JP2003201499A - 混合溶剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】メタノールおよびエタノールから選ばれる少な
くとも１種、１Ｈ−ペルフルオロヘキサンおよび炭素数
５以上の炭化水素類を、（メタノールおよびエタノール
から選ばれる少なくとも１種）／（１Ｈ−ペルフルオロ
ヘキサン）／（炭素数５以上の炭化水素類）＝１〜２５
／５０〜９８／１〜２５重量％の割合で含む混合溶剤組
成物。 【効果】従来の１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へ影響を与えない代替混合溶剤組成物を
提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線基板、Ｉ
Ｃ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に
付着するフラックス、油類などの汚れまたは水分を除去
するために用いられる混合溶剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】フラックス類、各種油類等の除去または
付着水の除去には、不燃性、低毒性、安定性に優れる
１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエ
タン( 以下、Ｒ１１３という。) またはこのＲ１１３と
これに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が広く使用されて
いる。Ｒ１１３は、金属、プラスチック、エラストマー
などの基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解するな
どの特徴を有するため、各種精密機械部品や金属、プラ
スチック、エラストマーなどからなる各種電子部品、ま
たこれらの電子部品を実装したプリント配線基板、精密
機械部品、光学部品などの洗浄には最適であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたＲ
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、その生
産・消費規制が実施されている。

【０００４】このため、従来のＲ１１３に替わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，
１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，
３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，
１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンなどが開発さ
れている。

【０００５】これらの代替溶剤は、Ｒ１１３と同様に優
れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も
きわめて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原
子を含むためごくわずかではあるがオゾン層へ若干の影
響を与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさ
らに優れた代替溶剤の開発が望まれている。

【０００６】本発明は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない
代替溶剤として使用できる新規な共沸または擬共沸組成
物およびその用途を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、以下の（１）、（２）、
（３）および（４）から選ばれる１Ｈ−ペルフルオロヘ
キサン（Ｈ（ＣＦ₂ ） ₆ Ｆ、１，１，１，２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサ
ンともいう、以下、Ｒ５２−１３ｐという。) を主成分
とする混合溶剤組成物およびこれらの混合溶剤組成物を
用いて物品に付着する汚れまたは水分を除去する方法で
ある。

【０００８】（１）Ｒ５２−１３ｐ８９．２重量％とメ
タノール１０．８重量％とからなる共沸混合溶剤組成
物。

【０００９】（２）Ｒ５２−１３ｐ９１．１重量％とエ
タノール８．９重量％とからなる共沸混合溶剤組成物。

【００１０】（３）Ｒ５２−１３ｐ８０〜９９重量％と
エタノール１〜２０重量％とからなる擬共沸混合溶剤組
成物。

【００１１】（４）メタノールおよびエタノールから選
ばれる少なくとも１種、Ｒ５２−１３ｐおよび炭素数５
以上の炭化水素類を、（メタノールおよびエタノールか
ら選ばれる少なくとも１種）／（Ｒ５２−１３ｐ）／
（炭素数５以上の炭化水素類）＝１〜２５／５０〜９８
／１〜２５重量％の割合で含む混合溶剤組成物。

【００１２】Ｒ５２−１３ｐとメタノールとからなる共
沸組成物の混合組成比はＲ５２−１３ｐ／メタノール＝
８９．２重量％／１０．８重量％であり、この共沸組成
物の沸点は、１０１０ｈＰａにおいて５２．４℃であ
る。

【００１３】Ｒ５２−１３ｐとエタノールとからなる共
沸組成物の混合組成比はＲ５２−１３ｐ／エタノール＝
９１．１重量％／８．９重量％であり、この共沸組成物
の沸点は、１００４ｈＰａにおいて６０．０℃である。

【００１４】特開平５−１９４９９２号公報には、Ｒ５
２−１３ｐ／メタノール＝９１〜９５／５〜９重量％を
含む共沸様組成物が記載されているが、本発明は、この
共沸様組成物の組成範囲外に共沸組成が存在することを
見出したものである。本発明のＲ５２−１３ｐとメタノ
ールとからなる共沸組成物は、従来のＲ５２−１３ｐと
メタノールとからなる共沸様組成物に比べ、組成物を繰
り返し使用しても組成物の組成変化がなく、きわめて安
定した性能を維持できる利点がある。

【００１５】特開平５−１８６７９６号公報には、Ｒ５
２−１３ｐ／２−プロパノール＝８８〜９２／８〜１２
重量％を含む共沸様組成物が記載されている。また、特
開平３−２５２５００号公報には、Ｒ５２−１３ｐ／２
−プロパノール＝８０／２０重量％からなるフラックス
洗浄剤が記載されている。しかし、これらの組成物はい
ずれも共沸組成ではないために、組成物を繰り返し使用
した場合組成物の組成変化があり、安定した性能を維持
できない欠点がある。

【００１６】Ｒ５２−１３ｐとエタノールはＲ５２−１
３ｐ／エタノール＝８０〜９９重量％／１〜２０重量％
の範囲で擬共沸組成物を作る。

【００１７】本発明に用いられる炭素数５以上の炭化水
素類としては、炭素数５〜９の脂肪族炭化水素類、炭素
数５〜９の脂環族炭化水素類および炭素数６〜１２の芳
香族炭化水素類から選ばれる少なくとも１種が好まし
い。特に好ましい炭素数５以上の炭化水素類は、炭素数
５〜９の脂肪族飽和炭化水素類、炭素数５〜９の脂環族
飽和炭化水素類である。さらに好ましい炭素数５以上の
炭化水素類としては以下のものが挙げられる。

【００１８】ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、２，２
−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタ
ン、３−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、
２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘ
キサン、３−メチルヘキサン、２，３−ジメチルペンタ
ン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２，
２，３−トリメチルペンタン、２，２，４−トリメチル
ペンタンなどの炭素数５〜８の脂肪族炭化水素類および
シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサンなどの炭素数５〜８の脂環式
炭化水素類から選ばれる少なくとも１種。

【００１９】Ｒ５２−１３ｐ、メタノールおよび炭素数
５以上の炭化水素類を含む混合溶剤組成物中の混合割合
はＲ５２−１３ｐ／メタノール／炭素数５以上の炭化水
素類＝５０〜９８／１〜２５／１〜２５重量％、特にＲ
５２−１３ｐ／メタノール／炭素数５以上の炭化水素類
＝６０〜９８／１〜２０／１〜２０重量％が好ましい。

【００２０】Ｒ５２−１３ｐ、エタノールおよび炭素数
５以上の炭化水素類を含む混合溶剤組成物中の混合割合
はＲ５２−１３ｐ／エタノール／炭素数５以上の炭化水
素類＝５０〜９８／１〜２５／１〜２５重量％、特にＲ
５２−１３ｐ／エタノール／炭素数５以上の炭化水素類
＝６０〜９８／１〜２０／１〜２０重量％が好ましい。

【００２１】これらの炭化水素類を含む混合溶剤組成物
中のメタノールとエタノールは併用してもよい。メタノ
ールとエタノールの合計量は炭化水素類を含む混合溶剤
組成物中１〜２５重量％の範囲、特に１〜２０重量％の
範囲で含まれることが好ましい。併用するメタノールと
エタノールの合計量中のメタノールとエタノールの割合
は、メタノール／エタノール＝１〜９９／９９〜１重量
％の広い範囲から選択できる。

【００２２】これらの炭化水素類を含む混合溶剤組成物
は、炭化水素類を含まないものに比べ各種の汚れに対す
る溶解性が向上する。この点に関し、炭化水素類はエス
テル類等に比べ優れる。しかも炭化水素類は、プラスチ
ック、エラストマーなどの基材を侵しにくいため好まし
く、この点に関し、炭化水素類はケトン類などに比べ優
れる。

【００２３】主としてさらに溶解性を高めるために、例
えば以下に挙げる化合物から選ばれる少なくとも１種
が、好ましくは０．０１〜５０重量％、より好ましくは
０．０１〜３０重量％、さらに好ましくは０．１〜２０
重量％の範囲で本発明の炭化水素類を含む混合溶剤組成
物中に含まれていてもよい。

【００２４】ジクロロメタン、ｃｉｓ−１，２−ジクロ
ロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどの塩素
化炭化水素類、１−プロパノール、２−プロパノール、
１−ブタノール、２−ブタノール、イソブタノール、ｔ
−ブタノールなどのアルコール類。

【００２５】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、
ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類。

【００２６】２，２−ジクロロ−１，１，１−トリフル
オロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、
３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオ
ロプロパン、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−
ペンタフルオロプロパンなどの塩素化フッ素化炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエス
テル類。

【００２７】アルキルポリオキシエチレンエーテル、ア
ルキルアリールポリオキシエチレンエーテル、アルキル
アリールホルムアルデヒド縮合ポリオキシエチレンエー
テル、ポリオキシプロピレンを親油基とするポリオキシ
エチレンとポリオキシプロピレンとのブロックポリマ
ー、アルキルチオポリオキシエチレンエーテルなどのエ
ーテル型界面活性剤、プロピレングリコールエステルの
ポリオキシエチレンエーテル、グリセリンエステルのポ
リオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリ
オキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステルなどのエーテルエステル型界面活性剤、グリセリ
ンエステル、ソルビタンエステルなどのエステル型界面
活性剤または脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエ
チレン脂肪酸アミドなどの含窒素型界面活性剤などの非
イオン系界面活性剤。

【００２８】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物から選ばれる少なくとも１種の安定剤
が０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重
量％の範囲で本発明の炭化水素類を含む混合溶剤組成物
中に含まれていてもよい。

【００２９】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼンなどのニトロ化合物類、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、ｉ−プロピルアミン、ブチ
ルアミン、ｉ−ブチルアミンなどのアミン類。

【００３０】フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールなどのフェノール
類。

【００３１】２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−
フェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリア
ゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）
アミノメチル］ベンゾトリアゾールなどのトリアゾール
類。

【００３２】本発明の混合溶剤組成物は、従来のＲ１１
３系組成物と同様な各種用途に好適に使用できる。かか
る具体的な用途としては、汚れや水分が付着した物品か
ら汚れや水分を除去するための洗浄剤、塗料用溶剤また
は抽出剤などの用途がある。特に、付着した汚れや水分
により物品性能が低下するおそれのある物品の洗浄に用
いられる。

【００３３】上記洗浄される物品の材質としては、ガラ
ス、セラミックス、プラスチック、エラストマー、ゴム
または金属などが挙げられる。物品の具体例としては、
電子・電気機器、精密機械・器具、光学物品等、および
それらの部品であるプリント配線基板、ＩＣ、マイクロ
モーター、リレー、光学レンズ、ガラス基板などが挙げ
られる。

【００３４】物品に付着する汚れとしては、物品または
物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に
除去されなければならない汚れまたは物品の使用時に付
着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質として
は、グリース類、鉱油類、油脂類、ワックス類、油性イ
ンキ類等の油類またはフラックス類などが挙げられる。
水分としては、水または水系洗浄剤による物品の洗浄
後、物品に残留する水分などが挙げられる。

【００３５】本発明の共沸または擬共沸組成物は、物品
に付着するフラックス類または水分を除去する方法に用
いた場合に特に有効である。また、本発明の炭化水素類
を含む混合溶剤組成物は、油類またはフラックス類を除
去する方法に用いた場合に特に有効である。

【００３６】上記汚れや水分を除去する具体的手段とし
ては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波
洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合わせた手段などが
採用できる。

【００３７】

【実施例】［例１］Ｒ５２−１３ｐ（沸点７０．８℃）
９０重量％、メタノール（沸点６４．５℃）１０重量％
からなる組成物１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論
段数５段の精留塔に取り付けた。次にその組成物を加熱
して２時間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留
分を採取しガスクロマトグラフで分析した。その結果を
表１（上段）に示す。

【００３８】［例２］Ｒ５２−１３ｐ９０重量％、エタ
ノール（沸点７８．３℃）１０重量％からなる混合溶剤
組成物についても例１と同様にして分析した。その結果
を表１（下段）に示す。

【００３９】［例３］Ｒ５２−１３ｐ９９重量％とエタ
ノール１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを小型
単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日
間運転した。運転条件は、洗浄槽へ混合溶剤組成物のみ
を仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水
分離器に導かれ、洗浄槽へもどるまでの１時間当たりの
循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とし
た。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリング
し、ガスクロマトグラフで分析した結果を表２（上段）
に示す。

【００４０】［例４］Ｒ５２−１３ｐ８０重量％とエタ
ノール２０重量％からなる混合溶剤組成物についても例
３と同様にして運転した。経時的に洗浄槽・水分離器各
々からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した
結果を表２（下段）に示す。

【００４１】［例５〜１２］表３に示す混合溶剤組成物
を用いてフラックスの洗浄試験を行った。すなわち、ガ
ラス布基材エポキシ樹脂製のプリント基板（５０ｍｍ×
１００ｍｍ×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーデ
ィフラックスＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を
塗布し、２６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用
いて半田付け後、表３に示す組成物に５分間浸漬し洗浄
を行った。フラックスの除去度合を判定し、その結果を
除去度（Ａ）として表３に示す。◎: 良好に除去可、
△: 微量残存、×: かなり残存。

【００４２】［例１３〜１６］表４に示す混合溶剤組成
物を用いて機械油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵ
Ｓ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍ
ｍ）を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した
後、表４に示す組成物中に５分浸漬した。機械油の除去
度合を判定し、その結果を除去度（Ｂ）として表４に示
す。◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり残
存。

【００４３】［例１７〜２３］表５に示す混合溶剤組成
物を用いて付着水の除去試験を行った。すなわち、３０
ｍｍ×１８ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表
５に示す組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、取り
出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分
増加量から付着水の除去状況を判定した。付着水の除去
度合を除去度（Ｃ）として表５に示す。◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存。

【００４４】なお、表において、ＭｅＯＨはメタノー
ル、ＥｔＯＨはエタノール、２−ＰｒＯＨは２−プロパ
ノール、ｎ−Ｃ₆ Ｈ₁₄はｎ−ヘキサン、ｃｙｃｌｏ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂はシクロヘキサン、を示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】

【表２】

【００４７】

【表３】

【００４８】

【表４】

【００４９】

【表５】

【００５０】

【発明の効果】本発明の組成物は、従来のＲ１１３が有
している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へ影響を
与えない等の利点がある。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１４年１０月１６日（２００２．１０．
１６）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】全文

【補正方法】変更

【補正内容】

【書類名】明細書

【発明の名称】混合溶剤組成物

【特許請求の範囲】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線基板、Ｉ
Ｃ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に
付着するフラックス、油類などの汚れまたは水分を除去
するために用いられる混合溶剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】フラックス類、各種油類等の除去または
付着水の除去には、不燃性、低毒性、安定性に優れる
１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエ
タン( 以下、Ｒ１１３という。) またはこのＲ１１３と
これに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が広く使用されて
いる。Ｒ１１３は、金属、プラスチック、エラストマー
などの基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解するな
どの特徴を有するため、各種精密機械部品や金属、プラ
スチック、エラストマーなどからなる各種電子部品、ま
たこれらの電子部品を実装したプリント配線基板、精密
機械部品、光学部品などの洗浄には最適であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたＲ
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、その生
産・消費規制が実施されている。

【０００４】このため、従来のＲ１１３に替わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，
１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−
フルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，
３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，
１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンなどが開発さ
れている。

【０００５】これらの代替溶剤は、Ｒ１１３と同様に優
れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響も
きわめて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原
子を含むためごくわずかではあるがオゾン層へ若干の影
響を与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさ
らに優れた代替溶剤の開発が望まれている。

【０００６】本発明は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない
代替溶剤として使用できる新規な共沸または擬共沸組成
物およびその用途を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、以下の（１）から選ばれ
る１Ｈ−ペルフルオロヘキサン（Ｈ（ＣＦ₂ ）₆ Ｆ、
１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６
−トリデカフルオロヘキサンともいう、以下、Ｒ５２−
１３ｐという。) を主成分とする混合溶剤組成物および
これらの混合溶剤組成物を用いて物品に付着する汚れま
たは水分を除去する方法である。

【０００８】

【０００９】

【００１０】

【００１１】（１）メタノールおよびエタノールから選
ばれる少なくとも１種、Ｒ５２−１３ｐおよび炭素数５
以上の炭化水素類を、（メタノールおよびエタノールか
ら選ばれる少なくとも１種）／（Ｒ５２−１３ｐ）／
（炭素数５以上の炭化水素類）＝１〜２５／５０〜９８
／１〜２５重量％の割合で含む混合溶剤組成物。

【００１２】

【００１３】

【００１４】特開平５−１９４９９２号公報には、Ｒ５
２−１３ｐ／メタノール＝９１〜９５／５〜９重量％を
含む共沸様組成物が記載されているが、本発明は、この
共沸様組成物の組成範囲外に共沸組成が存在することを
見出したものである。本発明のＲ５２−１３ｐとメタノ
ールとからなる共沸組成物は、従来のＲ５２−１３ｐと
メタノールとからなる共沸様組成物に比べ、組成物を繰
り返し使用しても組成物の組成変化がなく、きわめて安
定した性能を維持できる利点がある。

【００１５】特開平５−１８６７９６号公報には、Ｒ５
２−１３ｐ／２−プロパノール＝８８〜９２／８〜１２
重量％を含む共沸様組成物が記載されている。また、特
開平３−２５２５００号公報には、Ｒ５２−１３ｐ／２
−プロパノール＝８０／２０重量％からなるフラックス
洗浄剤が記載されている。しかし、これらの組成物はい
ずれも共沸組成ではないために、組成物を繰り返し使用
した場合組成物の組成変化があり、安定した性能を維持
できない欠点がある。

【００１６】

【００１７】本発明に用いられる炭素数５以上の炭化水
素類としては、炭素数５〜９の脂肪族炭化水素類、炭素
数５〜９の脂環族炭化水素類および炭素数６〜１２の芳
香族炭化水素類から選ばれる少なくとも１種が好まし
い。特に好ましい炭素数５以上の炭化水素類は、炭素数
５〜９の脂肪族飽和炭化水素類、炭素数５〜９の脂環族
飽和炭化水素類である。さらに好ましい炭素数５以上の
炭化水素類としては以下のものが挙げられる。

【００１８】ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、２，２
−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタ
ン、３−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、
２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘ
キサン、３−メチルヘキサン、２，３−ジメチルペンタ
ン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２，
２，３−トリメチルペンタン、２，２，４−トリメチル
ペンタンなどの炭素数５〜８の脂肪族炭化水素類および
シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサンなどの炭素数５〜８の脂環式
炭化水素類から選ばれる少なくとも１種。

【００１９】Ｒ５２−１３ｐ、メタノールおよび炭素数
５以上の炭化水素類を含む混合溶剤組成物中の混合割合
はＲ５２−１３ｐ／メタノール／炭素数５以上の炭化水
素類＝５０〜９８／１〜２５／１〜２５重量％、特にＲ
５２−１３ｐ／メタノール／炭素数５以上の炭化水素類
＝６０〜９８／１〜２０／１〜２０重量％が好ましい。

【００２０】Ｒ５２−１３ｐ、エタノールおよび炭素数
５以上の炭化水素類を含む混合溶剤組成物中の混合割合
はＲ５２−１３ｐ／エタノール／炭素数５以上の炭化水
素類＝５０〜９８／１〜２５／１〜２５重量％、特にＲ
５２−１３ｐ／エタノール／炭素数５以上の炭化水素類
＝６０〜９８／１〜２０／１〜２０重量％が好ましい。

【００２１】これらの炭化水素類を含む混合溶剤組成物
中のメタノールとエタノールは併用してもよい。メタノ
ールとエタノールの合計量は炭化水素類を含む混合溶剤
組成物中１〜２５重量％の範囲、特に１〜２０重量％の
範囲で含まれることが好ましい。併用するメタノールと
エタノールの合計量中のメタノールとエタノールの割合
は、メタノール／エタノール＝１〜９９／９９〜１重量
％の広い範囲から選択できる。

【００２２】これらの炭化水素類を含む混合溶剤組成物
は、炭化水素類を含まないものに比べ各種の汚れに対す
る溶解性が向上する。この点に関し、炭化水素類はエス
テル類等に比べ優れる。しかも炭化水素類は、プラスチ
ック、エラストマーなどの基材を侵しにくいため好まし
く、この点に関し、炭化水素類はケトン類などに比べ優
れる。

【００２３】主としてさらに溶解性を高めるために、例
えば以下に挙げる化合物から選ばれる少なくとも１種
が、好ましくは０．０１〜５０重量％、より好ましくは
０．０１〜３０重量％、さらに好ましくは０．１〜２０
重量％の範囲で本発明の炭化水素類を含む混合溶剤組成
物中に含まれていてもよい。

【００２４】ジクロロメタン、ｃｉｓ−１，２−ジクロ
ロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、
トリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなどの塩素
化炭化水素類、１−プロパノール、２−プロパノール、
１−ブタノール、２−ブタノール、イソブタノール、ｔ
−ブタノールなどのアルコール類。

【００２５】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、
ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類。

【００２６】２，２−ジクロロ−１，１，１−トリフル
オロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、
３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオ
ロプロパン、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−
ペンタフルオロプロパンなどの塩素化フッ素化炭化水素
類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエス
テル類。

【００２７】アルキルポリオキシエチレンエーテル、ア
ルキルアリールポリオキシエチレンエーテル、アルキル
アリールホルムアルデヒド縮合ポリオキシエチレンエー
テル、ポリオキシプロピレンを親油基とするポリオキシ
エチレンとポリオキシプロピレンとのブロックポリマ
ー、アルキルチオポリオキシエチレンエーテルなどのエ
ーテル型界面活性剤、プロピレングリコールエステルの
ポリオキシエチレンエーテル、グリセリンエステルのポ
リオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリ
オキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステルなどのエーテルエステル型界面活性剤、グリセリ
ンエステル、ソルビタンエステルなどのエステル型界面
活性剤または脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエ
チレン脂肪酸アミドなどの含窒素型界面活性剤などの非
イオン系界面活性剤。

【００２８】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物から選ばれる少なくとも１種の安定剤
が０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重
量％の範囲で本発明の炭化水素類を含む混合溶剤組成物
中に含まれていてもよい。

【００２９】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼンなどのニトロ化合物類、ジエチル
アミン、トリエチルアミン、ｉ−プロピルアミン、ブチ
ルアミン、ｉ−ブチルアミンなどのアミン類。

【００３０】フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾールなどのフェノール
類。

【００３１】２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−
フェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリア
ゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）
アミノメチル］ベンゾトリアゾールなどのトリアゾール
類。

【００３２】本発明の混合溶剤組成物は、従来のＲ１１
３系組成物と同様な各種用途に好適に使用できる。かか
る具体的な用途としては、汚れや水分が付着した物品か
ら汚れや水分を除去するための洗浄剤、塗料用溶剤また
は抽出剤などの用途がある。特に、付着した汚れや水分
により物品性能が低下するおそれのある物品の洗浄に用
いられる。

【００３３】上記洗浄される物品の材質としては、ガラ
ス、セラミックス、プラスチック、エラストマー、ゴム
または金属などが挙げられる。物品の具体例としては、
電子・電気機器、精密機械・器具、光学物品等、および
それらの部品であるプリント配線基板、ＩＣ、マイクロ
モーター、リレー、光学レンズ、ガラス基板などが挙げ
られる。

【００３４】物品に付着する汚れとしては、物品または
物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に
除去されなければならない汚れまたは物品の使用時に付
着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質として
は、グリース類、鉱油類、油脂類、ワックス類、油性イ
ンキ類等の油類またはフラックス類などが挙げられる。
水分としては、水または水系洗浄剤による物品の洗浄
後、物品に残留する水分などが挙げられる。

【００３５】本発明の炭化水素類を含む混合溶剤組成物
は、油類またはフラックス類を除去する方法に用いた場
合に特に有効である。

【００３６】上記汚れや水分を除去する具体的手段とし
ては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波
洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合わせた手段などが
採用できる。

【００３７】

【実施例】

【００３８】

【００３９】

【００４０】

【００４１】［例１〜３］表１に示す混合溶剤組成物を
用いてフラックスの洗浄試験を行った。すなわち、ガラ
ス布基材エポキシ樹脂製のプリント基板（５０ｍｍ×１
００ｍｍ×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディ
フラックスＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗
布し、２６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用い
て半田付け後、表１に示す組成物に５分間浸漬し洗浄を
行った。フラックスの除去度合を判定し、その結果を除
去度（Ａ）として表１に示す。◎: 良好に除去可、△:
微量残存、×: かなり残存。

【００４２】［例４〜７］表２に示す混合溶剤組成物を
用いて機械油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−
３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）
を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した後、表
２に示す組成物中に５分浸漬した。機械油の除去度合を
判定し、その結果を除去度（Ｂ）として表２に示す。
◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり残存。

【００４３】［例８〜９］表３に示す混合溶剤組成物を
用いて付着水の除去試験を行った。すなわち、３０ｍｍ
×１８ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表３に
示す組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、取り出し
たガラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分増加
量から付着水の除去状況を判定した。付着水の除去度合
を除去度（Ｃ）として表３に示す。◎: 良好に除去可、
△: 微量残存、×: かなり残存。

【００４４】なお、表において、ＭｅＯＨはメタノー
ル、ＥｔＯＨはエタノール、２−ＰｒＯＨは２−プロパ
ノール、ｎ−Ｃ₆ Ｈ₁₄はｎ−ヘキサン、ｃｙｃｌｏ−Ｃ
₆ Ｈ₁₂はシクロヘキサン、を示す。

【００４５】

【００４６】

【００４７】

【表１】

【００４８】

【表２】

【００４９】

【表３】

【００５０】

【発明の効果】本発明の組成物は、従来のＲ１１３が有
している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へ影響を
与えない等の利点がある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大春 一也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内 Ｆターム(参考） 3B201 AA46 BB01 BB21 BB83 BB95 4D056 EA03 EA08 4H003 DA14 DA15 DA16 DB02 DC03 ED26 ED28 FA03

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】メタノールおよびエタノールから選ばれる
   少なくとも１種、１Ｈ−ペルフルオロヘキサンおよび炭
   素数５以上の炭化水素類を、（メタノールおよびエタノ
   ールから選ばれる少なくとも１種）／（１Ｈ−ペルフル
   オロヘキサン）／（炭素数５以上の炭化水素類）＝１〜
   ２５／５０〜９８／１〜２５重量％の割合で含む混合溶
   剤組成物。
2. 【請求項２】請求項１に記載の組成物を用いて物品に付
   着した汚れまたは水分を物品から除去する洗浄方法。