JPWO2004005445A1

JPWO2004005445A1 - 溶剤組成物

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Publication number: JPWO2004005445A1
Application number: JP2004519261A
Authority: JP
Inventors: 花田　毅; 毅花田; 津崎　真彰; 真彰津崎
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2002-07-03
Filing date: 2003-07-03
Publication date: 2005-11-04
Anticipated expiration: 2023-07-03
Also published as: CA2491467C; US7163645B2; WO2004005445A1; KR20050016659A; TWI330663B; TW200402411A; KR101002202B1; CN1665917A; US20050109988A1; JP4556669B2; CA2491467A1; AU2003281307A1; CN1288231C

Abstract

１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコールの合計量に対して１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルが２５．０〜７５．０％（質量基準である。以下、同じ）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが１５．０〜７４．９％、炭素数１〜３のアルコールが０．１〜１０．０％である溶剤組成物。本発明の溶剤組成物はフラックス等の汚れを高い洗浄力で除去できる。

Description

本発明は、ＩＣ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に付着する油脂類、プリント基板等のフラックス、塵埃などの汚れを除去するために用いられる溶剤組成物に関する。

従来、精密機械工業、光学機器工業、電気電子工業、及びプラスチック加工業等において、製造加工工程等で付着した油、フラックス、塵埃、ワックス等を除去するための精密洗浄には、不燃性で化学的及び熱的安定性に優れ、油脂類の溶解力のあるフッ素系溶剤としてジクロロペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ−２２５と記す。）等のハイドロクロロフルオロカーボン（以下、ＨＣＦＣと記す。）が広く使われていた。
しかし、ＨＣＦＣはオゾン破壊係数があるため、先進国においては２０２０年に生産が全廃されるという問題があった。これに対し、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（ＣＨＦ_２ＣＦ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_３）はオゾン破壊係数がなく、地球環境への影響が小さいフッ素系溶剤であるが、油脂類の溶解力が低い問題があった。一方、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンは、油脂類の溶解力は高いが、引火点が４℃と低い問題があった。
また、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンの共沸混合物が知られている（特開平１０−３２４６５２号公報の請求項３参照。）。しかし、上記混合物は不燃性で洗浄力が高いが、フラックス洗浄等においては、イオン性の汚れの除去が不十分である、白色残渣が発生する場合がある等の問題があった。

本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）と炭素数１〜３のアルコール（ＲＯＨ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＲＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が２５．０〜７５．０％（質量基準である。以下、含有量は断りのない限り、質量基準である。）、（ｔＤＣＥ）の含有量が１５．０〜７４．９％、（ＲＯＨ）の含有量が０．１〜１０．０％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ａという。）を提供する。
本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とメタノール（ＭｅＯＨ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＭｅＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が３５．０〜５５．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が３９．０〜６１．０％、（ＭｅＯＨ）の含有量が４．０〜６．０％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ｂという。）を提供する。
本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とエタノール（ＥｔＯＨ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＥｔＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が３９．０〜５９．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が３７．５〜５９．５％、（ＥｔＯＨ）の含有量が１．５〜３．５％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ｃという。）を提供する。
本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）と２−プロパノール（ＩＰＡ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＩＰＡ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４０．０〜６０．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が３９．０〜５９．９％、（ＩＰＡ）の含有量が０．１〜１．０％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ｄという。）を提供する。
本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とメタノール（ＭｅＯＨ）とからなる溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＭｅＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４４．９％、（ｔＤＣＥ）の含有量が５０．０％、（ＭｅＯＨ）の含有量が５．１％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ｅという。）を提供する。
本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とエタノール（ＥｔＯＨ）とからなる溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＥｔＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４９．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が４８．５％、（ＥｔＯＨ）の含有量が２．５％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ｆという。）を提供する。
本発明は、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノール（ＩＰＡ）とからなる溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＩＰＡ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４９．７％、（ｔＤＣＥ）の含有量が５０．０％、（ＩＰＡ）の含有量が０．３％であることを特徴とする溶剤組成物（以下、組成物Ｇという。）を提供する。
本発明の溶剤組成物は、炭素数１〜３のアルコールを所定量含有することにより、フラックス洗浄等、特にイオン性の汚れの除去に対して優れた洗浄力を有するものである。

組成物Ａは、引火点が室温（２５℃）より高いか、又は沸騰状態で引火しない不燃性の組成である。さらに、油脂類やフラックス類に対する洗浄力が高い。
組成物Ａにおける炭素数１〜３のアルコールとしては、例えばメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノールが挙げられる。
組成物Ａとしては、特には、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコールの合計量に対して１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルが３０．０〜６５．０％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが２５．０〜６９．９％（質量基準である。）、炭素数１〜３のアルコールが０．１〜１０．０％（質量基準である。）である溶剤組成物が好ましい。
組成物Ｅ、Ｆ、Ｇは、共沸溶剤組成物である。共沸溶剤組成物とは、該組成物を繰り返し蒸発、凝縮させても組成変化がない組成物である。
また、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄは、該組成物を繰り返し蒸発、凝縮させても組成変化が小さいため、実用上は共沸溶剤組成物と同等の使い方ができる組成物である。そのような組成物は、一般的に共沸様溶剤組成物と呼ばれる。
組成物Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇを物品の洗浄等に用いた場合、該組成物の組成変化は小さいか又は無いため、安定した洗浄性能を維持しながら使用できる。さらに従来使われていたＲ２２５と同じ装置で洗浄できるため、従来技術の大幅な変更を要しない利点がある。
組成物Ａ〜Ｇは、１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテルとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコール（組成物Ｂ〜Ｇではその内の特定のアルコール）のみからなることが好ましいが、さらに他の化合物を含んでいてもよい。ここで、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄの場合は、共沸様溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲内で、組成物Ｅ、Ｆ、Ｇの場合は、共沸溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲内で、それぞれ他の化合物を含むことができる。
他の化合物としては、炭化水素類、アルコール類（炭素数１〜３のアルコールを除く。）、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類（ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンを除く。）、エーテル類、エステル類及びグリコールエーテル類からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの化合物の溶剤組成物中における含有割合は、好ましくは２０質量％以下、より好ましくは１０質量％以下である。他の化合物の含有量の下限は、該化合物を添加する目的を達成し得る最低限の量である。通常、その最低限の量は溶剤組成物全量に対して０．１質量％以上である。他の化合物を含む溶剤組成物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
炭化水素類としては、炭素数５〜１５の鎖状又は環状の飽和又は不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、２，２−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２，３，３−トリメチルペンタン、２，３，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２−メチルヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−ノナン、２，２，５−トリメチルヘキサン、ｎ−デカン、ｎ−ドデカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、デカリン、テトラリン、アミルナフタレン等が挙げられる。より好ましくは、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の炭素数５〜７の炭化水素である。
アルコール類としては、炭素数４〜１６の鎖状又は環状の飽和又は不飽和アルコール類が好ましく、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、α−テルピネオール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアルコール等が挙げられる。より好ましくは、ｎ−ブチルアルコール等の炭素数４〜５のアルカノールである。
ケトン類としては、炭素数３〜９の鎖状又は環状のケトン類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、メシチルオキシド、ホロン、２−オクタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサンジオン等が挙げられる。より好ましくは、アセトン、メチルエチルケトン等の炭素数３〜４のケトンである。
ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数１〜６の塩素化又は塩素化フッ素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、１，１−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，２−ジクロロプロパン、ジクロロペンタフルオロプロパン、ジクロロフルオロエタン、デカフルオロペンタン等が挙げられる。より好ましくは、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の炭素数１〜２の塩素化炭化水素である。
エーテル類としては、炭素数２〜８の鎖状又は環状のエーテル類が好ましく、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール、ジオキサン、フラン、メチルフラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。より好ましくは、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の炭素数４〜６のエーテルである。
エステル類としては、炭素数２〜１９の鎖状又は環状のエステル類が好ましく、具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸メトキシブチル、酢酸ｓｅｃ−ヘキシル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ベンジル、γ−ブチロラクトン、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシン酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル等が挙げられる。より好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル等の炭素数３〜４のエステルである。
グリコールエーテル類としては、炭素数２〜４である２価アルコールの２〜４量体の一方又は両方の水酸基の水素原子が炭素数１〜６のアルキル基で置換されている化合物であり、ジエチレングリコールのアルキルエーテル類やジプロピレングリコールのアルキルエーテル類が好ましい。具体的には、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコール系エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテルなどのジプロピレングリコール系エーテル等が挙げられる。
さらに、主として安定性を高めるために、例えば以下に挙げる化合物の１種又は２種以上を組成物Ａ〜Ｇ中に０．００１〜５質量％の範囲で配合できる。ただし、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄの場合は共沸様溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲で、組成物Ｅ、Ｆ、Ｇの場合は共沸溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲内で、該化合物を配合できる。
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン等のアミン類。フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイゲノール、ｏ−メトキシフェノール、ビスフェノールＡ、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェノール類。２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類。
組成物Ａ〜Ｇは、従来のＲ−２２５類組成物と同様に各種用途に好適に使用できる。具体的な用途としては、物品に付着した汚れを除去するための洗浄剤、種々の化合物を物品に塗布するための当該化合物の希釈溶剤又は抽出剤などの用途がある。上記の物品の材質としては、ガラス、セラミックス、プラスチック、エラストマー、金属などが挙げられる。また、物品の具体例としては、電子・電気機器、精密機械・器具、光学機器等、及びそれらの部品であるＩＣ、マイクロモーター、リレー、ベアリング、光学レンズ、プリント基板、ガラス基板などが挙げられる。
物品に付着する汚れとしては、物品又は物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に除去されなければならない汚れ又は物品の使用時に付着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質としては、グリース類、鉱油類、ワックス類、油性インキ類等の油脂類、フラックス類、塵埃が挙げられる。
上記汚れを除去する具体的方法としては、例えば、手拭き洗浄、浸漬洗浄、スプレー洗浄、揺動洗浄、超音波洗浄、蒸気洗浄等が挙げられる。また、該方法を組み合わせた方法等を採用できる。
組成物Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄは、組成比を変えることにより、汚れ等の溶解力を調整することができる。

以下に本発明の実施例および比較例を示す。
例１〜５、７〜１１、１３〜１７、１９〜２３、２５〜２９、３１〜３５、３７〜４１、４３〜４７、４９〜５３、５５〜６７、６９〜７２は実施例、例６、１２、１８、２４、３０、３６、４２、４８、５４、６８は比較例である。
なお、試験結果をまとめた各表中の略称は以下の意味を示すものである。
Ｒ３４７：１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル
ｔＤＣＥ：ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン
ＭｅＯＨ：メタノール
ＥｔＯＨ：エタノール
ＩＰＡ：２−プロパノール
［例１〜６］
表１に記載の組成からなる溶剤組成物を用い、クリーブランド開放式引火点測定器を用いＡＳＴＭＤ９２−９０に記載の方法にしたがって２５℃、４０℃、溶剤組成物が沸騰状態での引火点の有無を測定した。結果を表１に示す。

［例７〜１２］
表２に記載の組成からなる溶剤組成物を用い、クリーブランド開放式引火点測定器を用いＡＳＴＭＤ９２−９０に記載の方法にしたがって２５℃、４０℃、溶剤組成物が沸騰状態での引火点の有無を測定した。結果を表２に示す。

［例１３〜１８］
表３に記載の組成からなる溶剤組成物を用い、クリーブランド開放式引火点測定器を用いＡＳＴＭＤ９２−９０に記載の方法にしたがって２５℃、４０℃、溶剤組成物が沸騰状態での引火点の有無を測定した。結果を表３に示す。

［例１９〜２４］
表４に記載の組成からなる溶剤組成物を用いて金属加工油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、金属加工油：テンパーオイル（日本グリース社製）中に浸漬して金属加工油を付着させた。該テストピースは、該金属加工油中から取り出した後、４０℃に保温した該溶剤組成物中に浸漬させ、超音波をかけて５分間洗浄した。洗浄後のテストピースの金属加工油の除去度を目視で評価した。結果を表４に示す。表４において、○：良好に除去、△：わずかに残存、×：残存、を示す。

［例２５〜３０］
表５に記載の組成からなる溶剤組成物を用いた以外は例１９〜２４と同様にして金属加工油の洗浄試験を行った。結果を表５に示す。表５において、○：良好に除去、△：わずかに残存、×：残存、を示す。

［例３１〜３６］
表６に記載の組成からなる溶剤組成物を用いた以外は例１９〜２４と同様にして金属加工油の洗浄試験を行った。結果を表６に示す。表６において、○：良好に除去、△：わずかに残存、×：残存、を示す。

［例３７〜４２］
表７に記載の組成からなる溶剤組成物を用いてフラックス洗浄試験を行った。すなわち、ＩＰＣＢ−２５の櫛型電極基板に株式会社弘輝製のフラックスＪＳ−６４ＮＤを塗布し、１００℃で１０分間乾燥後、２６０℃の半田浴に３秒浸漬して半田付けした。室温で２４時間静置してから該櫛形電極基板を、４０℃に保温した表７に記載の溶剤組成物中に５分間浸漬して洗浄し、フラックスの除去度を目視で評価した。結果を表７に示す。表７において、○：良好に除去、△：白色残渣が微量残存、×：白色残渣がかなり残存、を示す。

［例４３〜４８］
表８に記載の組成からなる溶剤組成物を用いた以外は例３７〜４２と同様にしてフラックス洗浄試験を行った。結果を表８に示す。表８において、○：良好に除去、△：白色残渣が微量残存、×：白色残渣がかなり残存、を示す。

［例４９〜５４］
表９に記載の組成からなる溶剤組成物を用いた以外は例３７〜４２と同様にしてフラックス洗浄試験を行った。結果を表９に示す。表９において、○：良好に除去、△：白色残渣が微量残存、×：白色残渣がかなり残存、を示す。

［例５５〜５９］
表１０に記載の溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日当り６時間で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽への溶剤組成物のみを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水分離器に導かれ、洗浄槽へ戻るまでに１時間当りの循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とした。１８時間運転後に水分離器からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表１０に示す。

［例６０〜６４］
表１１に記載の溶剤組成物を用いた以外は例５５〜５９と同様にして洗浄機を用いた運転試験を行った。結果を表１１に示す。

［例６５〜６９］
表１２に記載の溶剤組成物を用いた以外は例５５〜５９と同様にして洗浄機を用いた運転試験を行った。結果を表１２に示す。

［例７０］
オスマー型気液平衡装置に３４７／ｔＤＣＥ／ＭｅＯＨ＝４４．９質量％／５０．０質量％／５．１質量％の組成物３００ｇを入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で気相と液相から該組成物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフで組成比を測定した。結果を表１３に示す。

［例７１］
オスマー型気液平衡装置に３４７／ｔＤＣＥ／ＥｔＯＨ＝４９．０質量％／４８．５質量％／２．５質量％の組成物３００ｇを入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で気相と液相から該組成物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフで組成比を測定した。結果を表１４に示す。

［例７２］
オスマー型気液平衡装置に３４７／ｔＤＣＥ／ＩＰＡ＝４９．７質量％／５０．０質量％／０．３質量％の組成物３００ｇを入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で気相と液相から該組成物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフで組成比を測定した。結果を表１５に示す。

本発明の溶剤組成物（組成物Ａ〜Ｇ）は、各種汚れに対する洗浄力が高く、引火点が室温より高い。また、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄは共沸様溶剤組成物であり、組成物Ｅ、Ｆ、Ｇは共沸溶剤組成物であるので、これらの組成物は、蒸気洗浄や蒸留等によりリサイクル使用しても組成の変動がないか小さく、洗浄性や各種物性が変化しない。このため、従来より用いられている洗浄装置を大幅に変更することなく用いることができる。

産業上の利用の可能性

本発明の溶剤組成物は、電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に付着する油脂類、プリント基板等のフラックス、塵埃などの汚れを高い洗浄力で除去できる。

Claims

１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）と炭素数１〜３のアルコール（ＲＯＨ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＲＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が２５．０〜７５．０％（質量基準である。以下、含有量の数値は全て質量基準である）、（ｔＤＣＥ）の含有量が１５．０〜７４．９％、（ＲＯＨ）の含有量が０．１〜１０．０％であることを特徴とする溶剤組成物。
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とメタノール（ＭｅＯＨ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＭｅＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が３５．０〜５５．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が３９．０〜６１．０％、（ＭｅＯＨ）の含有量が４．０〜６．０％であることを特徴とする溶剤組成物。
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とエタノール（ＥｔＯＨ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＥｔＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が３９．０〜５９．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が３７．５〜５９．５％、（ＥｔＯＨ）の含有量が１．５〜３．５％であることを特徴とする溶剤組成物。
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）と２−プロパノール（ＩＰＡ）とを含む溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＩＰＡ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４０．０〜６０．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が３９．０〜５９．９％、（ＩＰＡ）の含有量が０．１〜１．０％であることを特徴とする溶剤組成物。
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とメタノール（ＭｅＯＨ）とからなる溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＭｅＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４４．９％、（ｔＤＣＥ）の含有量が５０．０％、（ＭｅＯＨ）の含有量が５．１％であることを特徴とする溶剤組成物。
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン（ｔＤＣＥ）とエタノール（ＥｔＯＨ）とからなる溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＥｔＯＨ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４９．０％、（ｔＤＣＥ）の含有量が４８．５％、（ＥｔＯＨ）の含有量が２．５％であることを特徴とする溶剤組成物。
１，１，２，２−テトラフルオロエチル−２，２，２−トリフルオロエチルエーテル（Ｒ３４７）とｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと（ｔＤＣＥ）２−プロパノール（ＩＰＡ）とからなる溶剤組成物であって、（Ｒ３４７）と（ｔＤＣＥ）と（ＩＰＡ）の合計量に対して、（Ｒ３４７）の含有量が４９．７％、（ｔＤＣＥ）の含有量が５０．０％、（ＩＰＡ）の含有量が０．３％であることを特徴とする溶剤組成物。