JPH0718296A - 混合溶剤組成物 - Google Patents
混合溶剤組成物Info
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- JPH0718296A JPH0718296A JP19075693A JP19075693A JPH0718296A JP H0718296 A JPH0718296 A JP H0718296A JP 19075693 A JP19075693 A JP 19075693A JP 19075693 A JP19075693 A JP 19075693A JP H0718296 A JPH0718296 A JP H0718296A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来の１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
オゾン層へ影響を与えない代替溶剤組成物を提供する。 【構成】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフ
ルオロヘキサンとエタノール、又はこれに炭素数５以上
の炭化水素類とからなる混合溶剤組成物。
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
オゾン層へ影響を与えない代替溶剤組成物を提供する。 【構成】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフ
ルオロヘキサンとエタノール、又はこれに炭素数５以上
の炭化水素類とからなる混合溶剤組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、ＩＣ等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる 1,1,2- トリクロロ-1,
2,2- トリフルオロエタン( 以下、 R113 という。) 又
はこのR113とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が広
く使用されている。R113は、金属、プラスチック、エラ
ストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解
する等の特徴を有するため、各種精密機械部品や金属、
プラスチック、エラストマー等からなる各種電子部品、
またこれらの電子部品を実装したプリント基板、精密機
械部品、光学部品等の洗浄には最適であった。
燃性、低毒性、安定性に優れる 1,1,2- トリクロロ-1,
2,2- トリフルオロエタン( 以下、 R113 という。) 又
はこのR113とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が広
く使用されている。R113は、金属、プラスチック、エラ
ストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解
する等の特徴を有するため、各種精密機械部品や金属、
プラスチック、エラストマー等からなる各種電子部品、
またこれらの電子部品を実装したプリント基板、精密機
械部品、光学部品等の洗浄には最適であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR1
13は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的に極
めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して成
層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジカル
を発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊することから、その生産・使
用規制が実施されている。
13は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的に極
めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して成
層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジカル
を発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊することから、その生産・使
用規制が実施されている。
【０００４】このため、従来のR113に代わり、オゾン層
を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われている。
この代替溶剤としては、2,2-ジクロロ-1,1,1- トリフル
オロエタン、1,1-ジクロロ-1- フルオロエタン、3,3-ジ
クロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロプロパン、1,3-ジク
ロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。
を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われている。
この代替溶剤としては、2,2-ジクロロ-1,1,1- トリフル
オロエタン、1,1-ジクロロ-1- フルオロエタン、3,3-ジ
クロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロプロパン、1,3-ジク
ロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。
【０００５】これらの代替溶剤は、R113と同様に優れた
洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も極め
て小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原子を含
むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響を与え
る。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさらに優れ
た代替溶剤の開発が望まれている。
洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も極め
て小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原子を含
むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響を与え
る。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさらに優れ
た代替溶剤の開発が望まれている。
【０００６】本発明は、従来のR113が有している優れた
特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない代替
溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系溶剤組
成物を提供することを目的とする。
特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない代替
溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系溶剤組
成物を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、第一に1,1,1,2,2,3,3,4,
4-ノナフルオロヘキサン( 以下、R569sfという) とエタ
ノールとからなる混合溶剤組成物を提供する。
成すべくなされたものであり、第一に1,1,1,2,2,3,3,4,
4-ノナフルオロヘキサン( 以下、R569sfという) とエタ
ノールとからなる混合溶剤組成物を提供する。
【０００８】さらに本発明は、第二にR569sfとエタノー
ルとからなる擬共沸又は共沸溶剤組成物を提供する。さ
らに本発明は、第三にR569sfとエタノールと炭素数５以
上の炭化水素類とからなる混合溶剤組成物を提供する。
ルとからなる擬共沸又は共沸溶剤組成物を提供する。さ
らに本発明は、第三にR569sfとエタノールと炭素数５以
上の炭化水素類とからなる混合溶剤組成物を提供する。
【０００９】本発明の組成物は、R569sfを主成分として
含有するものであり、これにエタノールを配合してなる
ものであり、さらにこの組成物に炭素数５以上の炭化水
素類を配合することができる。
含有するものであり、これにエタノールを配合してなる
ものであり、さらにこの組成物に炭素数５以上の炭化水
素類を配合することができる。
【００１０】本発明の組成物に用いられる炭素数５以上
の炭化水素類としては、n-ペンタン、2-メチルブタン、
2,2-ジメチルプロパン、2-メチルペンタン、3-メチルペ
ンタン、2,2-ジメチルブタン、2,3-ジメチルブタン、n-
ヘプタン、2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサン、2,3-
ジメチルペンタン、2,4-ジメチルペンタン、n-オクタ
ン、2,2,3-トリメチルペンタン、2,2,4-トリメチルペン
タン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン等およびこれらの混合
物が挙げられる、これに限定されない。
の炭化水素類としては、n-ペンタン、2-メチルブタン、
2,2-ジメチルプロパン、2-メチルペンタン、3-メチルペ
ンタン、2,2-ジメチルブタン、2,3-ジメチルブタン、n-
ヘプタン、2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサン、2,3-
ジメチルペンタン、2,4-ジメチルペンタン、n-オクタ
ン、2,2,3-トリメチルペンタン、2,2,4-トリメチルペン
タン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン等およびこれらの混合
物が挙げられる、これに限定されない。
【００１１】本発明の混合溶剤組成物の混合組成比は特
に限定されないが、好ましくはR569sf 50 〜99重量％、
エタノール 1〜50重量％、又は、R569sf 50 〜98重量
％、炭素数５以上の炭化水素類 1〜25重量％、エタノー
ル 1〜25重量％である。
に限定されないが、好ましくはR569sf 50 〜99重量％、
エタノール 1〜50重量％、又は、R569sf 50 〜98重量
％、炭素数５以上の炭化水素類 1〜25重量％、エタノー
ル 1〜25重量％である。
【００１２】また、R569sfとエタノールからなる組成物
はR569sf 90 〜99重量％、エタノール 1〜10重量％の範
囲で擬共沸溶剤組成物を作り、さらにR569sf 93.6 重量
％、エタノール 6.4重量％で共沸組成を作るので、この
範囲で使用すれば組成変化がないか、又はほとんどなく
使用できるので好ましい。
はR569sf 90 〜99重量％、エタノール 1〜10重量％の範
囲で擬共沸溶剤組成物を作り、さらにR569sf 93.6 重量
％、エタノール 6.4重量％で共沸組成を作るので、この
範囲で使用すれば組成変化がないか、又はほとんどなく
使用できるので好ましい。
【００１３】本発明の組成物においては、必要に応じて
その他の成分が含まれていてもよい。例えば、ジクロロ
メタン、cis-1,2-ジクロロエチレン、trans-1,2-ジクロ
ロエチレン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
等の塩素化炭化水素類、メタノール、i-プロパノール、
n-プロパノール、n-ブタノール、i-ブタノール、s-ブタ
ノール、t-ブタノール等のアルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエ
ーテル類、2,2-ジクロロ-1,1,1- トリフルオロエタン、
1,1-ジクロロ-1- フルオロエタン、3,3-ジクロロ-1,1,
1,2,2- ペンタフルオロプロパン、1,3-ジクロロ-1,1,2,
2,3- ペンタフルオロプロパン、1,1-ジクロロ-1,2,2,3,
3- ペンタフルオロプロパン、1,2-ジクロロ-1,1,3,3,3-
ペンタフルオロプロパン、1,2-ジクロロ-1,1,2,3,3-
ペンタフルオロプロパン、2,3-ジクロロ-1,1,1,2,3- ペ
ンタフルオロプロパン、2,2-ジクロロ-1,1,1,3,3- ペン
タフルオロプロパン等の塩素化フッ素化炭化水素類、ニ
トロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベ
ンゼン等のニトロ化合物類、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、i-プロピルアミン、ブチルアミン、i-ブチル
アミン等のアミン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル等のエステル類、フェノール、o-クレゾール、m-
クレゾール、p-クレゾール、チモール、p-t-ブチルフェ
ノール、t-ブチルカテコール、カテコール、イソオイゲ
ノール、o-メトキシフェノール、2,2-ビス（4-ヒドロキ
シフェニル）プロパン［通称ビスフェノールＡ］、サリ
チル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メ
チル、2,6-ジ-t- ブチル-p- クレゾール等のフェノール
類、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル- フェニル) ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチル
フェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、1,2,3-ベンゾ
トリアゾール、1-[(N,N-ビス-2- エチルヘキシル) アミ
ノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類等を
適宜添加できる。
その他の成分が含まれていてもよい。例えば、ジクロロ
メタン、cis-1,2-ジクロロエチレン、trans-1,2-ジクロ
ロエチレン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロ
ロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン
等の塩素化炭化水素類、メタノール、i-プロパノール、
n-プロパノール、n-ブタノール、i-ブタノール、s-ブタ
ノール、t-ブタノール等のアルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエ
ーテル類、2,2-ジクロロ-1,1,1- トリフルオロエタン、
1,1-ジクロロ-1- フルオロエタン、3,3-ジクロロ-1,1,
1,2,2- ペンタフルオロプロパン、1,3-ジクロロ-1,1,2,
2,3- ペンタフルオロプロパン、1,1-ジクロロ-1,2,2,3,
3- ペンタフルオロプロパン、1,2-ジクロロ-1,1,3,3,3-
ペンタフルオロプロパン、1,2-ジクロロ-1,1,2,3,3-
ペンタフルオロプロパン、2,3-ジクロロ-1,1,1,2,3- ペ
ンタフルオロプロパン、2,2-ジクロロ-1,1,1,3,3- ペン
タフルオロプロパン等の塩素化フッ素化炭化水素類、ニ
トロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベ
ンゼン等のニトロ化合物類、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、i-プロピルアミン、ブチルアミン、i-ブチル
アミン等のアミン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル等のエステル類、フェノール、o-クレゾール、m-
クレゾール、p-クレゾール、チモール、p-t-ブチルフェ
ノール、t-ブチルカテコール、カテコール、イソオイゲ
ノール、o-メトキシフェノール、2,2-ビス（4-ヒドロキ
シフェニル）プロパン［通称ビスフェノールＡ］、サリ
チル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メ
チル、2,6-ジ-t- ブチル-p- クレゾール等のフェノール
類、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル- フェニル) ベンゾト
リアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-5'-メチル
フェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、1,2,3-ベンゾ
トリアゾール、1-[(N,N-ビス-2- エチルヘキシル) アミ
ノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類等を
適宜添加できる。
【００１４】本発明の溶剤組成物は、従来のR113系と同
程度の溶解力を有し、組成変化がないかきわめて少な
い、共沸ないしは擬共沸組成物を形成し、各種用途に好
適に使用できる。かかる具体的な用途としては、フラッ
クス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗
料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラスチッ
ク、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、電気機器、
精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等が挙げられる。
程度の溶解力を有し、組成変化がないかきわめて少な
い、共沸ないしは擬共沸組成物を形成し、各種用途に好
適に使用できる。かかる具体的な用途としては、フラッ
クス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗
料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラスチッ
ク、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、電気機器、
精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等が挙げられる。
【００１５】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
【００１６】
［実施例１〜３］表１の当初欄に示す組成の溶剤組成物
１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論段数５段の精留
塔を用い、大気圧下で蒸留を行った。４時間後、８時間
後、１２時間後において留分１００ｇを各々採取した。
このものの組成をガスクロマトグラフで測定した結果を
表１に示す。なお、単位はいずれも重量％である。
１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論段数５段の精留
塔を用い、大気圧下で蒸留を行った。４時間後、８時間
後、１２時間後において留分１００ｇを各々採取した。
このものの組成をガスクロマトグラフで測定した結果を
表１に示す。なお、単位はいずれも重量％である。
【００１７】
【表１】
【００１８】［実施例４〜１１］表２、表３に示す混合
溶剤組成物を用いて、Ａ）機械油の洗浄試験、Ｂ）フラ
ックスの洗浄試験、Ｃ）付着水の除去試験、を行った。
試験方法と評価基準は次の通りである。評価結果をそれ
ぞれ表２、表３のＡ欄、Ｂ欄、Ｃ欄に示す。
溶剤組成物を用いて、Ａ）機械油の洗浄試験、Ｂ）フラ
ックスの洗浄試験、Ｃ）付着水の除去試験、を行った。
試験方法と評価基準は次の通りである。評価結果をそれ
ぞれ表２、表３のＡ欄、Ｂ欄、Ｃ欄に示す。
【００１９】Ａ）機械油の洗浄試験：SUS-304 のテスト
ピース(25mm ×30mm×2mm)を機械油（日本石油製ＣＱ-
３０）中に浸漬後、表２、表３に示す本発明の混合溶剤
組成物中に５分浸漬した。機械油の除去の度合を次の基
準で判定評価した。◎：良好に除去可、△：微量残存、
×：かなり残存。
ピース(25mm ×30mm×2mm)を機械油（日本石油製ＣＱ-
３０）中に浸漬後、表２、表３に示す本発明の混合溶剤
組成物中に５分浸漬した。機械油の除去の度合を次の基
準で判定評価した。◎：良好に除去可、△：微量残存、
×：かなり残存。
【００２０】Ｂ）フラックスの洗浄試験：ガラスエポキ
シ製のプリント基板（50mm×100 mm×1.6mm ）全面にフ
ラックス（スピーディフラックス AGF-J-I：アサヒ化学
研究所製）を塗布し、260 ℃の半田温度でウエーブソル
ダー機を用いて半田付け後、表２、表３に示す本発明の
混合溶剤組成物に３分間浸漬し洗浄を行った。フラック
スの除去の度合を次の基準で判定評価した。◎：良好に
除去可、△：微量残存、×：かなり残存。
シ製のプリント基板（50mm×100 mm×1.6mm ）全面にフ
ラックス（スピーディフラックス AGF-J-I：アサヒ化学
研究所製）を塗布し、260 ℃の半田温度でウエーブソル
ダー機を用いて半田付け後、表２、表３に示す本発明の
混合溶剤組成物に３分間浸漬し洗浄を行った。フラック
スの除去の度合を次の基準で判定評価した。◎：良好に
除去可、△：微量残存、×：かなり残存。
【００２１】Ｃ）付着水の除去試験：30mm×18mm×5mm
のガラス板を純水に浸漬後、表２、３に示す本発明の混
合溶剤組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、取り出
したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分増
加量から付着水の除去状況を判定した。付着水の除去の
度合を次の基準で判定評価した。◎：良好に除去可、
△：微量残存、×：かなり残存。
のガラス板を純水に浸漬後、表２、３に示す本発明の混
合溶剤組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、取り出
したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分増
加量から付着水の除去状況を判定した。付着水の除去の
度合を次の基準で判定評価した。◎：良好に除去可、
△：微量残存、×：かなり残存。
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】
【００２４】
【発明の効果】本発明の1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオ
ロヘキサンとエタノール、又はこれに炭素数５以上の炭
化水素類を配合してなる溶剤組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、オゾン層へ影響を与えな
い等の利点がある。
ロヘキサンとエタノール、又はこれに炭素数５以上の炭
化水素類を配合してなる溶剤組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、オゾン層へ影響を与えな
い等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:24） (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内 (72)発明者 宇佐見 陽子 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町松原1160番 地 エイ・ジー・テクノロジー株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
50 〜99重量％とエタノール 1〜50重量％とからなる混
合溶剤組成物。 - 【請求項２】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
90 〜99重量％とエタノール 1〜10重量％の擬共沸組成
からなる請求項１の組成物。 - 【請求項３】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
93.6 重量％とエタノール 6.4重量％の共沸組成からな
る請求項１の組成物。 - 【請求項４】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
50 〜98重量％とエタノール 1〜25重量％と炭素数５以
上の炭化水素類 1〜25重量％とからなる混合溶剤組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19075693A JPH0718296A (ja) | 1993-07-02 | 1993-07-02 | 混合溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19075693A JPH0718296A (ja) | 1993-07-02 | 1993-07-02 | 混合溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0718296A true JPH0718296A (ja) | 1995-01-20 |
Family
ID=16263215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19075693A Pending JPH0718296A (ja) | 1993-07-02 | 1993-07-02 | 混合溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718296A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004000977A1 (ja) * | 2002-06-20 | 2003-12-31 | Asahi Glass Company, Limited | 潤滑剤溶液、および潤滑剤の塗布方法 |
| WO2004020567A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Asahi Glass Company, Limited | 溶剤組成物 |
| US7754665B2 (en) | 2002-06-20 | 2010-07-13 | Asahi Glass Company, Limited | Lubricant solution and method for coating lubricant |
| US8329057B2 (en) | 2006-04-06 | 2012-12-11 | Asahi Glass Company, Limited | Working liquid for latent heat transport apparatus and method for operating latent heat transport apparatus |
-
1993
- 1993-07-02 JP JP19075693A patent/JPH0718296A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004000977A1 (ja) * | 2002-06-20 | 2003-12-31 | Asahi Glass Company, Limited | 潤滑剤溶液、および潤滑剤の塗布方法 |
| JPWO2004000977A1 (ja) * | 2002-06-20 | 2005-10-20 | 旭硝子株式会社 | 潤滑剤溶液、および潤滑剤の塗布方法 |
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