JPH05202390A - フッ素含有エーテルを含む組成物及びそれらの組成物の使用 - Google Patents

フッ素含有エーテルを含む組成物及びそれらの組成物の使用

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JPH05202390A
JPH05202390A JP4206714A JP20671492A JPH05202390A JP H05202390 A JPH05202390 A JP H05202390A JP 4206714 A JP4206714 A JP 4206714A JP 20671492 A JP20671492 A JP 20671492A JP H05202390 A JPH05202390 A JP H05202390A
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isoflurane
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JP4206714A
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English (en)
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Pierre Barthelemy
バルテレミ ピエール
Mireille Paulus
ポール ミレール
Hans Buchwald
ブッフヴァルト ハンス
Joachim Hellmann
ヘルマン ヨアキム
Boleslaus Raszkowski
ラスズコウスキー ボーレスラウス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Solvay SA
Original Assignee
Solvay SA
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
    • C11D7/50—Solvents
    • C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
    • C11D7/504—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents all solvents being halogenated hydrocarbons
    • C11D7/5063—Halogenated hydrocarbons containing heteroatoms, e.g. fluoro alcohols

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  • Organic Chemistry (AREA)
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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Extraction Or Liquid Replacement (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 イソフルラン及び少なくとも１種のアルコー
ルまたは少なくとも１種のエステルを含有する共沸また
は疑似共沸組成物。 【効果】 表面を清浄するための溶媒として、または脱
脂剤として使用されるときに、とりわけ良好な性能を発
揮する。印刷回路板を清浄するために特に適した特性を
有する。現存の装置の改造を必要とすることなく溶媒に
よる清浄用の現在のデバイスにおいて使用することがで
きる。とりわけ低いODP とGWP を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルコールまたはエス
テルとの組み合わせでフッ素含有エーテルを含む共沸及
び疑似共沸組成物、及びそれらの組成物の使用、特に清
浄用溶媒としての使用に関する。
【０００２】
【従来技術】例えば、1,1,2-トリクロロ-1,2,2- トリフ
ルオロエタン(CFC-113) のような完全にハロゲン化した
クロロフルオロ化溶媒（CFC)は、様々な表面を脱脂及び
清浄するために、特に清浄するのが困難な複合部品に、
広く工業的に使用されている。その溶媒は多様な方法
で、主に低温でも高温でもどちらで使用してもよい。CF
C-113 はしばしば印刷回路板の清浄に、及び精密部品の
清浄または脱脂に、特に光学、機械または電子部品に使
用される。CFC-113 に基づく多様な組成物が従来また、
デリケートな部品の表面に吸着された水を除去するため
に乾燥剤として使用される。CFC-113 は純粋な形態で
も、あるいは他の化合物との混合物として、とりわけ製
品の溶解力を増加させるアルカン、アルコールまたはエ
ステルとの混合物としても、そのどちらでも使用され
る。共沸型の混合物の使用は、浴中のその組成物が時間
を経ても、または清浄法の多様な工程の間にも変化しな
いので、興味あるものである。CFC-113 を基礎とする多
数の組成物が、それらの多様な用途を意図して開発され
ている。例として次が挙げられる：特許BE-A-822,223は
CFC-113 ／エタノール／ニトロメタンの組成物を記載
し、特許US-A-3,539,462はCFC-113 、1,1-ジクロロエタ
ン及びメタノール、エタノール、イソプロパノール、te
rt- ブタノール、2,2-ジメチルブタンまたは2,3-ジメチ
ルブタンを基礎とする組成物に関連している。
【０００３】しかしながら、CFC-113 は他の完全にハロ
ゲン化したクロロフルオロアルカンのように、現在、成
層圈のオゾン層の破壊に関連する一方、大気の温暖化
（温室効果）に関連して、環境問題を起こすことがわか
ってきている。製品がオゾン層に及ぼす影響はCFC-11に
関連して、そのオゾン破壊ポテンシャル（ozone destru
ction potential 、ODP)によって、複合数理的モデルか
ら計測されている。温室効果への製品の影響は、またCF
C-11に関連して、その地球温暖化ポテンシャル(global
warming potential 、GWP)によって表現される。使用す
るそのモデルによって、CFC-113 のODP は0.8 〜0.9 で
変化し、及びそのGWP は1.3 〜1.4 で変化する。結果と
して、現在のところ、オゾン層に対して殆どまたは全く
悪影響のない新規の溶媒を見出す緊急の要求がある。
【０００４】このために、例えば1,1-ジクロロ-1- フル
オロエタン(HCFC-141b) または2,2-ジクロロ-1,1,1- ト
リフルオロエタン(HCFC-123)といった、ヒドロクロロフ
ルオロカーボン(HCFC)またはヒドロフルオロアルカン(H
FA) という総称的用語によって知られている、ある種の
完全ではなくハロゲン化されたクロロフルオロカーボン
を基礎とする幾つかの共沸組成物が、特にメタノールま
たはエタノールとの混合物として、提案されている(EP-
A-325265;EP-A-389133;WO89/10984;WO89/12118) 。これ
らの化合物はCFC-113 よりもずっと低いODP とGWP を有
する。HCFC-141b は0.10のオーダーのODP 及び0.1 より
も低いGWP を有する。HCFC-123は0.02のオーダーのODP
及び0.1 よりも低いGWP を有する。しかしながら、これ
らの化合物を含む多様な共沸または疑似共沸組成物の沸
点は、現存の装置の改造を必要とすることなく、溶媒に
よる清浄用の現在のデバイスにおけるそれらの使用を可
能にするには、少し低すぎる。さらに、特許BE-764,791
には、主に麻酔として使用されるイソフルラン(1- クロ
ロ-2,2,2- トリフルオロエチルジフルオロメチルエーテ
ル )がまた、溶媒として、または脱脂剤として使用され
てもよいことが記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的の１つ
は、溶媒として、さらに詳しくは表面を清浄するための
溶媒として、または脱脂剤として使用されるときに、と
りわけ良好な性能を有する新規の共沸または疑似共沸組
成物を提供することである。本発明はまた、印刷回路板
を清浄するために特に適した特性を有するそのような組
成物に関している。本発明のさらなる目的は、現存の装
置の改造を必要とすることなく溶媒による清浄用の現在
のデバイスにおけるその使用を可能とするために、CFC-
113 を基礎とする組成物の沸点に十分に近い沸点を有す
る組成物を提供することである。本発明のさらなる目的
は、とりわけ低いODP とGWP を有し、従って完全にハロ
ゲン化されたクロロフルオロアルカンを基礎とする溶媒
に代わって使用されうる、そのような組成物を提供する
ことである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明はイソフルラン及
び少なくとも１種のアルコールまたは少なくとも１種の
エステルを含有する共沸または疑似共沸組成物に関す
る。大気圧でのイソフルランの沸点は約49.5℃である。
イソフルランは、環境へのその影響に関して特に興味深
い。実際、それは約0.01の非常に低いODP 及び約0.03の
GWP を有する。好ましくは、アルコールは、特にメタノ
ール、エタノール、プロパノールまたはイソプロパノー
ルのような低級アルコールである。イソフルラン／メタ
ノール及びイソフルラン／エタノール共沸または疑似共
沸組成物が好ましい。イソフルラン／メタノール共沸ま
たは疑似共沸組成物は特に好ましい。好ましくは、エス
テルは、とりわけメチルアセテート、エチルアセテー
ト、メチルホルメート、エチルホルメートまたはエチル
プロピオネートのような２〜６個の炭素原子を含むエス
テルである。イソフルラン／メチルアセテート、イソフ
ルラン／メチルホルメート及びイソフルラン／エチルホ
ルメート共沸または疑似共沸組成物が好ましい。
【０００７】共沸または疑似共沸組成物は、実質的に一
定の沸点を有し純物質としてふるまう、すなわち、蒸発
または蒸留によって生ずるその蒸気の組成がその液体混
合物の組成と本質的に同一である、２またはそれ以上の
物質のいずれかの混合物であると理解される。実用にお
いて、極小または極大のどちらかの実質的に一定の沸点
を有するこれらの共沸または疑似共沸組成物は、よって
単純な蒸留によっては分離されず、従ってそれらの組成
は、溶媒での清浄操作中も蒸留による古溶媒の回収操作
中も、一定を保持する。根本的に、液体の熱力学的状態
は４種の独立した変数によって規定される：圧力
（Ｐ）、温度（Ｔ）、液相の組成（Ｘ）及び気相の組成
（Ｙ）である。共沸混合物または疑似共沸混合物は、所
定の温度及び所定の圧力においてＸが実質的にＹに等し
い、２またはそれ以上の成分を含有する特定の系であ
る。本発明の組成物は大気圧において観察されるそれら
の組成によって特徴付けられる。このことが本発明の組
成物をこれらの特定の組成物に限定しないことは、自明
である。実際、２またはそれ以上の成分を含有する共沸
混合物の組成及び沸点は使用される圧力条件に依存して
変化することは公知である。
【０００８】約70〜99.9重量％のイソフルラン及び約30
〜0.1 重量％のメタノールからなる２成分混合物は、本
発明の共沸混合物または疑似共沸混合物を形成する。約
85〜99.7重量％のイソフルラン及び約15〜0.3 重量％の
メタノールからなる２成分混合物によって形成される共
沸混合物または疑似共沸混合物が好ましい。約92〜98重
量％のイソフルラン及び約８〜２重量％のメタノールか
らなる２成分混合物によって形成される共沸混合物また
は疑似共沸混合物が特に好ましい。大気圧で、約95.8重
量％のイソフルラン及び約4.2 重量％のメタノールから
なる２成分混合物は適正な共沸混合物であり、その沸点
は約47℃である。この組成はとりわけ非常に好ましい。
約85〜99.99 重量％のイソフルラン及び約15〜0.01重量
％のエタノールからなる２成分混合物もまた、本発明の
共沸混合物または疑似共沸混合物を形成する。約90〜9
9.9重量％のイソフルラン及び約10〜0.1 重量％のエタ
ノールからなる２成分混合物によって形成される共沸混
合物または疑似共沸混合物が好ましい。約95〜99.8重量
％のイソフルラン及び約５〜0.2 重量％のエタノールか
らなる２成分混合物によって形成される共沸混合物また
は疑似共沸混合物が特に好ましい。大気圧で、約99.3重
量％のイソフルラン及び約0.7 重量％のエタノールから
なる２成分混合物は適正な共沸混合物であり、その沸点
は約49.4℃である。この組成はとりわけ非常に好まし
い。
【０００９】約25〜85重量％のイソフルラン及び約75〜
15重量％のメチルアセテートからなる２成分混合物がま
た、本発明の共沸混合物または疑似共沸混合物を形成す
る。約50〜75重量％のイソフルラン及び約50〜25重量％
のメチルアセテートからなる２成分混合物によって形成
される共沸混合物または疑似共沸混合物が好ましい。約
56〜72重量％のイソフルラン及び約44〜28重量％のメチ
ルアセテートからなる２成分混合物によって形成される
共沸混合物または疑似共沸混合物が特に好ましい。大気
圧で、約64.7重量％のイソフルラン及び約35.3重量％の
メチルアセテートからなる２成分混合物は適正な共沸混
合物であり、その沸点は約64℃である。この組成はとり
わけ非常に好ましい。約70〜99.9重量％のイソフルラン
及び約30〜0.1 重量％のメチルホルメートからなる２成
分混合物がまた、本発明の共沸混合物または疑似共沸混
合物を形成する。約85〜99.8重量％のイソフルラン及び
約15〜0.2 重量％のメチルホルメートからなる２成分混
合物によって形成される共沸混合物または疑似共沸混合
物が好ましい。約90〜99.5重量％のイソフルラン及び約
10〜0.5 重量％のメチルホルメートからなる２成分混合
物によって形成される共沸混合物または疑似共沸混合物
が特に好ましい。大気圧で、約94.3重量％のイソフルラ
ン及び約5.7 重量％のメチルホルメートからなる２成分
混合物は適正な共沸混合物であり、その沸点は約50.0℃
である。この組成はとりわけ非常に好ましい。
【００１０】約30〜90重量％のイソフルラン及び約70〜
10重量％のエチルホルメートからなる２成分混合物がま
た、本発明の共沸混合物または疑似共沸混合物を形成す
る。約40〜80重量％のイソフルラン及び約60〜20重量％
のエチルホルメートからなる２成分混合物によって形成
される共沸混合物または疑似共沸混合物が好ましい。約
55〜75重量％のイソフルラン及び約45〜25重量％のエチ
ルホルメートからなる２成分混合物によって形成される
共沸混合物または疑似共沸混合物が特に好ましい。大気
圧で、約65.9重量％のイソフルラン及び約34.1重量％の
エチルホルメートからなる２成分混合物は適正な共沸混
合物であり、その沸点は約59.7℃である。この組成はと
りわけ非常に好ましい。本発明の組成物に少量の他の添
加物がまた添加されてもよい。使用中のその機能の改善
を可能とする安定剤、界面活性剤またはいずれかの添加
物が、前記組成物に添加されることが可能である。これ
ら他の任意の添加物は、共沸または疑似共沸混合物の約
0.001 〜５重量％の量で添加される。
【００１１】本発明の組成物は多数の用途を有する。そ
れらの共沸または疑似共沸性の理由で、本発明の組成物
は、蒸発または蒸留によって起こるそれらの組成物の構
成成分への分離がなく、溶媒によるいかなる清浄方法に
使用されてもよい。それらの組成物は処理される多様な
型の表面に対し、それらが金属、プラスチックまたはガ
ラス表面であっても、非常に良好な適合性を有する。本
発明の組成物は、その溶媒中への清浄される部品の単純
な浸漬によるか、または溶媒中に浸した布、スポンジま
たは他のいずれかの物品で部品を洗浄することによる、
低温清浄の任意の操作に適している。本発明の組成物に
おける用途の特に価値ある別の分野は、表面の蒸気清浄
である。その最も単純な形態では、蒸気脱脂は、清浄さ
れるべき物品を沸騰した溶媒の蒸気に室温でさらすこと
にある。その物品上で凝縮することによって、蒸留され
た溶媒の蒸気は油脂及び他のいずれの不純物をも除去す
る。
【００１２】除去すること、及び溶媒の清浄力を改良す
るためにより高い温度での処理を要求することが難しい
不純物にとって、または金属部品または組み立て部品の
清浄が効率的にかつ高速で実施されなければならない大
規模な清浄設備にとって、蒸気脱脂操作は従来、まず沸
点での液状溶媒への清浄されるべき部品の浸漬、これは
超音波処理と組み合わせてもよく、その操作は不純物の
大部分を除去し；次いで周囲温度に近い温度での部品の
新たに蒸留した溶媒中への浸漬；及び最後に、部品の溶
媒蒸気への最終的な暴露であって、前記部品上での凝縮
によって最終の清浄を達成することからなる。この後者
の工程は、その部品に液状溶媒を噴霧することが先に実
施されてもよい。本発明の組成物は、それらの共沸また
は疑似共沸性によって、特にこれらの清浄法に特に適し
ている。
【００１３】本発明の組成物はまた、印刷回路板の清浄
方法において特に有効であり、その方法は、前記板の表
面から電子部品のはんだ付け工程において使用される酸
洗いフラックス及びその残留物を除去することを意図す
る。電子部品の清浄は、特に印刷回路板からのフラック
スの除去は、工業的観点からとりわけ重要で、かつ、電
子部品の増加しつつある密度とともにますます複雑にな
る印刷回路板への現在の傾向によって実施することがだ
んだんと困難になる清浄操作である。従来、該板上への
電子部品のはんだ付けの方法は、酸洗いフラックスでの
該板のコーティングを使用し、続いてそのようにカバー
された板を溶融はんだ中へ通過させる。フラックスはそ
の導電性金属部品を清浄し、はんだの接着を促進させ
る。慣用のはんだ付けフラックスはロジンからなり、そ
れ単独で、あるいは特定の活性化剤と共に使用される。
はんだ付けは高温で実施され、フラックスの少なくとも
部分的な崩壊を起こす。そのフラックス及び残留物は、
たとえ該フラックスが高度に活性化されていても、本発
明の組成物によって特に効率のよい、且つ選択的な方法
で印刷回路板の表面から除去される。その共沸または疑
似共沸組成物は実際、その板支持体が作られている材料
または該板上に配置されている電子部品を損なうことな
く、該フラックス及び残留物に対して高度な溶解力を有
している。さらに、本発明の組成物はとりわけ、この用
途に特に適した粘度と表面張力特性を有している。
【００１４】本発明の組成物はまた、CFC-113 を基礎と
する組成物の代わりとして、他のいかなる方法に使用さ
れてもよい。それらは特に乾燥剤として適していて、す
なわち、例えば、印刷回路、シリコンチップ、光学ガラ
ス、計時器の除去可能な部品及びその他のいずれかの精
密部品のような、完全に清浄な表面を有しなけらばなら
ない固形物品の表面に吸着した水分を除去するために適
している。次の非限定的な実施例は本発明をさらに詳細
に説明する。
【００１５】
【実施例１】還流冷却器を上に装着した沸騰フラスコか
らなるガラス装置を使用してイソフルラン及びメタノー
ル間の共沸または疑似共沸組成物の存在を示した。その
液体の温度をフラスコ中に浸した温度計を使って測定し
た。25mlの純粋なイソフルランを大気圧で沸騰するまで
加熱し、少量のメタノールを隔壁に付けたサイドチュー
ブを介して、メスシリンダーを使用してそのフラスコ中
へ徐々に導入した。その組成の関数として該混合物の沸
点の変化を記録することによって、共沸組成物を決定し
た。極小または極大沸点が観察された組成物が、大気圧
での共沸組成物である。その混合物の沸点への大気圧の
影響は次の方程式を使って補正される。 tc= tr+0.00012(760-P)(273+tr) （上記式中、trは記録された温度（℃）、tcは補正され
た温度（℃）及びＰは測定時の大気圧（mmHg) であ
る。）表１はイソフルランとメタノールの様々な組成物
で得られる補正された沸点をまとめている。沸点が極小
である組成物の最も良い推定値は、約95.8重量％のイソ
フルランである。約92〜98重量％のイソフルランを含む
組成物の沸点は47.2℃±0.2 ℃である。
【００１６】
【実施例２】この実施例はイソフルランとエタノールを
基礎とする共沸混合物を説明し、実施例１で使用された
のと同一の操作で示された。表２はイソフルランとエタ
ノールの様々な組成物で得られる補正された沸点をまと
めている。沸点が極大である組成物の最も良い推定値
は、約99.3重量％のイソフルランである。約96.5〜100
重量％のイソフルランを含む組成物の沸点は49.6℃±0.
2 ℃である。
【実施例３】この実施例はイソフルランとメチルアセテ
ートを基礎とする共沸混合物を説明し、実施例１で使用
されたのと同一の操作で示された。表３はイソフルラン
とメチルアセテートの様々な組成物で得られる補正され
た沸点をまとめている。沸点が極大である組成物の最も
良い推定値は、約64.7重量％のイソフルランである。約
57〜71重量％のイソフルランを含む組成物の沸点は63.8
℃±0.2 ℃である。
【００１７】
【実施例４】この実施例はイソフルランとメチルホルメ
ートを基礎とする共沸混合物を説明し、実施例１で使用
されたのと同一の操作で示された。表４はイソフルラン
とメチルホルメートの様々な組成物で得られる補正され
た沸点をまとめている。沸点が極大である組成物の最も
良い推定値は、約94.3重量％のイソフルランである。約
90〜98重量％のイソフルランを含む組成物の沸点は49.9
℃±0.2 ℃である。
【実施例５】この実施例はイソフルランとエチルホルメ
ートを基礎とする共沸混合物を説明し、実施例１で使用
されたのと同一の操作で示された。表５はイソフルラン
とエチルホルメートの様々な組成物で得られる補正され
た沸点をまとめている。沸点が極大である組成物の最も
良い推定値は、約65.9重量％のイソフルランである。約
56〜73重量％のイソフルランを含む組成物の沸点は59.5
℃±0.2 ℃である。
【００１８】
【実施例６及び比較例１〜３】 印刷回路からのフラッ
クスの除去 DIN 8511の分類によるFSW 26型及びMIL-F-14256 の規定
によるRMA 型のロジンを含有するはんだ付けフラックス
の残留物を有する印刷回路板を、３チェンバー清浄ユニ
ット（3-chamber cleaning unit)をまねた実験室装置に
おいて、多様なフラックス除去組成物で処理した。各板
を最初に超音波下で３分間80mlの熱い溶媒混合物に浸漬
し、その後周囲温度の同じ組成物の浴へ移し、そこでさ
らに３分間保持し、その後、最終的に沸騰させた該清浄
用組成物の蒸気中に１分間保持した。そのフラックス除
去組成物の効力を、光学顕微鏡を使用して倍率30×で板
の様子を判断することによって、他方、イオン残留物を
測定することによって評価した。その残留イオン不純物
の測定は、板をイソプロパノール／水(75/25容量％）の
浴中で洗浄することによってこれらの残留不純物を抽出
し、その後、浴の電気的導電率を測定することによって
実施した。そのイオン残留物の含有量は、印刷回路板の
表面積１cm2 当たりのμg NaCl当量（μg 当量／cm2 ）
で表される。本発明の疑似共沸組成物で得られた結果、
及び比較例として他の共沸組成物から得られた結果を表
６にまとめてある。
【００１９】
【実施例７】 固形表面の乾燥 光学ガラス、シリコンチップ、アルミニウム部品及びポ
リエチレン部品を、95.6重量％のイソフルラン／4.4 重
量％のメタノールの組成物を使用して、４連続工程（ス
プレー／浸漬／スプレー／蒸気処理）を含む乾燥装置で
処理した。処理後に得られた多様な表面は完全に乾燥
し、かつ吸着した水の痕跡も全くなかった。蒸発後、表
面上には乾燥用組成物の残留物はなかった。
【００２０】
【表１】 メタノール イソフルラン ％ 温度 添加 ml 容量 重量 モル (℃) ───────── ────────────── ─── 0 100.00 100.00 100.00 49.5 0.2 99.21 99.58 97.63 48.6 0.4 98.43 99.17 95.40 48.2 0.6 97.66 98.76 93.26 48.0 0.8 96.90 98.35 91.19 47.5 1 96.15 97.94 89.20 47.4 1.2 95.42 97.54 87.32 47.4 1.4 94.70 97.14 85.50 47.3 1.6 93.98 96.74 83.75 47.2 1.8 93.28 96.35 82.09 47.0 2 92.59 95.96 80.49 47.1 2.2 91.91 95.58 78.97 47.0 2.4 91.24 95.19 77.46 47.0 2.6 90.58 94.82 76.07 47.0 2.8 89.93 94.44 74.68 47.1 3 89.29 94.07 73.37 47.1 4 86.21 92.24 67.37 47.4 4.5 84.75 91.36 64.74 47.6 5 83.33 90.48 62.27 47.7 6 80.65 88.80 57.93 47.9 7 78.13 87.17 54.13 48.2 8 75.76 85.60 50.79 48.5 9 73.53 84.08 47.84 48.8 10 71.43 82.62 45.22 49.1 12 67.57 79.85 40.76 49.7 15 62.50 76.02 35.51 50.6 17.5 58.82 73.09 32.05 51.1 20 55.56 70.39 29.22 51.9 25 50.00 65.54 24.83 53.0
【００２１】
【表２】 エタノール イソフルラン ％ 温度 添加 ml 容量 重量 モル (℃) ───────── ────────────── ─── 0 100.00 100.00 100.00 49.5 0.3 98.9 99.4 97.5 49.4 0.6 97.6 98.7 95 49.4 1.0 96.3 98.0 92.5 49.5 1.3 95.0 97.3 90 49.7 1.7 93.7 96.6 87.5 49.8 2.1 92.3 95.8 85 50.0 2.5 90.9 95.0 82.5 50.2 3.0 89.3 94.1 80 50.4 3.4 88.0 93.3 77.5 50.6 4.0 86.3 92.3 75 50.9 4.5 84.8 91.4 72.5 51.2 5.1 83.0 90.3 70 51.5 6.4 79.7 88.2 65 52.2 7.9 75.9 85.7 60 53.1 11.9 67.7 80.0 50 55.4 17.8 58.4 72.8 40 58.5
【００２２】
【表３】 メチルアセテート イソフルラン ％ 温度 ml 容量 重量 モル (℃) ───────── ────────────── ─── 0 100.00 100.00 100.00 49.5 2 92.59 95.28 89.02 52.9 4 86.21 91.00 80.24 55.7 6 80.65 87.08 73.02 58.2 8 75.76 83.48 66.99 59.9 10 71.43 80.17 61.88 61.2 11 69.44 78.60 59.59 61.8 12 67.57 77.11 57.49 62.4 13 65.79 75.66 55.52 62.8 14 64.10 74.27 53.68 63.1 15 62.50 72.93 51.96 63.3 16 60.98 71.64 50.35 63.5 17 59.52 70.39 48.84 63.7 18 58.14 69.19 47.42 63.8 19 56.82 68.02 46.06 63.9 20 55.56 66.90 44.80 64.0 21 54.35 65.81 43.59 64.0 22 53.19 64.75 42.45 64.0 23 52.08 63.73 41.37 64.0 24 51.02 62.74 40.34 64.0 25 50.00 61.78 39.36 63.9 26 49.02 60.85 38.43 63.9 27 48.08 59.95 37.54 63.8 28 47.17 59.07 36.69 63.7 30 45.45 57.39 35.10 63.6 32 43.86 55.81 33.65 63.4 35 41.67 53.59 31.68 63.3 38 39.68 51.54 29.92 63.2 42 37.31 49.03 27.86 62.9 46 35.21 46.77 26.08 62.6 50 33.33 44.70 24.50 62.4 55 31.25 42.36 22.78 61.9 60 29.41 40.25 21.29 61.7 65 27.78 38.34 19.98 61.4
【００２３】
【表４】 メチルホルメート イソフルラン ％ 温度 ml 容量 重量 モル (℃) ───────── ────────────── ─── 0 100.00 100.00 100.00 49.5 0.5 98.04 98.73 96.20 49.6 1 96.15 97.48 92.64 49.8 1.5 94.34 96.27 89.36 49.9 2 92.59 95.09 86.31 50.1 2.5 90.91 93.94 83.46 50.0 3 89.29 92.82 80.80 50.0 3.5 87.72 91.72 78.29 50.1 4 86.21 90.64 75.91 49.7 4.5 84.75 89.60 73.71 49.6 5 83.33 88.57 71.61 49.5 5.5 81.97 87.57 69.63 49.3 6 80.65 86.60 67.78 48.9 6.5 79.37 85.64 66.00 48.8 7 78.13 84.70 64.31 48.6 8 75.76 82.89 61.19 48.3 9 73.53 81.15 58.35 47.8 10 71.43 79.49 55.78 47.3 11 69.44 77.88 53.40 46.9 12 67.57 76.36 51.25 46.4 13 65.79 74.88 49.24 45.9 15 62.50 72.09 45.67 44.9 17 59.52 69.50 42.58 44.2 19 56.82 67.10 39.90 43.5 21 54.35 64.85 37.52 42.8
【００２４】
【表５】 エチルホルメート イソフルラン ％ 温度 ml 容量 重量 モル (℃) ───────── ────────────── ─── 0 100.00 100.00 100.00 49.5 2 92.59 95.33 89.13 52.3 5 83.33 89.09 76.63 55.2 7 78.13 85.38 70.10 56.7 8 75.76 83.63 67.23 57.2 9 73.53 81.95 64.58 57.9 10 71.43 80.34 62.13 58.2 11 69.44 78.78 59.85 58.7 12 67.57 77.30 57.76 58.9 13 65.79 75.86 55.79 59.1 14 64.10 74.48 53.96 59.2 15 62.50 73.14 52.23 59.5 16 60.98 71.86 50.63 59.6 17 59.52 70.61 49.10 59.7 18 58.14 69.42 47.68 59.7 19 56.82 68.26 46.34 59.7 20 55.56 67.14 45.07 59.7 21 54.35 66.05 43.86 59.7 22 53.19 65.00 42.72 59.7 23 52.08 63.98 41.63 59.7 24 51.02 62.99 40.60 59.7 25 50.00 62.04 39.62 59.7 26 49.02 61.11 38.69 59.6 27 48.08 60.21 37.79 59.6 28 47.17 59.33 36.94 59.5 30 45.45 57.65 35.34 59.4 32 43.86 56.08 33.89 59.3 50 33.33 44.96 24.70 58.3 65 27.78 38.60 20.15 57.6
【００２５】
【表６】 フラックス除去組成物 顕微鏡下での イオン残留物含有量 （重量％） 様子 （NaClμg 当量/cm2) ────────── ────── ────────── 実施例６ 93.5イソフルラン 良好 0.2 ／6.5 メタノール 比較例１ 93.5 CFC-113 良好 0.6 ／6.5 メタノール 比較例２ 96.7 HCFC-141b 良好 0.4 ／3.3 メタノール 比較例３ 98.2 HCFC-123 良好 0.7 ／1.8 メタノール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 //(Ｃ１１Ｄ 7/60 7:26 7:30） (72)発明者 ハンス ブッフヴァルト ドイツ連邦共和国 デー3003 ロンネンベ ルクアム ローデルベルク 51アー (72)発明者 ヨアキム ヘルマン ドイツ連邦共和国 デー3000 ハンノヴェ ール61 ドーマイエルス ヴェーク 25 (72)発明者 ボーレスラウス ラスズコウスキー ドイツ連邦共和国 デー3061 ヴィーデン ザール イン デル ヘスプ 246ー

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 イソフルラン及び少なくとも１種のアル
    コールまたは少なくとも１種のエステルを含有する共沸
    または疑似共沸組成物。
  2. 【請求項２】 該アルコールがメタノール及びエタノー
    ルから選ばれることを特徴とする、請求項１記載の共沸
    または疑似共沸組成物。
  3. 【請求項３】 該エステルがメチルアセテート、メチル
    ホルメート及びエチルホルメートから選ばれることを特
    徴とする、請求項１記載の共沸または疑似共沸組成物。
  4. 【請求項４】 約70〜99.9重量％のイソフルラン及び約
    30〜0.1 重量％のメタノールの含有量を特徴とする、請
    求項１記載の共沸または疑似共沸組成物。
  5. 【請求項５】 約85〜99.9重量％のイソフルラン及び約
    15〜0.1 重量％のエタノールの含有量を特徴とする、請
    求項１記載の共沸または疑似共沸組成物。
  6. 【請求項６】 約25〜85重量％のイソフルラン及び約75
    〜15重量％のメチルアセテートの含有量を特徴とする、
    請求項１記載の共沸または疑似共沸組成物。
  7. 【請求項７】 約70〜99重量％のイソフルラン及び約30
    〜0.1 重量％のメチルホルメートの組成を特徴とする、
    請求項１記載の共沸または疑似共沸組成物。
  8. 【請求項８】 約30〜90重量％のイソフルラン及び約70
    〜10重量％のエチルホルメートの組成を特徴とする、請
    求項１記載の共沸または疑似共沸組成物。
  9. 【請求項９】 固形表面を清浄するための溶媒としての
    請求項１〜８のいずれか１項に記載の組成物の使用。
  10. 【請求項１０】 酸洗いフラックス及びその残留物で汚
    染された印刷回路板を清浄するための溶媒としての請求
    項１〜８のいずれか１項に記載の組成物の使用。
  11. 【請求項１１】 固形物品の表面に吸着した水の除去の
    ための乾燥剤としての、請求項１〜８のいずれか１項に
    記載の組成物の使用。
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