JPH07173498A - 混合溶剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサンとメ
タノールからなる混合溶剤組成物又は（擬）共沸混合溶
剤組成物。又は、R569sfとメタノールと炭素数５以上の
炭化水素類からなる混合溶剤組成物。 【効果】この混合溶剤組成物は、従来のR113が有する優
れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとんど影響を与
えない等の利点がある。また、その（擬）共沸組成物
は、組成変化なく連続使用できる利点がある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、ＩＣ等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる混合溶剤組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる 1,1,2- トリクロロ-1,
2,2- トリフルオロエタン( 以下、R113という。) 又は
このR113とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が広く
使用されている。R113は、金属、プラスチック、エラス
トマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解す
る等の特徴を有するため、各種精密機械部品や金属、プ
ラスチック、エラストマー等からなる各種電子部品、ま
たこれらの電子部品を実装したプリント基板、精密機械
部品、光学部品等の洗浄には最適であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR1
13は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的に極
めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して成
層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジカル
を発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊することから、その生産・使
用規制が実施されている。

【０００４】このため、従来のR113に代わり、オゾン層
を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われている。
この代替溶剤としては、2,2-ジクロロ-1,1,1- トリフル
オロエタン、1,1-ジクロロ-1- フルオロエタン、3,3-ジ
クロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロプロパン、1,3-ジク
ロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロプロパン等が開発され
ている。

【０００５】これらの代替溶剤は、R113と同様に優れた
洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も極め
て小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原子を含
むためごく僅かではあるがオゾン層へ若干の影響を与え
る。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさらに優れ
た代替溶剤の開発が望まれている。

【０００６】本発明は、従来のR113が有している優れた
特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない代替
溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素系混合溶
剤組成物の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、第一に1,1,1,
2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン( 以下、R569sfとい
う。) とメタノールとからなる混合溶剤組成物を提供す
る。

【０００８】さらに本発明は、第二にR569sfとメタノー
ルとからなる擬共沸又は共沸混合溶剤組成物を提供す
る。

【０００９】さらに本発明は、第三にR569sfとメタノー
ルと炭素数５以上の炭化水素類とからなる混合溶剤組成
物を提供する。

【００１０】本発明の混合溶剤組成物は、R569sfを主成
分として含有するものであり、これにメタノールを配合
してなるものであり、さらにこの組成物に炭素数５以上
の炭化水素類を配合することができる。

【００１１】本発明の組成物に用いられる炭素数５以上
の炭化水素類としては、n-ペンタン、2-メチルブタン、
2,2-ジメチルプロパン、n-ヘキサン、2-メチルペンタ
ン、3-メチルペンタン、2,2-ジメチルブタン、2,3-ジメ
チルブタン、n-ヘプタン、2-メチルヘキサン、3-メチル
ヘキサン、2,3-ジメチルペンタン、2,4-ジメチルペンタ
ン、n-オクタン、2,2,3-トリメチルペンタン、2,2,4-ト
リメチルペンタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、
メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等および
これらの混合物が挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。

【００１２】本発明の混合溶剤組成物の混合組成比は特
に限定されることはないが、好ましくはR569sf 50 〜99
重量％、メタノール 1〜50重量％、又は、R569sf 50 〜
98重量％、炭素数５以上の炭化水素類 1〜25重量％、メ
タノール 1〜25重量％である。また、R569sfとメタノー
ルからなる組成物はR569sf 80 〜95重量％、メタノール
5〜20重量％の範囲で擬共沸溶剤組成物を作り、さらに
R569sf 88 重量％、メタノール12重量％で共沸組成を作
るので、この範囲で使用すれば組成変化がほとんど無
く、又は全く無く使用できるので好ましい。

【００１３】主として溶解性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の一種又は二種以上を０．１〜５０重
量％、好ましくは０．１〜３０重量％、さらに好ましく
は０．１〜２０重量％の範囲で本発明の組成物中へ添加
混合することができる。

【００１４】ジクロロメタン、cis-1,2-ジクロロエチレ
ン、trans-1,2-ジクロロエチレン、1,1,1-トリクロロエ
タン、1,1,2-トリクロロエタン、トリクロロエチレン、
テトラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類。エタノー
ル、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、
2-ブタノール、イソブタノール、t-ブタノール等のアル
コール類。

【００１５】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。ジ
エチルエーテル、メチルセロソルブ、テトラヒドロフラ
ン、1,4-ジオキサン等のエーテル類。2,2-ジクロロ-1,
1,1- トリフルオロエタン、1,1-ジクロロ-1- フルオロ
エタン、3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロプロ
パン、1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロプロパ
ン、1,1-ジクロロ-1,2,2,3,3- ペンタフルオロプロパ
ン、1,2-ジクロロ-1,1,3,3,3- ペンタフルオロプロパ
ン、1,2-ジクロロ-1,1,2,3,3- ペンタフルオロプロパ
ン、2,3-ジクロロ-1,1,1,2,3- ペンタフルオロプロパ
ン、2,2-ジクロロ-1,1,1,3,3- ペンタフルオロプロパン
等の塩素化フッ素化炭化水素類。酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル等のエステル類。

【００１６】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の一種又は二種以上を０．００１〜１
０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で本発
明の組成物中へ添加混合することができる。

【００１７】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、i-プロピルアミン、ブチルア
ミン、i-ブチルアミン等のアミン類。フェノール、o-ク
レゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、チモール、p-
t-ブチルフェノール、t-ブチルカテコール、カテコー
ル、イソオイゲノール、o-メトキシフェノール、4,4'-
ジヒドロキシジフェニル-2,2- プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2,
6-ジ-t- ブチル-p- クレゾール等のフェノール類。

【００１８】2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル- フェニル)
ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-
5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、1,
2,3-ベンゾトリアゾール、1-[(N,N-ビス-2- エチルヘキ
シル) アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾー
ル類。

【００１９】本発明の混合溶剤は、従来のR113系と同程
度の溶解力を有し、組成変化が無いか極めて少ない、共
沸ないしは擬共沸組成物を形成し、各種用途に好適に使
用できる。かかる具体的な用途としては、フラックス、
グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗料用溶
剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴ
ム、金属製各種物品、特にＩＣ等の電子部品、電子・電
気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等が挙げられ
る。

【００２０】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄又はこれらを組み合わ
せた方法等を採用すればよい。

【００２１】

【実施例】

［実施例１］R569sf（沸点67.7℃） 85 重量％、メタノ
ール（沸点64.5℃） 15 重量％からなる混合溶剤組成物
１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論段数５段の精留
塔に取り付ける。次にその混合溶剤組成物を加熱して２
時間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採
取しガスクロマトグラフで分析する。その結果を表１に
示す。

【００２２】

【表１】

【００２３】［実施例２］R569sf 95 重量％とメタノー
ル 5重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽
式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転する。
経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガ
スクロマトグラフによる分析結果を表２に示す。

【００２４】

【表２】

【００２５】［実施例３］R569sf 80 重量％とメタノー
ル 20 重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを小型単
槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転す
る。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリング
し、ガスクロマトグラフによる分析結果を表３に示す。

【００２６】

【表３】

【００２７】［実施例４〜１１］表４に示す混合溶剤組
成物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、
ガラスエポキシ製プリント基板（50mm×100 mm×1.6mm
）全面にフラックス（スピーディフラックス AGF-J-
I：アサヒ化学研究所製）を塗布し、260 ℃の半田温度
でウエーブソルダー機を用いて半田付け後、表４に示す
本発明の混合溶剤組成物に５分間浸漬し洗浄する。フラ
ックスの除去の度合を判定し、その結果を除去度（◎：
良好に除去可、△：微量残存、×：かなり残存）として
表４に示す。

【００２８】

【表４】

【００２９】［実施例１２〜１５］表５に示す混合溶剤
組成物を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、SU
S-304 のテストピース(25mm ×30mm×2mm)を機械油（日
本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した後、表５に示す本発
明の混合溶剤組成物中に５分浸漬する。機械油の除去の
度合を判定し、その結果を除去度（◎：良好に除去可、
△：微量残存、×：かなり残存）として表５に示す。

【００３０】

【表５】

【００３１】［実施例１６〜２３］表６に示す混合溶剤
組成物を用いて付着水の除去試験を行う。すなわち、３
０ｍｍ×１８ｍｍ×5mm のガラス板を純水に浸漬後、表
６に示す本発明の混合溶剤組成物中に２０秒浸漬して水
切りを行い、取り出したガラス板を無水メタノール中に
浸漬しその水分増加量から付着水の除去状況を判定す
る。付着水の除去の度合を除去度（◎：良好に除去可、
△：微量残存、×：かなり残存）として表６に示す。

【００３２】

【表６】

【００３３】

【発明の効果】本発明のR569sfとメタノール、又はこれ
に炭素数５以上の炭化水素類を配合してなる混合溶剤組
成物は、従来のR113が有している優れた特性を満足し、
成層圏オゾン層へ影響を与えない等の利点がある。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:30 7:26） (72)発明者 大春 一也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
   50 〜99重量％とメタノール 1〜50重量％とからなる混
   合溶剤組成物。
2. 【請求項２】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
   80 〜95重量％とメタノール 5〜20重量％とからなる擬
   共沸混合溶剤組成物。
3. 【請求項３】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
   88 重量％とメタノール 12 重量％とからなる共沸混合
   溶剤組成物。
4. 【請求項４】1,1,1,2,2,3,3,4,4-ノナフルオロヘキサン
   50 〜98重量％とメタノール 1〜25重量％と炭素数５以
   上の炭化水素類 1〜25重量％とからなる混合溶剤組成
   物。