JPH0762394A - 混合溶剤 - Google Patents
混合溶剤Info
- Publication number
- JPH0762394A JPH0762394A JP23565793A JP23565793A JPH0762394A JP H0762394 A JPH0762394 A JP H0762394A JP 23565793 A JP23565793 A JP 23565793A JP 23565793 A JP23565793 A JP 23565793A JP H0762394 A JPH0762394 A JP H0762394A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- propanol
- weight
- mixed solvent
- compounding
- compsn
- Prior art date
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- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフ
ルオロヘキサン（Ｒ５６９ｓｆ）と２−プロパノール、
又はこれに炭素数５以上の炭化水素類とを配合してなる
混合溶剤。Ｒ５６９ｓｆと２−プロパノールの共沸
（様）混合溶剤。 【効果】従来の１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へ影響を与えない等の利点がある。
ルオロヘキサン（Ｒ５６９ｓｆ）と２−プロパノール、
又はこれに炭素数５以上の炭化水素類とを配合してなる
混合溶剤。Ｒ５６９ｓｆと２−プロパノールの共沸
（様）混合溶剤。 【効果】従来の１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へ影響を与えない等の利点がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、ＩＣ等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる混合溶剤に関する。
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる混合溶剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン( 以下、Ｒ１１３と
いう。) 又はこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混合
溶剤が広く使用されている。Ｒ１１３は、金属、プラス
チック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを
選択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械
部品や金属、プラスチック、エラストマー等からなる各
種電子部品、またこれらの電子部品を実装したプリント
基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には最適であっ
た。
燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン( 以下、Ｒ１１３と
いう。) 又はこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混合
溶剤が広く使用されている。Ｒ１１３は、金属、プラス
チック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを
選択的に溶解する等の特徴を有するため、各種精密機械
部品や金属、プラスチック、エラストマー等からなる各
種電子部品、またこれらの電子部品を実装したプリント
基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には最適であっ
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたＲ
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
に極めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジ
カルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖
反応を起こし、オゾン層を破壊することから、その生産
・使用規制が実施されている。
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
に極めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散し
て成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジ
カルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖
反応を起こし、オゾン層を破壊することから、その生産
・使用規制が実施されている。
【０００４】このため、従来のＲ１１３に替わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，
１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，
２−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，
１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，
１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，
２−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，
１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。
【０００５】これらの代替溶剤は、Ｒ１１３と同様に優
れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も
極めて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原子
を含むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響を
与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさらに
優れた代替溶剤の開発が望まれている。
れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も
極めて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原子
を含むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響を
与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさらに
優れた代替溶剤の開発が望まれている。
【０００６】本発明は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない
代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系混
合溶剤を提供することを目的とするものである。
れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない
代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系混
合溶剤を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、第一に１，１，１，２，
２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン( 以下、Ｒ
５６９ｓｆという) と２−プロパノールとからなる混合
溶剤を提供する。さらに本発明は、第二にＲ５６９ｓｆ
と２−プロパノールとからなる擬共沸又は共沸混合溶剤
を提供する。さらに本発明は、第三にＲ５６９ｓｆと２
−プロパノールと炭素数５以上の炭化水素類とからなる
混合溶剤を提供する。
成すべくなされたものであり、第一に１，１，１，２，
２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン( 以下、Ｒ
５６９ｓｆという) と２−プロパノールとからなる混合
溶剤を提供する。さらに本発明は、第二にＲ５６９ｓｆ
と２−プロパノールとからなる擬共沸又は共沸混合溶剤
を提供する。さらに本発明は、第三にＲ５６９ｓｆと２
−プロパノールと炭素数５以上の炭化水素類とからなる
混合溶剤を提供する。
【０００８】本発明の混合溶剤組成物は、Ｒ５６９ｓｆ
を主成分として含有するものであり、これに２−プロパ
ノールを配合してなるものであり、さらにこの組成物に
炭素数５以上の炭化水素類を配合することができる。
を主成分として含有するものであり、これに２−プロパ
ノールを配合してなるものであり、さらにこの組成物に
炭素数５以上の炭化水素類を配合することができる。
【０００９】本発明の組成物に用いられる炭素数５以上
の炭化水素類としては、ｎ−ペンタン、２−メチルブタ
ン、２，２−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、２−メ
チルペンタン、３−メチルペンタン、２，２−ジメチル
ブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−
メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，３−ジメチ
ルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタ
ン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，４−ト
リメチルペンタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等および
これらの混合物が挙げられるが、これに限定されない。
の炭化水素類としては、ｎ−ペンタン、２−メチルブタ
ン、２，２−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、２−メ
チルペンタン、３−メチルペンタン、２，２−ジメチル
ブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−
メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，３−ジメチ
ルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタ
ン、２，２，３−トリメチルペンタン、２，２，４−ト
リメチルペンタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等および
これらの混合物が挙げられるが、これに限定されない。
【００１０】本発明の混合溶剤の混合組成比は特に限定
されないが、好ましくはＲ５６９ｓｆ５０〜９９重量
％、２−プロパノール１〜５０重量％、又は、Ｒ５６９
ｓｆ５０〜９８重量％、炭素数５以上の炭化水素類１〜
２５重量％、２−プロパノール１〜２５重量％である。
されないが、好ましくはＲ５６９ｓｆ５０〜９９重量
％、２−プロパノール１〜５０重量％、又は、Ｒ５６９
ｓｆ５０〜９８重量％、炭素数５以上の炭化水素類１〜
２５重量％、２−プロパノール１〜２５重量％である。
【００１１】また、Ｒ５６９ｓｆと２−プロパノールか
らなる組成物はＲ５６９ｓｆ８５〜９５重量％、２−プ
ロパノール５〜１５重量％の範囲で擬共沸溶剤組成物を
作り、さらにＲ５６９ｓｆ９０．３重量％、２−プロパ
ノール９．７重量％で共沸組成を作るので、この範囲で
使用すれば組成変化がほとんど無く、又は全く無く使用
できるので好ましい。
らなる組成物はＲ５６９ｓｆ８５〜９５重量％、２−プ
ロパノール５〜１５重量％の範囲で擬共沸溶剤組成物を
作り、さらにＲ５６９ｓｆ９０．３重量％、２−プロパ
ノール９．７重量％で共沸組成を作るので、この範囲で
使用すれば組成変化がほとんど無く、又は全く無く使用
できるので好ましい。
【００１２】本発明の組成物においては、必要に応じて
その他の成分の少なくとも１種を混合溶剤中に１〜９０
重量％、好ましくは５〜５０重量％の範囲で更に添加混
合することができる。
その他の成分の少なくとも１種を混合溶剤中に１〜９０
重量％、好ましくは５〜５０重量％の範囲で更に添加混
合することができる。
【００１３】例えば、ジクロロメタン、ｃｉｓ−１，２
−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエ
チレン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−
トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン等の塩素化炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジエチルエ
ーテル、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン等のエーテル類、２，２−ジクロロ−
１，１，１，−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ
−１−フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，
１，２，２，−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジク
ロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン、
１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオ
ロプロパン、１，２−ジクロロ−１，１，３，３，３−
ペンタフルオロプロパン、１，２−ジクロロ−１，１，
２，３，３−ペンタフルオロプロパン、２，３−ジクロ
ロ−１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパン、
２，２−ジクロロ−１，１，１，３，３−ペンタフルオ
ロプロパン等の塩素化フッ素化炭化水素類、ニトロメタ
ン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物類、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ｉ−プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルア
ミン等のアミン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル等のエステル類、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ
−クレゾール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブ
チルフェノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、
イソオイゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’
−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチ
ル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチ
ル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェ
ノール類、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル- フ
ェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル) −５−ク
ロロベンゾトリアゾール、１、２、３−ベンゾトリアゾ
ール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル) アミ
ノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類等を
適宜添加することができる。
−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエ
チレン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−
トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロ
エチレン等の塩素化炭化水素類、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジエチルエ
ーテル、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１，
４−ジオキサン等のエーテル類、２，２−ジクロロ−
１，１，１，−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ
−１−フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，
１，２，２，−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジク
ロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン、
１，１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオ
ロプロパン、１，２−ジクロロ−１，１，３，３，３−
ペンタフルオロプロパン、１，２−ジクロロ−１，１，
２，３，３−ペンタフルオロプロパン、２，３−ジクロ
ロ−１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパン、
２，２−ジクロロ−１，１，１，３，３−ペンタフルオ
ロプロパン等の塩素化フッ素化炭化水素類、ニトロメタ
ン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物類、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ｉ−プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルア
ミン等のアミン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル等のエステル類、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ
−クレゾール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブ
チルフェノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、
イソオイゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’
−ジヒドロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチ
ル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチ
ル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェ
ノール類、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル- フ
ェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル) −５−ク
ロロベンゾトリアゾール、１、２、３−ベンゾトリアゾ
ール、１−［Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル) アミ
ノメチル] ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類等を
適宜添加することができる。
【００１４】本発明の混合溶剤は、従来のＲ１１３系と
同程度の溶解力を有し、組成変化が無いか極めて少な
い、共沸ないしは擬共沸組成物を形成し、各種用途に好
適に使用できる。かかる具体的な用途としては、フラッ
クス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗
料用溶剤、付着水除去溶剤、抽出剤、ガラス、セラミッ
クス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ
等の電子部品、電子・電気機器、精密機械、光学レンズ
等の洗浄剤等が挙げられる。
同程度の溶解力を有し、組成変化が無いか極めて少な
い、共沸ないしは擬共沸組成物を形成し、各種用途に好
適に使用できる。かかる具体的な用途としては、フラッ
クス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗
料用溶剤、付着水除去溶剤、抽出剤、ガラス、セラミッ
クス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ
等の電子部品、電子・電気機器、精密機械、光学レンズ
等の洗浄剤等が挙げられる。
【００１５】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。
【００１６】
［実施例１］表１の組成の溶剤組成物１０００ｇを蒸留
フラスコに入れ、理論段数５段の精留塔に取り付けた。
フラスコに入れ、理論段数５段の精留塔に取り付けた。
【００１７】
【表１】
【００１８】次にその混合溶剤を加熱して２時間全還流
し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取しガスク
ロマトグラフで分析した。その結果を表２に示す。
し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取しガスク
ロマトグラフで分析した。その結果を表２に示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】［実施例２］Ｒ５６９ｓｆ９５重量％と２
−プロパノール５重量％からなる混合溶剤２０ｋｇを小
型単槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転
した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリング
し、ガスクロマトグラフで分析した結果を表３に示す。
−プロパノール５重量％からなる混合溶剤２０ｋｇを小
型単槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転
した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリング
し、ガスクロマトグラフで分析した結果を表３に示す。
【００２１】
【表３】
【００２２】［実施例３］Ｒ５６９ｓｆ８５重量％と２
−プロパノール１５重量％からなる混合溶剤２０ｋｇを
小型単槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運
転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリン
グし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表４に示
す。
−プロパノール１５重量％からなる混合溶剤２０ｋｇを
小型単槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運
転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリン
グし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表４に示
す。
【００２３】
【表４】
【００２４】［実施例４〜９］表５に示す混合溶剤組成
物を用いてフラックスの洗浄試験を行った。すなわち、
ガラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍ
ｍ×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラッ
クスＡＧＦ＝Ｊ＝Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、
２６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田
付け後、表５に示す本発明の混合溶剤組成物に５分間浸
漬し洗浄を行った。フラックスの除去の度合を判定し、
その結果を除去度として表５に示す。
物を用いてフラックスの洗浄試験を行った。すなわち、
ガラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍ
ｍ×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラッ
クスＡＧＦ＝Ｊ＝Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、
２６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田
付け後、表５に示す本発明の混合溶剤組成物に５分間浸
漬し洗浄を行った。フラックスの除去の度合を判定し、
その結果を除去度として表５に示す。
【００２５】
【表５】
【００２６】［実施例１０〜１３］表６に示す混合溶剤
組成物を用いて機械油の洗浄試験を行った。すなわち、
ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×
２ｍｍ) を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬
後、表６に示す本発明の混合溶剤組成物中に５分浸漬し
た。機械油の除去の度合を判定し、その結果を除去度と
して表６に示す。
組成物を用いて機械油の洗浄試験を行った。すなわち、
ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×
２ｍｍ) を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬
後、表６に示す本発明の混合溶剤組成物中に５分浸漬し
た。機械油の除去の度合を判定し、その結果を除去度と
して表６に示す。
【００２７】
【表６】
【００２８】［実施例１４〜１８］表７に示す混合溶剤
組成物を用いて付着水の除去試験を行った。すなわち、
３０ｍｍ×１８ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬
後、表７に示す本発明の混合溶剤組成物中に２０秒浸漬
して水切りを行い、取り出したガラス板を無水メタノー
ル中に浸漬してその水分増加量から付着水の除去状況を
判定した。付着水の除去の度合を除去度として表７に示
す。
組成物を用いて付着水の除去試験を行った。すなわち、
３０ｍｍ×１８ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬
後、表７に示す本発明の混合溶剤組成物中に２０秒浸漬
して水切りを行い、取り出したガラス板を無水メタノー
ル中に浸漬してその水分増加量から付着水の除去状況を
判定した。付着水の除去の度合を除去度として表７に示
す。
【００２９】
【表７】
【００３０】
【発明の効果】本発明の１，１，１，２，２，３，３，
４，４−ノナフルオロヘキサンと２−プロパノール、又
はこれに炭素数５以上の炭化水素類を配合してなる混合
溶剤組成物は、従来のＲ１１３が有している優れた特性
を満足し、成層圏オゾン層へ影響を与えない等の利点が
ある。
４，４−ノナフルオロヘキサンと２−プロパノール、又
はこれに炭素数５以上の炭化水素類を配合してなる混合
溶剤組成物は、従来のＲ１１３が有している優れた特性
を満足し、成層圏オゾン層へ影響を与えない等の利点が
ある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内 (72)発明者 宇佐見 陽子 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町松原1160番 地 エイ・ジー・テクノロジー株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノ
ナフルオロヘキサン５０〜９９重量％と２−プロパノー
ル１〜５０重量％とからなる混合溶剤。 - 【請求項２】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノ
ナフルオロヘキサン８５〜９５重量％と２−プロパノー
ル５〜１５重量％とからなる擬共沸混合溶剤。 - 【請求項３】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノ
ナフルオロヘキサン９０．３重量％と２−プロパノール
９．７重量％とからなる共沸混合溶剤。 - 【請求項４】１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノ
ナフルオロヘキサン５０〜９８重量％と２−プロパノー
ル１〜２５重量％と炭素数５以上の炭化水素類１〜２５
重量％とからなる混合溶剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23565793A JPH0762394A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 混合溶剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23565793A JPH0762394A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 混合溶剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0762394A true JPH0762394A (ja) | 1995-03-07 |
Family
ID=16989268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23565793A Pending JPH0762394A (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 混合溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762394A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004000977A1 (ja) * | 2002-06-20 | 2003-12-31 | Asahi Glass Company, Limited | 潤滑剤溶液、および潤滑剤の塗布方法 |
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| EP1900801A1 (en) | 2006-09-14 | 2008-03-19 | FUJIFILM Corporation | Substrate water-removing agent, and water-removing method and drying method employing same |
| US7754665B2 (en) | 2002-06-20 | 2010-07-13 | Asahi Glass Company, Limited | Lubricant solution and method for coating lubricant |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP23565793A patent/JPH0762394A/ja active Pending
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