JP3638971B2 - 洗浄方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、プリント配線基板、ＩＣ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に付着するフラックス、油類などの汚れまたは水分を除去する洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フラックス類、各種油類等の除去または付着水の除去には、不燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以下、Ｒ１１３という。）またはこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、金属、プラスチック、エラストマーなどの基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶解するなどの特徴を有するため、各種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマーなどからなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装したプリント配線基板、精密機械部品、光学部品などの洗浄には最適であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
従来使用されていたＲ１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊することから、その生産・消費規制が実施されている。
【０００４】
このため、従来のＲ１１３に替わり、オゾン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われている。この代替溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンなどが開発されている。
【０００５】
これらの代替溶剤は、Ｒ１１３と同様に優れた洗浄特性を有しており、さらにオゾン層への影響もきわめて小さい。しかし、これらの代替溶剤は、塩素原子を含むためごくわずかではあるがオゾン層へ若干の影響を与える。そこで、オゾン層へ全く影響を与えないさらに優れた代替溶剤の開発が望まれている。
【０００６】
本発明は、従来のＲ１１３が有している優れた特性を満足しながらオゾン層へ全く影響を与えない代替溶剤として使用できる新規な共沸または擬共沸組成物およびその用途を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は前述の目的を達成すべくなされたものであり、以下の（２）に記載の混合溶剤組成物を用いて物品に付着する汚れまたは水分を除去する方法である。
【０００８】
【０００９】
（２）Ｒ５２−１３ｐ９１．１重量％とエタノール８．９重量％とからなる共沸混合溶剤組成物。
【００１０】
【００１１】
【００１２】
Ｒ５２−１３ｐとメタノールとからなる共沸組成物の混合組成比はＲ５２−１３ｐ／メタノール＝８９．２重量％／１０．８重量％であり、この共沸組成物の沸点は、１０１０ｈＰａにおいて５２．４℃である。
【００１３】
Ｒ５２−１３ｐとエタノールとからなる共沸組成物の混合組成比はＲ５２−１３ｐ／エタノール＝９１．１重量％／８．９重量％であり、この共沸組成物の沸点は、１００４ｈＰａにおいて６０．０℃である。
【００１４】
特開平５−１９４９９２号公報には、Ｒ５２−１３ｐ／メタノール＝９１〜９５／５〜９重量％を含む共沸様組成物が記載されている。
【００１５】
特開平５−１８６７９６号公報には、Ｒ５２−１３ｐ／２−プロパノール＝８８〜９２／８〜１２重量％を含む共沸様組成物が記載されている。また、特開平３−２５２５００号公報には、Ｒ５２−１３ｐ／２−プロパノール＝８０／２０重量％からなるフラックス洗浄剤が記載されている。しかし、これらの組成物はいずれも共沸組成ではないために、組成物を繰り返し使用した場合組成物の組成変化があり、安定した性能を維持できない欠点がある。
【００１６】
Ｒ５２−１３ｐとエタノールはＲ５２−１３ｐ／エタノール＝８０〜９９重量％／１〜２０重量％の範囲で擬共沸組成物を作る。
【００１７】
【００１８】
【００１９】
【００２０】
【００２１】
【００２２】
【００２３】
【００２４】
【００２５】
【００２６】
【００２７】
【００２８】
【００２９】
【００３０】
【００３１】
【００３２】
本発明の混合溶剤組成物は、従来のＲ１１３系組成物と同様な各種用途に好適に使用できる。かかる具体的な用途としては、汚れや水分が付着した物品から汚れや水分を除去するための洗浄剤、塗料用溶剤または抽出剤などの用途がある。特に、付着した汚れや水分により物品性能が低下するおそれのある物品の洗浄に用いられる。
【００３３】
上記洗浄される物品の材質としては、ガラス、セラミックス、プラスチック、エラストマー、ゴムまたは金属などが挙げられる。物品の具体例としては、電子・電気機器、精密機械・器具、光学物品等、およびそれらの部品であるプリント配線基板、ＩＣ、マイクロモーター、リレー、光学レンズ、ガラス基板などが挙げられる。
【００３４】
物品に付着する汚れとしては、物品または物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に除去されなければならない汚れまたは物品の使用時に付着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質としては、グリース類、鉱油類、油脂類、ワックス類、油性インキ類等の油類またはフラックス類などが挙げられる。水分としては、水または水系洗浄剤による物品の洗浄後、物品に残留する水分などが挙げられる。
【００３５】
本発明の共沸または擬共沸組成物は、物品に付着するフラックス類または水分を除去する方法に用いた場合に特に有効である。
【００３６】
上記汚れや水分を除去する具体的手段としては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合わせた手段などが採用できる。
【００３７】
【実施例】
［例１（参考例）］
Ｒ５２−１３ｐ（沸点７０．８℃）９０重量％、メタノール（沸点６４．５℃）１０重量％からなる組成物１０００ｇを蒸留フラスコに入れ、理論段数５段の精留塔に取り付けた。次にその組成物を加熱して２時間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採取しガスクロマトグラフで分析した。その結果を表１（上段）に示す。
【００３８】
［例２］
Ｒ５２−１３ｐ９０重量％、エタノール（沸点７８．３℃）１０重量％からなる混合溶剤組成物についても例１と同様にして分析した。その結果を表１（下段）に示す。
【００３９】
［例３（参考例）］
Ｒ５２−１３ｐ９９重量％とエタノール１重量％からなる混合溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日あたり６時間で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽へ混合溶剤組成物のみを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水分離器に導かれ、洗浄槽へもどるまでの１時間当たりの循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とした。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表２（上段）に示す。
【００４０】
［例４（参考例）］
Ｒ５２−１３ｐ８０重量％とエタノール２０重量％からなる混合溶剤組成物についても例３と同様にして運転した。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表２（下段）に示す。
【００４１】
［例５〜６（参考例）、例７、例８〜９（参考例）］
表３に示す混合溶剤組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行った。すなわち、ガラス布基材エポキシ樹脂製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍｍ×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラックスＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、２６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付け後、表３に示す組成物に５分間浸漬し洗浄を行った。フラックスの除去度合を判定し、その結果を除去度（Ａ）として表３に示す。◎：良好に除去可、△：微量残存、×：かなり残存。
【００４２】
【００４３】
［例１０〜１１（参考例）、例１２、例１３〜１４（参考例）］
表４に示す混合溶剤組成物を用いて付着水の除去試験を行った。すなわち、３０ｍｍ×１８ｍｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表４に示す組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分増加量から付着水の除去状況を判定した。付着水の除去度合を除去度（Ｃ）として表４に示す。◎：良好に除去可、△：微量残存、×：かなり残存。
【００４４】
なお、表において、ＭｅＯＨはメタノール、ＥｔＯＨはエタノール、２−ＰｒＯＨは２−プロパノールを示す。
【００４５】
【表１】

【００４６】
【表２】

【００４７】
【表３】

【００４８】
【００４９】
【表４】

【００５０】
【発明の効果】
本発明の組成物は、従来のＲ１１３が有している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へ影響を与えない等の利点がある。

Claims (1)

1. １Ｈ−ペルフルオロヘキサン９１．１重量％とエタノール８．９重量％とからなる共沸混合溶剤組成物を用いて物品に付着した汚れまたは水分を物品から除去する洗浄方法。