JPH0953097A - 溶剤組成物 - Google Patents

溶剤組成物

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JPH0953097A
JPH0953097A JP20722195A JP20722195A JPH0953097A JP H0953097 A JPH0953097 A JP H0953097A JP 20722195 A JP20722195 A JP 20722195A JP 20722195 A JP20722195 A JP 20722195A JP H0953097 A JPH0953097 A JP H0953097A
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dichloropentafluoropropane
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健郎 北村
Michino Ikehata
通乃 池畑
Masaaki Tsuzaki
真彰 津崎
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来のR113や1,1,1−トリクロロエタ
ンが有する優れた特性を保持しながらオゾン層へほとん
ど影響を与えない代替組成物を提供する。 【解決手段】ジクロロペンタフルオロプロパン57〜7
5重量%、trans−1,2−ジクロロエチレン20
〜35重量%、およびメタノール5〜8重量%を含む溶
剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板、I
C等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗
浄、フラックス洗浄、水切り洗浄等に用いられる溶剤組
成物に関する。
【0002】
【従来の技術】各種油脂洗浄、フラックス洗浄等には、
不燃性、低毒性、安定性に優れる1,1,2−トリクロ
ロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下、R113
と略す)またはこのR113とこれに可溶な溶剤との混
合溶剤組成物や1,1,1−トリクロロエタン等が広く
使用されている。R113は、精密機械部品や金属、プ
ラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚
れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、金属、プ
ラスチック、エラストマー等からなる各種電子部品、精
密機械部品、光学部品等の洗浄には最適であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR
113や1,1,1−トリクロロエタンは、種々の利点
を有するが、化学的にきわめて安定なため、対流圏内で
の寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで紫外線に
より分解して塩素ラジカルを発生し、この塩素ラジカル
が成層圏オゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊す
るとのことから、その生産および消費について規制が実
施されている。このため、従来のR113や1,1,1
−トリクロロエタンに代わり、オゾン層を破壊しにくい
代替溶剤の探索が活発に行われている。
【0004】米国特許第5116525号明細書には、
ジクロロペンタフルオロプロパン(以下、R225と略
す)と、trans−1,2−ジクロロエチレン(以
下、t−DEと略す)、メタノール(以下、MeOHと
略す)、エタノール、またはイソプロパノールとの共沸
組成物が示されている。
【0005】そのうちで、MeOHを含む組成について
は3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフル
オロプロパン(以下、R225caと略す)50〜75
重量%および1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−
ペンタフルオロプロパン(以下、R225cbと略す)
25〜50重量%からなるR225を47〜57重量
%、t−DEを38〜48重量%およびMeOHを3〜
9重量%の割合で含み760mmHgの大気圧において
43.7℃の沸点を有する共沸組成物が開示されてい
る。
【0006】しかし、上記共沸組成は洗浄される物品材
質への影響が大きく、また引火性を持つことが本発明者
の検討により確認された。本発明の目的はR225、t
−DEおよびMeOHを含む溶剤組成物であって、R1
13や1,1,1−トリクロロエタンが有する優れた特
性を満足してオゾン層への影響がきわめて小さい代替溶
剤として使用でき、洗浄される物品材質への影響がな
く、引火性もない溶剤組成物の提供を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、(a)R22
5、(b)t−DEおよび(c)MeOHを含み、
(a)、(b)および(c)の合計に対する(a)、
(b)および(c)の割合がそれぞれ57〜75重量
%、20〜35重量%および5〜8重量%である溶剤組
成物である。
【0008】本発明におけるR225とは、示性式C3
HCl25 で表されるジクロロペンタフルオロプロパ
ンの1種または2種以上の混合物を意味する。R225
の好ましいものは、R225caおよびR225cbか
ら選ばれる少なくとも1種である。特に好ましいR22
5は、R225caおよびR225cbの混合物であ
る。好ましい混合割合は、R225ca/R225cb
=1〜99重量%/1〜99重量%であり、さらに好ま
しくはR225ca/R225cb=40〜75重量%
/25〜60重量%である。
【0009】本発明の溶剤組成物は(a)R225、
(b)t−DEおよび(c)MeOHを含み、(a)、
(b)および(c)の合計に対する(a)、(b)およ
び(c)の割合がそれぞれ57〜75重量%、20〜3
5重量%および5〜8重量%である。(a)、(b)お
よび(c)の合計に対する(a)、(b)および(c)
の好ましい割合は、それぞれ61〜67重量%、27〜
32重量%および6〜7重量%である。
【0010】本発明の溶剤組成物は、本発明の目的を阻
害しない範囲で上記(a)、(b)および(c)以外の
化合物を含有していてもよい。
【0011】主として溶解性を調整するために、例えば
以下に挙げる化合物の1種または2種以上を0.1〜5
0重量%、好ましくは0.1〜30重量%、さらに好ま
しくは0.1〜20重量%の範囲で本発明の組成物中へ
配合できる。
【0012】n−ペンタン、2−メチルブタン、2,2
−ジメチルプロパン、n−ヘキサン、3−メチルペンタ
ン、2,2−ジメチルブタン、2,3−ジメチルブタ
ン、n−ヘプタン、2−メチルヘキサン、3−メチルヘ
キサン、2,3−ジメチルペンタン、2,4−ジメチル
ペンタン、n−オクタン、2,2,3−トリメチルペン
タン、2,2,4−トリメチルペンタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン等の炭化水素類。
【0013】ジクロロメタン、cis−1,2−ジクロ
ロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン等の塩素化炭化水素類。
【0014】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
【0015】ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テ
トラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエーテル
類。
【0016】2,2−ジクロロ−1,1,1−トリフル
オロエタン、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン等
の塩素化フッ素化炭化水素類。
【0017】酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類。
【0018】エタノール、1−プロパノール、2−プロ
パノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタ
ノール、t−ブタノール等のメタノール以外のアルコー
ル類。
【0019】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の1種または2種以上を0.001〜
10重量%、好ましくは0.001〜5重量%の範囲で
本発明の組成物中へ配合できる。
【0020】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
【0021】ジエチルアミン、トリエチルアミン、i−
プロピルアミン、n−ブチルアミン、i−ブチルアミン
等のアミン類。
【0022】フェノール、o−クレゾール、m−クレゾ
ール、p−クレゾール、チモール、p−t−ブチルフェ
ノール、t−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、o−メトキシフェノール、ビスフェノール
A、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリ
チル酸メチル、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル等のフェノール類。
【0023】2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフ
ェニル) ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ
−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル) −5−ク
ロロベンゾトリアゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾ
ール、1−[(N,N−ビス−2−エチルヘキシル) ア
ミノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類。
【0024】本発明の溶剤組成物は、R225、t−D
EおよびMeOHを特定の割合で含むため、洗浄される
物品の材質例えば硬質塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ
カーボネート、ポリフェニレンオキシド、ABS樹脂、
EPDMゴム等のプラスチック類やゴム類への影響がな
く、しかも引火性がない優れたものである。
【0025】さらに、本発明の溶剤組成物は、従来のR
113系や1,1,1−トリクロロエタン系と同程度の
溶解力を有し、各種用途に好適に使用できる。こうした
具体的な用途としては、グリース、油、フラックス、ワ
ックス、インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤等が挙
げられる。また、ガラス、セラミックス、プラスチッ
ク、ゴム、金属製各種物品等の洗浄剤や塵埃除去剤等が
挙げられる。特にIC部品、電気機器、精密機械、光学
レンズ等の洗浄剤や塵埃除去剤等として好適である。洗
浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音
波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合わせた方法等を
採用すればよい。
【0026】
【実施例】
「例1〜5(実施例)」表1の溶剤組成物を用いて機械
油の洗浄試験を行った。すなわち、SUS−304のテ
ストピース(25mm×30mm×2mm)を機械油
(出光石油製ダフニーカットAS−40H)中に浸漬
後、表1の溶剤組成物中に5分浸漬した。機械油の除去
度(◎:良好に除去可、△:微量残存、×:かなり残
存)を判定した結果を表1のA欄に示す。
【0027】同様に、表1の溶剤組成物を用いてフラッ
クスの洗浄試験を行った。すなわち、ガラスエポキシ製
のプリント基板(50mm×100mm×1.6mm)
全面にフラックス(スピーディフラックスAGF−J−
I:アサヒ化学研究所製)を塗布し、260℃の半田温
度でウェーブソルダー機を用いて半田付け後、表1の溶
剤組成物に3分間浸漬し洗浄を行った。フラックスの除
去度(◎:良好に除去可、△:微量残存、×:かなり残
存)を判定した結果を表1のB欄に示す。
【0028】「例6〜10(実施例)および例11〜1
2(比較例)」表2の溶剤組成物を用いて材質への影響
試験を行った。すなわち、硬質塩化ビニル(C)、ポリ
スチレン(D)、ポリカーボネート(E)、ポリフェニ
レンオキシド(F)、ABS樹脂(G)、EPDMゴム
(H)のテストピース(25mm×30mm×2mm)
を、表2の溶剤組成物中に50℃で5分浸漬した。材質
の変化率(◎:変化なし、○:若干の膨潤が認められる
が顕著な変化なし、△:膨潤が認められる、×:溶解ま
たはクラックを生じる)を判定した結果を表2の各欄に
示す。
【0029】「例13〜17(実施例)および例18
(比較例)」表3の溶剤組成物を用いて引火性試験を行
った。すなわち、表3の溶剤組成物の引火点を、クリー
ブランド開放式引火点測定装置にて判定した結果を表3
に示す。
【0030】なお、表1〜3においてR225(ca:
cb)とはR225caとR225cbの混合物を示
す。また、重量%の括弧内の数字はR225に対するR
225caおよびR225cbそれぞれの割合(%)を
示す。
【0031】
【表1】
【0032】
【表2】
【0033】
【表3】
【0034】
【発明の効果】本発明の溶剤組成物は従来のR113や
1,1,1−トリクロロエタンが有している優れた特性
を満足し、洗浄される物品の材質への影響がなく、引火
性もなく、オゾン層へほとんど影響を与えないなどの利
点がある。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)ジクロロペンタフルオロプロパン、
    (b)trans−1,2−ジクロロエチレンおよび
    (c)メタノールを含み、(a)、(b)および(c)
    の合計に対する(a)、(b)および(c)の割合がそ
    れぞれ57〜75重量%、20〜35重量%および5〜
    8重量%である溶剤組成物。
  2. 【請求項2】ジクロロペンタフルオロプロパンが3,3
    −ジクロロ−1,1,1,2,2−ペンタフルオロプロ
    パン1〜99重量%および1,3−ジクロロ−1,1,
    2,2,3−ペンタフルオロプロパン1〜99重量%か
    らなる請求項1の溶剤組成物。
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