JPH0867644A - 混合溶剤組成物 - Google Patents
混合溶剤組成物Info
- Publication number
- JPH0867644A JPH0867644A JP6205661A JP20566194A JPH0867644A JP H0867644 A JPH0867644 A JP H0867644A JP 6205661 A JP6205661 A JP 6205661A JP 20566194 A JP20566194 A JP 20566194A JP H0867644 A JPH0867644 A JP H0867644A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mixed solvent
- solvent composition
- weight
- perfluorohexane
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】従来の１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へほとんど影響を与えない溶剤組成物を
提供する。 【構成】ｎ−ヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、３
−メチルペンタン、シクロペンタンおよびメチルシクロ
ペンタン等の炭化水素類を含む１Ｈ−ペルフルオロヘキ
サンからなる溶剤組成物。
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へほとんど影響を与えない溶剤組成物を
提供する。 【構成】ｎ−ヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、３
−メチルペンタン、シクロペンタンおよびメチルシクロ
ペンタン等の炭化水素類を含む１Ｈ−ペルフルオロヘキ
サンからなる溶剤組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、ＩＣ等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる混合溶剤組成物に関す
る。
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる混合溶剤組成物に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン( 以下、Ｒ１１３と
いう。) またはこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混
合混合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、
金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、
各種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、
各種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー
等からなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装
したプリント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄に
最適であった。
燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン( 以下、Ｒ１１３と
いう。) またはこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混
合混合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、
金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、
各種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、
各種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー
等からなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装
したプリント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄に
最適であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたＲ
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の使用規制が実施されている。
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の使用規制が実施されている。
【０００４】このため、従来のＲ１１３に代わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，
１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，
２−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，
１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，
１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，
２−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，
１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。
【０００５】これらの代替溶剤は、Ｒ１１３と同様に優
れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も
きわめて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原
子を含むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響
を与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさら
に優れた代替溶剤の開発が望まれている。
れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も
きわめて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原
子を含むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響
を与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさら
に優れた代替溶剤の開発が望まれている。
【０００６】本発明は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない
代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系混
合溶剤を提供することを目的とする。
れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない
代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系混
合溶剤を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、炭化水素類および１Ｈ−
ペルフルオロヘキサン［Ｈ（ＣＦ2 ）6 Ｆ］（以下、Ｒ
５２−１３ｐという)を含む混合溶剤組成物、ｎ−ヘキ
サンとＲ５２−１３ｐからなる擬共沸または共沸混合溶
剤組成物、２，４−ジメチルペンタンとＲ５２−１３ｐ
からなる擬共沸混合溶剤組成物、３−メチルペンタンと
Ｒ５２−１３ｐからなる擬共沸混合溶剤組成物およびシ
クロペンタンとＲ５２−１３ｐからなる擬共沸混合溶剤
組成物である。
成すべくなされたものであり、炭化水素類および１Ｈ−
ペルフルオロヘキサン［Ｈ（ＣＦ2 ）6 Ｆ］（以下、Ｒ
５２−１３ｐという)を含む混合溶剤組成物、ｎ−ヘキ
サンとＲ５２−１３ｐからなる擬共沸または共沸混合溶
剤組成物、２，４−ジメチルペンタンとＲ５２−１３ｐ
からなる擬共沸混合溶剤組成物、３−メチルペンタンと
Ｒ５２−１３ｐからなる擬共沸混合溶剤組成物およびシ
クロペンタンとＲ５２−１３ｐからなる擬共沸混合溶剤
組成物である。
【０００８】本発明の組成物に用いられるｎ−ヘキサ
ン、２，４−ジメチルペンタン、３−メチルペンタンお
よびシクロペンタン以外の炭化水素類としては、以下の
炭素数５以上の炭化水素類が好ましく、これらの少なく
とも１種または２種以上の混合物を使用できる。
ン、２，４−ジメチルペンタン、３−メチルペンタンお
よびシクロペンタン以外の炭化水素類としては、以下の
炭素数５以上の炭化水素類が好ましく、これらの少なく
とも１種または２種以上の混合物を使用できる。
【０００９】ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、２，２
−ジメチルプロパン、２，２−ジメチルブタン、２，３
−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサ
ン、３−メチルヘキサン、２−メチルペンタン、２，２
−ジメチルペンタン、２，３−ジメチルペンタン、ｎ−
オクタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，
４−トリメチルペンタン、メチルシクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン。
−ジメチルプロパン、２，２−ジメチルブタン、２，３
−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサ
ン、３−メチルヘキサン、２−メチルペンタン、２，２
−ジメチルペンタン、２，３−ジメチルペンタン、ｎ−
オクタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，
４−トリメチルペンタン、メチルシクロペンタン、シク
ロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキ
サン。
【００１０】本発明の炭化水素類を含むＲ５２−１３ｐ
からなる混合溶剤組成物の混合組成比は特に限定される
ことはなく、炭化水素類／Ｒ５２−１３ｐ＝１〜９９重
量％／１〜９９重量％の広い範囲で使用できる。
からなる混合溶剤組成物の混合組成比は特に限定される
ことはなく、炭化水素類／Ｒ５２−１３ｐ＝１〜９９重
量％／１〜９９重量％の広い範囲で使用できる。
【００１１】ｎ−ヘキサン１〜５０重量％とＲ５２−１
３ｐ５０〜９９重量％は擬共沸組成を作り、さらにｎ−
ヘキサン３０重量％とＲ５２−１３ｐ７０重量％は共沸
組成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほと
んど無いか、または全く無く使用できるので好ましい。
３ｐ５０〜９９重量％は擬共沸組成を作り、さらにｎ−
ヘキサン３０重量％とＲ５２−１３ｐ７０重量％は共沸
組成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほと
んど無いか、または全く無く使用できるので好ましい。
【００１２】２，４−ジメチルペンタン１〜１０重量％
とＲ５２−１３ｐ９０〜９９重量％は擬共沸組成を作る
ので、この範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使
用できるので好ましい。
とＲ５２−１３ｐ９０〜９９重量％は擬共沸組成を作る
ので、この範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使
用できるので好ましい。
【００１３】３−メチルペンタン２０〜５０重量％とＲ
５２−１３ｐ５０〜８０重量％は擬共沸組成を作るの
で、この範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使用
できるので好ましい。
５２−１３ｐ５０〜８０重量％は擬共沸組成を作るの
で、この範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使用
できるので好ましい。
【００１４】シクロペンタン１〜１０重量％とＲ５２−
１３ｐ９０〜９９重量％は擬共沸組成を作るので、この
範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使用できるの
で好ましい。
１３ｐ９０〜９９重量％は擬共沸組成を作るので、この
範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使用できるの
で好ましい。
【００１５】メチルシクロペンタン１〜５０重量％とＲ
５２−１３ｐ５０〜９９重量％は擬共沸組成を作るの
で、この範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使用
できるので好ましい。
５２−１３ｐ５０〜９９重量％は擬共沸組成を作るの
で、この範囲で使用すれば組成変化がほとんどなく使用
できるので好ましい。
【００１６】溶解性を高めるために、例えば以下に挙げ
る化合物の一種または二種以上を１〜５０重量％、好ま
しくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量
％の範囲で本発明の組成物中へ混合することができる。
る化合物の一種または二種以上を１〜５０重量％、好ま
しくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量
％の範囲で本発明の組成物中へ混合することができる。
【００１７】ジクロロメタン、１，１−ジクロロエタ
ン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ−
１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テト
ラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類。
ン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ−
１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テト
ラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類。
【００１８】メタノール、エタノール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール
類。
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール
類。
【００１９】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
【００２０】ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テ
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類。
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類。
【００２１】酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類。
酢酸ブチル等のエステル類。
【００２２】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の一種または二種以上を０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で本
発明の組成物中へ混合できる。
下に挙げる化合物の一種または二種以上を０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で本
発明の組成物中へ混合できる。
【００２３】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
【００２４】ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｉ−
プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン等の
アミン類。
プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン等の
アミン類。
【００２５】フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェノール
類。
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェノール
類。
【００２６】２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−
フェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリア
ゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル)
アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾール類。
フェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリア
ゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル)
アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾール類。
【００２７】本発明の混合溶剤組成物は、従来のＲ１１
３系と同程度の溶解力を有し、組成変化がきわめて少な
いか全くない、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各
種用途に好適に使用できる。かかる具体的な用途として
は、フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の
除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、
プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げら
れる。
３系と同程度の溶解力を有し、組成変化がきわめて少な
いか全くない、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各
種用途に好適に使用できる。かかる具体的な用途として
は、フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の
除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、
プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、
電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げら
れる。
【００２８】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
【００２９】
【実施例】以下の記載において、略号で示した物質名は
表１８のとおりである。
表１８のとおりである。
【００３０】［例１］種々の組成からなるＲ５２−１３
ｐとｎ−Ｈの混合溶剤組成物２５０ｃｃをオスマー型気
液平衡蒸留装置に入れ、加熱して平衡状態に達した後、
気相と液相とを採取しガスクロマトグラフで分析する。
その結果を表１に示す。共沸組成はＲ５２−１３ｐ／ｎ
−Ｈ＝７０／３０重量％である。
ｐとｎ−Ｈの混合溶剤組成物２５０ｃｃをオスマー型気
液平衡蒸留装置に入れ、加熱して平衡状態に達した後、
気相と液相とを採取しガスクロマトグラフで分析する。
その結果を表１に示す。共沸組成はＲ５２−１３ｐ／ｎ
−Ｈ＝７０／３０重量％である。
【００３１】［例２］共沸組成を確認するため、Ｒ５２
−１３ｐ／ｎ−Ｈ＝７０／３０重量％からなる混合溶剤
組成物１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論段数５段
の精留塔に取り付ける。次にその組成物を加熱して２時
間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取
しガスクロマトグラフで分析する。その結果を表２に示
す。
−１３ｐ／ｎ−Ｈ＝７０／３０重量％からなる混合溶剤
組成物１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論段数５段
の精留塔に取り付ける。次にその組成物を加熱して２時
間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取
しガスクロマトグラフで分析する。その結果を表２に示
す。
【００３２】［例３］Ｒ５２−１３ｐ／ｎ−Ｈ＝９９／
１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式
洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転する。経
時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガス
クロマトグラフでの分析結果を表３に示す。
１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式
洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転する。経
時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガス
クロマトグラフでの分析結果を表３に示す。
【００３３】［例４］Ｒ５２−１３ｐ／ｎ−Ｈ＝５０／
５０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた他
は例３と同様に行う。その結果を表４に示す。
５０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた他
は例３と同様に行う。その結果を表４に示す。
【００３４】［例５］Ｒ５２−１３ｐ／２，４−ＤＭＰ
＝９０／１０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表５に示す。
＝９０／１０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表５に示す。
【００３５】［例６］Ｒ５２−１３ｐ／２，４−ＤＭＰ
＝９９／１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用
いた他は例３と同様に行う。その結果を表６に示す。
＝９９／１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用
いた他は例３と同様に行う。その結果を表６に示す。
【００３６】［例７］Ｒ５２−１３ｐ／２，４−ＤＭＰ
／ｎ−Ｈ／２，２−ＤＭＰ／２，３−ＤＭＰ／ｃｙｃｌ
ｏＨ＝９９／６／１／１／１／１重量％からなる混合溶
剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。その
結果を表７に示す。
／ｎ−Ｈ／２，２−ＤＭＰ／２，３−ＤＭＰ／ｃｙｃｌ
ｏＨ＝９９／６／１／１／１／１重量％からなる混合溶
剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。その
結果を表７に示す。
【００３７】［例８］Ｒ５２−１３ｐ／３−ＭＰ＝５０
／５０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた
他は例３と同様に行う。その結果を表８に示す。
／５０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた
他は例３と同様に行う。その結果を表８に示す。
【００３８】［例９］Ｒ５２−１３ｐ／３−ＭＰ＝８０
／２０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた
他は例３と同様に行う。その結果を表９に示す。
／２０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた
他は例３と同様に行う。その結果を表９に示す。
【００３９】［例１０］Ｒ５２−１３ｐ／３−ＭＰ／
２，３−ＤＭＢ／２−ＭＰ＝８０／１５／３／２重量％
からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同
様に行う。その結果を表１０に示す。
２，３−ＤＭＢ／２−ＭＰ＝８０／１５／３／２重量％
からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同
様に行う。その結果を表１０に示す。
【００４０】［例１１］Ｒ５２−１３ｐ／ｃｙｃｌｏＰ
＝９０／１０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表１１に示
す。
＝９０／１０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表１１に示
す。
【００４１】［例１２］Ｒ５２−１３ｐ／ｃｙｃｌｏＰ
＝９９／１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用
いた他は例３と同様に行う。その結果を表１２に示す。
＝９９／１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用
いた他は例３と同様に行う。その結果を表１２に示す。
【００４２】［例１３］Ｒ５２−１３ｐ／ｃｙｃｌｏＰ
／ｎ−Ｐ／２，２−ＤＭＢ／ｎ−Ｈ／ＭｃｙｃｌｏＰ＝
９０／９．５／０．２／０．１／０．１／０．１重量％
からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同
様に行う。その結果を表１３に示す。
／ｎ−Ｐ／２，２−ＤＭＢ／ｎ−Ｈ／ＭｃｙｃｌｏＰ＝
９０／９．５／０．２／０．１／０．１／０．１重量％
からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同
様に行う。その結果を表１３に示す。
【００４３】［例１４］Ｒ５２−１３ｐ／Ｍｃｙｃｌｏ
Ｐ＝５０／５０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇ
を用いた他は例３と同様に行う。その結果を表１４に示
す。
Ｐ＝５０／５０重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇ
を用いた他は例３と同様に行う。その結果を表１４に示
す。
【００４４】［例１５］Ｒ５２−１３ｐ／Ｍｃｙｃｌｏ
Ｐ＝９９／１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表１５に示
す。
Ｐ＝９９／１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表１５に示
す。
【００４５】［例１６〜２９］表１６に示す混合溶剤組
成物を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、ＳＵ
Ｓ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍ
ｍ）を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した
後、表１６に示す本発明の混合溶剤組成物中に５分浸漬
する。機械油の除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残
存、×: かなり残存）を判定し、その結果を表１６のＡ
欄に示す。
成物を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、ＳＵ
Ｓ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍ
ｍ）を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した
後、表１６に示す本発明の混合溶剤組成物中に５分浸漬
する。機械油の除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残
存、×: かなり残存）を判定し、その結果を表１６のＡ
欄に示す。
【００４６】［例３０〜４３］表１７に示す溶剤用組成
物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、ガ
ラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍｍ
×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラック
スＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、２
６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付
け後、表１７に示す本発明の溶剤用組成物に３分間浸漬
し洗浄を行う。フラックスの除去度（◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存）を判定し、その結
果を表１７のＢ欄に示す。
物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、ガ
ラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍｍ
×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラック
スＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、２
６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付
け後、表１７に示す本発明の溶剤用組成物に３分間浸漬
し洗浄を行う。フラックスの除去度（◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存）を判定し、その結
果を表１７のＢ欄に示す。
【００４７】同様に表１７に示す溶剤用組成物を用いて
付着水の除去試験を行う。すなわち、３０ｍｍ×１８ｍ
ｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表１７に示す本
発明の溶剤用組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、
取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその
水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水の
除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり
残存）を判定し、その結果を表１７のＣ欄に示す。
付着水の除去試験を行う。すなわち、３０ｍｍ×１８ｍ
ｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表１７に示す本
発明の溶剤用組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、
取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその
水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水の
除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり
残存）を判定し、その結果を表１７のＣ欄に示す。
【００４８】
【表１】
【００４９】
【表２】
【００５０】
【表３】
【００５１】
【表４】
【００５２】
【表５】
【００５３】
【表６】
【００５４】
【表７】
【００５５】
【表８】
【００５６】
【表９】
【００５７】
【表１０】
【００５８】
【表１１】
【００５９】
【表１２】
【００６０】
【表１３】
【００６１】
【表１４】
【００６２】
【表１５】
【００６３】
【表１６】
【００６４】
【表１７】
【００６５】
【表１８】
【００６６】
【発明の効果】本発明の炭化水素類およびＲ５２−１３
ｐを含む溶剤組成物は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとんど影響を与
えない等の利点がある。
ｐを含む溶剤組成物は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとんど影響を与
えない等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｌ Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内 (72)発明者 大春 一也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内
Claims (9)
- 【請求項１】炭化水素類および１Ｈ−ペルフルオロヘキ
サンを含む混合溶剤組成物。 - 【請求項２】炭化水素類と１Ｈ−ペルフルオロヘキサン
の混合割合が炭化水素類／１Ｈ−ペルフルオロヘキサン
＝１〜９９重量％／１〜９９重量％である請求項１の混
合溶剤組成物。 - 【請求項３】炭化水素類がｎ−ヘキサン、２，４−ジメ
チルペンタン、３−メチルペンタン、シクロペンタンま
たはメチルシクロペンタンである請求項１または２の混
合溶剤組成物。 - 【請求項４】ｎ−ヘキサン１〜５０重量％と１Ｈ−ペル
フルオロヘキサン５０〜９９重量％からなる擬共沸混合
溶剤組成物。 - 【請求項５】ｎ−ヘキサン３０重量％と１Ｈ−ペルフル
オロヘキサン７０重量％からなる共沸混合溶剤組成物。 - 【請求項６】２，４−ジメチルペンタン１〜１０重量％
と１Ｈ−ペルフルオロヘキサン９０〜９９重量％からな
る擬共沸混合溶剤組成物。 - 【請求項７】３−メチルペンタン２０〜５０重量％と１
Ｈ−ペルフルオロヘキサン５０〜８０重量％からなる擬
共沸混合溶剤組成物。 - 【請求項８】シクロペンタン１〜１０重量％と１Ｈ−ペ
ルフルオロヘキサン９０〜９９重量％からなる擬共沸混
合溶剤組成物。 - 【請求項９】メチルシクロペンタン１〜５０重量％と１
Ｈ−ペルフルオロヘキサン５０〜９９重量％からなる擬
共沸混合溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205661A JPH0867644A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 混合溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205661A JPH0867644A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 混合溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0867644A true JPH0867644A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16510598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6205661A Pending JPH0867644A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 混合溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0867644A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0851016A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-01 | AEROSPATIALE Société Nationale Industrielle | Composition hydrofuge |
| JP2003221596A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤 |
| JP2003292992A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤および洗浄方法 |
| CN114518663A (zh) * | 2022-02-21 | 2022-05-20 | 重庆京东方电子科技有限公司 | 盖板的油墨区的修复方法、盖板、显示面板和显示装置 |
-
1994
- 1994-08-30 JP JP6205661A patent/JPH0867644A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0851016A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-01 | AEROSPATIALE Société Nationale Industrielle | Composition hydrofuge |
| FR2757871A1 (fr) * | 1996-12-27 | 1998-07-03 | Aerospatiale | Composition hydrofuge comprenant un agent hydrophobe et un solvant, application a l'elimination de l'eau de surface notamment de pare-brise de vehicules ou d'aeronefs |
| JP2003221596A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤 |
| JP2003292992A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤および洗浄方法 |
| CN114518663A (zh) * | 2022-02-21 | 2022-05-20 | 重庆京东方电子科技有限公司 | 盖板的油墨区的修复方法、盖板、显示面板和显示装置 |
| CN114518663B (zh) * | 2022-02-21 | 2024-04-19 | 重庆京东方电子科技有限公司 | 盖板的油墨区的修复方法、盖板、显示面板和显示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970002043B1 (ko) | 히드로클로로플루오로카본 공비 또는 공비형 혼합물 | |
| JPH05171190A (ja) | 洗浄用の溶剤組成物 | |
| US5827454A (en) | Mixed solvent composition | |
| US5648325A (en) | Mixed solvent composition with 1-H-perfluorohexane, methanol or ethanol, and optionally a hydrocarbon | |
| JPH07113098A (ja) | 擬共沸溶剤組成物 | |
| JPH0867644A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| JPH0762394A (ja) | 混合溶剤 | |
| JPH07173498A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| JPH0867897A (ja) | 改良された溶剤組成物 | |
| JPH07166199A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| JPH0718296A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| JPH07113097A (ja) | 溶剤用組成物 | |
| JPH0543495A (ja) | 混合溶剤組成物および擬共沸溶剤組成物 | |
| JP2981020B2 (ja) | 混合溶剤組成物及び共沸様溶剤組成物 | |
| JPH07316595A (ja) | 溶剤組成物 | |
| JPH09111295A (ja) | 擬共沸溶剤組成物 | |
| US6395699B1 (en) | Method of removing grease, oil or flux from an article | |
| JP3346946B2 (ja) | 溶剤組成物 | |
| JPH07166198A (ja) | 溶剤組成物 | |
| JP2830419B2 (ja) | ジクロロペンタフルオロプロパン系擬共沸組成物 | |
| JP2003201499A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| EP0710715A1 (en) | Mixed solvent composition | |
| JPH07324200A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| JPH0834996A (ja) | 混合溶剤組成物 | |
| JPH0762392A (ja) | 溶剤組成物 |