項１〜５のいずれか１
項に記載の共沸または共沸様混合物を用いて洗浄するこ
とを特徴とする、固体表面の洗浄方法。 - 【請求項１０】 請求項１〜５のいずれか１項に記載
の共沸または共沸様混合物を溶剤として使用する方法。
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