JPH0867897A - 改良された溶剤組成物 - Google Patents
改良された溶剤組成物Info
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- JPH0867897A JPH0867897A JP6205662A JP20566294A JPH0867897A JP H0867897 A JPH0867897 A JP H0867897A JP 6205662 A JP6205662 A JP 6205662A JP 20566294 A JP20566294 A JP 20566294A JP H0867897 A JPH0867897 A JP H0867897A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】従来の１，１，２−トリクロロ−１，２，２−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へほとんど影響を与えない溶剤組成物を
提供する。 【構成】１，２−ジクロロエタン、１，３−ジクロロ−
１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンおよびｃ
ｉｓ−１，２−ジクロロエチレン等のハロゲン化炭化水
素類および１Ｈ−ペルフルオロヘキサンを含む溶剤組成
物。
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
成層圏オゾン層へほとんど影響を与えない溶剤組成物を
提供する。 【構成】１，２−ジクロロエタン、１，３−ジクロロ−
１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパンおよびｃ
ｉｓ−１，２−ジクロロエチレン等のハロゲン化炭化水
素類および１Ｈ−ペルフルオロヘキサンを含む溶剤組成
物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、ＩＣ等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄や
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種油脂、フラックス等の洗浄には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン( 以下、Ｒ１１３と
いう。) またはこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混
合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、金
属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各
種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各
種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等
からなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装し
たプリント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には
最適であった。
燃性、低毒性、安定性に優れる１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタン( 以下、Ｒ１１３と
いう。) またはこのＲ１１３とこれに可溶な溶剤との混
合溶剤組成物が広く使用されている。Ｒ１１３は、金
属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各
種の汚れを選択的に溶解する等の特徴を有するため、各
種精密機械部品や金属、プラスチック、エラストマー等
からなる各種電子部品、またこれらの電子部品を実装し
たプリント基板、精密機械部品、光学部品等の洗浄には
最適であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたＲ
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の使用規制が実施されている。
１１３は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
にきわめて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散
して成層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラ
ジカルを発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連
鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、そ
の使用規制が実施されている。
【０００４】このため、従来のＲ１１３に替わり、オゾ
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。
ン層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われてい
る。
【０００５】本発明は、従来のＲ１１３が有している優
れた特性を満足しながらオゾン層への影響がきわめて少
ない代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素
系溶剤組成物を提供することを目的とするものである。
れた特性を満足しながらオゾン層への影響がきわめて少
ない代替溶剤として使用できる新規なフッ素化炭化水素
系溶剤組成物を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、ハロゲン化炭化水素類お
よび１Ｈ−ペルフルオロヘキサン［Ｈ（ＣＦ2 ）6 Ｆ］
（以下、Ｒ５２−１３ｐという) を含む溶剤組成物、
１，２−ジクロロエタンとＲ５２−１３ｐからなる擬共
沸または共沸溶剤組成物、１，３−ジクロロ−１，１，
２，２，３−ペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ２２５
ｃｂという) とＲ５２−１３ｐからなる擬共沸または共
沸溶剤組成物およびｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン
とＲ５２−１３ｐからなる擬共沸溶剤組成物である。
成すべくなされたものであり、ハロゲン化炭化水素類お
よび１Ｈ−ペルフルオロヘキサン［Ｈ（ＣＦ2 ）6 Ｆ］
（以下、Ｒ５２−１３ｐという) を含む溶剤組成物、
１，２−ジクロロエタンとＲ５２−１３ｐからなる擬共
沸または共沸溶剤組成物、１，３−ジクロロ−１，１，
２，２，３−ペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ２２５
ｃｂという) とＲ５２−１３ｐからなる擬共沸または共
沸溶剤組成物およびｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン
とＲ５２−１３ｐからなる擬共沸溶剤組成物である。
【０００７】本発明の組成物に用いられる１，２−ジク
ロロエタン、Ｒ２２５ｃｂおよびｃｉｓ−１，２−ジク
ロロエチレン以外のハロゲン化炭化水素類としては、ジ
クロロメタン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレ
ン、１，１，２−トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類、２，
２−ジクロロ−１，１，１−トリフルオロエタン、１，
１−ジクロロ−１−フルオロエタン、３，３−ジクロロ
−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン、１，
１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプ
ロパン、１，２−ジクロロ−１，１，３，３，３−ペン
タフルオロプロパン、１，２−ジクロロ−１，１，２，
３，３−ペンタフルオロプロパン、２，３−ジクロロ−
１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパン、２，２
−ジクロロ−１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロ
パン等の塩素化フッ素化炭化水素類およびこれらの混合
物を挙げることができるが、これに限定されるものでは
ない。
ロロエタン、Ｒ２２５ｃｂおよびｃｉｓ−１，２−ジク
ロロエチレン以外のハロゲン化炭化水素類としては、ジ
クロロメタン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレ
ン、１，１，２−トリクロロエタン、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレン等の塩素化炭化水素類、２，
２−ジクロロ−１，１，１−トリフルオロエタン、１，
１−ジクロロ−１−フルオロエタン、３，３−ジクロロ
−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン、１，
１−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプ
ロパン、１，２−ジクロロ−１，１，３，３，３−ペン
タフルオロプロパン、１，２−ジクロロ−１，１，２，
３，３−ペンタフルオロプロパン、２，３−ジクロロ−
１，１，１，２，３−ペンタフルオロプロパン、２，２
−ジクロロ−１，１，１，３，３−ペンタフルオロプロ
パン等の塩素化フッ素化炭化水素類およびこれらの混合
物を挙げることができるが、これに限定されるものでは
ない。
【０００８】本発明のハロゲン化炭化水素類を含むＲ５
２−１３ｐからなる溶剤組成物の混合組成比は特に限定
されることはなく、ハロゲン化炭化水素類／Ｒ５２−１
３ｐ＝１〜９９重量％／１〜９９重量％の広い範囲で使
用できる。
２−１３ｐからなる溶剤組成物の混合組成比は特に限定
されることはなく、ハロゲン化炭化水素類／Ｒ５２−１
３ｐ＝１〜９９重量％／１〜９９重量％の広い範囲で使
用できる。
【０００９】１，２−ジクロロエタン１〜２０重量％と
Ｒ５２−１３ｐ８０〜９９重量％は擬共沸組成を作り、
さらに１，２−ジクロロエタン３重量％とＲ５２−１３
ｐ９７重量％は共沸組成を作るので、この範囲で使用す
れば組成変化がほとんど無いか、または全く無く使用で
きるので好ましい。
Ｒ５２−１３ｐ８０〜９９重量％は擬共沸組成を作り、
さらに１，２−ジクロロエタン３重量％とＲ５２−１３
ｐ９７重量％は共沸組成を作るので、この範囲で使用す
れば組成変化がほとんど無いか、または全く無く使用で
きるので好ましい。
【００１０】Ｒ２２５ｃｂ７０〜９９重量％とＲ５２−
１３ｐ１〜３０重量％は擬共沸組成を作り、さらにＲ２
２５ｃｂ８０重量％とＲ５２−１３ｐ２０重量％は共沸
組成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほと
んど無いか、または全く無く使用できるので好ましい。
１３ｐ１〜３０重量％は擬共沸組成を作り、さらにＲ２
２５ｃｂ８０重量％とＲ５２−１３ｐ２０重量％は共沸
組成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほと
んど無いか、または全く無く使用できるので好ましい。
【００１１】ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン１〜１
５重量％とＲ５２−１３ｐ８５〜９９重量％は擬共沸組
成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほとん
ど無く使用できるので好ましい。
５重量％とＲ５２−１３ｐ８５〜９９重量％は擬共沸組
成を作るので、この範囲で使用すれば組成変化がほとん
ど無く使用できるので好ましい。
【００１２】溶解性を高めるために、例えば以下に挙げ
る化合物の一種または二種以上を１〜５０重量％、好ま
しくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量
％の範囲で本発明の組成物中へ混合することができる。
る化合物の一種または二種以上を１〜５０重量％、好ま
しくは１〜３０重量％、さらに好ましくは１〜２０重量
％の範囲で本発明の組成物中へ混合することができる。
【００１３】ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、２，２
−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、３−メチルペンタ
ン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタ
ン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘ
キサン、２，３−ジメチルペンタン、２，４−ジメチル
ペンタン、ｎ−オクタン、２，２，３−トリメチルペン
タン、２，２，４−トリメチルペンタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン等の炭化水素類。
−ジメチルプロパン、ｎ−ヘキサン、３−メチルペンタ
ン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタ
ン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘ
キサン、２，３−ジメチルペンタン、２，４−ジメチル
ペンタン、ｎ−オクタン、２，２，３−トリメチルペン
タン、２，２，４−トリメチルペンタン、シクロペンタ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン等の炭化水素類。
【００１４】メタノール、エタノール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール
類。
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール
類。
【００１５】アセトン、メチルエチルケトン、メチルブ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類。
【００１６】ジエチルエーテル、メチルセロソルブ、テ
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類。
トラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類。
【００１７】酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、
酢酸ブチル等のエステル類。
酢酸ブチル等のエステル類。
【００１８】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の一種または二種以上を０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で本
発明の組成物中へ混合することができる。
下に挙げる化合物の一種または二種以上を０．００１〜
１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％の範囲で本
発明の組成物中へ混合することができる。
【００１９】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。
【００２０】ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｉ−
プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン等の
アミン類。
プロピルアミン、ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン等の
アミン類。
【００２１】フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾ
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェノール
類。
ール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイ
ゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソ
アミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，
６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等のフェノール
類。
【００２２】２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル−
フェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリア
ゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル)
アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾール類。
フェニル) ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリア
ゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル)
アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾール類。
【００２３】本発明の溶剤組成物は、従来のＲ１１３系
と同程度の溶解力を有し、組成変化がきわめて少ないか
全くない、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各種用
途に好適に使用できる。かかる具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げられ
る。
と同程度の溶解力を有し、組成変化がきわめて少ないか
全くない、擬共沸ないしは共沸組成物を形成し、各種用
途に好適に使用できる。かかる具体的な用途としては、
フラックス、グリース、油、ワックス、インキ等の除去
剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラ
スチック、ゴム、金属製各種物品、特にＩＣ部品、電気
機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤等を挙げられ
る。
【００２４】洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレ
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合
わせた方法等を採用すればよい。
ー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこれらを組み合
わせた方法等を採用すればよい。
【００２５】
［例１］種々の組成からなる１，２−ジクロロエタンと
Ｒ５２−１３ｐの溶剤組成物２５０ｃｃをオスマー型気
液平衡蒸留装置に入れ、加熱して平衡状態に達した後、
気相と液相とを採取しガスクロマトグラフで分析する。
その結果を表１に示す。共沸組成はＲ５２−１３ｐ／
１，２−ジクロロエタン＝９７重量％／３重量％であ
る。
Ｒ５２−１３ｐの溶剤組成物２５０ｃｃをオスマー型気
液平衡蒸留装置に入れ、加熱して平衡状態に達した後、
気相と液相とを採取しガスクロマトグラフで分析する。
その結果を表１に示す。共沸組成はＲ５２−１３ｐ／
１，２−ジクロロエタン＝９７重量％／３重量％であ
る。
【００２６】［例２］共沸組成を確認するため、Ｒ５２
−１３ｐ／１，２−ジクロロエタン＝９７重量％／３重
量％からなる溶剤組成物１０００ｇを蒸留フラスコに入
れ、理論段数５段の精留塔に取り付ける。次にその組成
物を加熱して２時間全還流し、平衡状態に達した後、経
時的に留分を採取しガスクロマトグラフで分析する。そ
の結果を表２に示す。
−１３ｐ／１，２−ジクロロエタン＝９７重量％／３重
量％からなる溶剤組成物１０００ｇを蒸留フラスコに入
れ、理論段数５段の精留塔に取り付ける。次にその組成
物を加熱して２時間全還流し、平衡状態に達した後、経
時的に留分を採取しガスクロマトグラフで分析する。そ
の結果を表２に示す。
【００２７】［例３］Ｒ５２−１３ｐ／１，２−ジクロ
ロエタン＝９９重量％／１重量％からなる溶剤組成物２
０ｋｇを小型単槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で
３日間運転する。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサ
ンプリングし、ガスクロマトグラフでの分析結果を表３
に示す。
ロエタン＝９９重量％／１重量％からなる溶剤組成物２
０ｋｇを小型単槽式洗浄機に入れ、１日あたり６時間で
３日間運転する。経時的に洗浄槽・水分離器各々からサ
ンプリングし、ガスクロマトグラフでの分析結果を表３
に示す。
【００２８】［例４］Ｒ５２−１３ｐ／１，２−ジクロ
ロエタン＝８０重量％／２０重量％からなる溶剤組成物
２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。その結果を表
４に示す。
ロエタン＝８０重量％／２０重量％からなる溶剤組成物
２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。その結果を表
４に示す。
【００２９】［例５］種々の組成からなるＲ５２−１３
ｐとＲ２２５ｃｂの混合溶剤組成物２５０ｃｃを用いた
他は例１と同様に行う。その結果を表５に示す。共沸組
成はＲ５２−１３ｐ／Ｒ２２５ｃｂ＝２０重量％／８０
重量％である。
ｐとＲ２２５ｃｂの混合溶剤組成物２５０ｃｃを用いた
他は例１と同様に行う。その結果を表５に示す。共沸組
成はＲ５２−１３ｐ／Ｒ２２５ｃｂ＝２０重量％／８０
重量％である。
【００３０】［例６］共沸組成を確認するため、Ｒ５２
−１３ｐ／Ｒ２２５ｃｂ＝２０重量％／８０重量％から
なる溶剤組成物１０００ｇを用いた他は例２と同様に行
う。その結果を表６に示す。
−１３ｐ／Ｒ２２５ｃｂ＝２０重量％／８０重量％から
なる溶剤組成物１０００ｇを用いた他は例２と同様に行
う。その結果を表６に示す。
【００３１】［例７］Ｒ５２−１３ｐ／Ｒ２２５ｃｂ＝
３０重量％／７０重量％からなる溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表７に示す。
３０重量％／７０重量％からなる溶剤組成物２０ｋｇを
用いた他は例３と同様に行う。その結果を表７に示す。
【００３２】［例８］Ｒ５２−１３ｐ／Ｒ２２５ｃｂ＝
１重量％／９９重量％からなる溶剤組成物２０ｋｇを用
いた他は例３と同様に行う。その結果を表８に示す。
１重量％／９９重量％からなる溶剤組成物２０ｋｇを用
いた他は例３と同様に行う。その結果を表８に示す。
【００３３】［例９］Ｒ５２−１３ｐ／ｃｉｓ−１，２
−ジクロロエチレン＝８５重量％／１５重量％からなる
溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。そ
の結果を表９に示す。
−ジクロロエチレン＝８５重量％／１５重量％からなる
溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。そ
の結果を表９に示す。
【００３４】［例１０］Ｒ５２−１３ｐ／ｃｉｓ−１，
２−ジクロロエチレン＝９９重量％／１重量％からなる
溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。そ
の結果を表１０に示す。
２−ジクロロエチレン＝９９重量％／１重量％からなる
溶剤組成物２０ｋｇを用いた他は例３と同様に行う。そ
の結果を表１０に示す。
【００３５】［例１１〜２４］表１１に示す溶剤組成物
を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、ＳＵＳ−
３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）
を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した後、表
１１に示す本発明の溶剤組成物中に５分浸漬する。機械
油の除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: か
なり残存）を判定し、その結果を表１１に示す。
を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、ＳＵＳ−
３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）
を機械油（日本石油製ＣＱ−３０）中に浸漬した後、表
１１に示す本発明の溶剤組成物中に５分浸漬する。機械
油の除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: か
なり残存）を判定し、その結果を表１１に示す。
【００３６】［例２５〜３２］表１２に示す溶剤用組成
物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、ガ
ラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍｍ
×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラック
スＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、２
６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付
け後、表１２に示す本発明の溶剤用組成物に３分間浸漬
し洗浄を行う。フラックスの除去度（◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存）を判定し、その結
果を表１２のＢ欄に示す。
物を用いてフラックスの洗浄試験を行う。すなわち、ガ
ラスエポキシ製のプリント基板（５０ｍｍ×１００ｍｍ
×１．６ｍｍ）全面にフラックス（スピーディフラック
スＡＧＦ−Ｊ−Ｉ：アサヒ化学研究所製）を塗布し、２
６０℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付
け後、表１２に示す本発明の溶剤用組成物に３分間浸漬
し洗浄を行う。フラックスの除去度（◎: 良好に除去
可、△: 微量残存、×: かなり残存）を判定し、その結
果を表１２のＢ欄に示す。
【００３７】同様に表１２に示す溶剤用組成物を用いて
付着水の除去試験を行う。すなわち、３０ｍｍ×１８ｍ
ｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表１２に示す本
発明の溶剤用組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、
取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその
水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水の
除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり
残存）を判定し、その結果を表１２のＣ欄に示す。
付着水の除去試験を行う。すなわち、３０ｍｍ×１８ｍ
ｍ×５ｍｍのガラス板を純水に浸漬後、表１２に示す本
発明の溶剤用組成物中に２０秒浸漬して水切りを行い、
取り出したガラス板を無水メタノール中に浸漬してその
水分増加量から付着水の除去状況を判定する。付着水の
除去度（◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり
残存）を判定し、その結果を表１２のＣ欄に示す。
【００３８】
【表１】
【００３９】
【表２】
【００４０】
【表３】
【００４１】
【表４】
【００４２】
【表５】
【００４３】
【表６】
【００４４】
【表７】
【００４５】
【表８】
【００４６】
【表９】
【００４７】
【表１０】
【００４８】
【表１１】
【００４９】
【表１２】
【００５０】
【発明の効果】本発明のハロゲン化炭化水素類およびＲ
５２−１３ｐを含む溶剤組成物は、従来のＲ１１３が有
している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとん
ど影響を与えない等の利点がある。
５２−１３ｐを含む溶剤組成物は、従来のＲ１１３が有
している優れた特性を満足し、成層圏オゾン層へほとん
ど影響を与えない等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 7/12 ＰＳＬ Ｃ１１Ｄ 7/30 Ｃ２３Ｇ 5/028 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｌ Ｈ０５Ｋ 3/26 7511−4Ｅ (72)発明者 津崎 真彰 千葉県市原市五井海岸10番地 旭硝子株式 会社千葉工場内 (72)発明者 大春 一也 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社中央研究所内
Claims (8)
- 【請求項１】ハロゲン化炭化水素類および１Ｈ−ペルフ
ルオロヘキサンを含む溶剤組成物。 - 【請求項２】ハロゲン化炭化水素類と１Ｈ−ペルフルオ
ロヘキサンの混合割合がハロゲン化炭化水素類／１Ｈ−
ペルフルオロヘキサン＝１〜９９重量％／１〜９９重量
％である請求項１の溶剤組成物。 - 【請求項３】ハロゲン化炭化水素類が１，２−ジクロロ
エタン、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペン
タフルオロプロパンまたはｃｉｓ−１，２−ジクロロエ
チレンである請求項１または２の溶剤組成物。 - 【請求項４】１，２−ジクロロエタン１〜２０重量％と
１Ｈ−ペルフルオロヘキサン８０〜９９重量％からなる
擬共沸溶剤組成物。 - 【請求項５】１，２−ジクロロエタン３重量％と１Ｈ−
ペルフルオロヘキサン９７重量％からなる共沸溶剤組成
物。 - 【請求項６】１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−
ペンタフルオロプロパン７０〜９９重量％と１Ｈ−ペル
フルオロヘキサン１〜３０重量％からなる擬共沸溶剤組
成物。 - 【請求項７】１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−
ペンタフルオロプロパン８０重量％と１Ｈ−ペルフルオ
ロヘキサン２０重量％からなる共沸溶剤組成物。 - 【請求項８】ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン１〜１
５重量％と１Ｈ−ペルフルオロヘキサン８５〜９９重量
％からなる擬共沸溶剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205662A JPH0867897A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 改良された溶剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205662A JPH0867897A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 改良された溶剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0867897A true JPH0867897A (ja) | 1996-03-12 |
Family
ID=16510615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6205662A Pending JPH0867897A (ja) | 1994-08-30 | 1994-08-30 | 改良された溶剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0867897A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044148A1 (fr) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de solvants |
| WO2004020568A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Asahi Glass Company, Limited | 溶剤組成物 |
| JP2021020870A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | 関東電化工業株式会社 | １，１，２−トリクロロ−２−フルオロエテン（ｔｃｆｅ）の製造方法及び用途 |
-
1994
- 1994-08-30 JP JP6205662A patent/JPH0867897A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003044148A1 (fr) * | 2001-11-22 | 2003-05-30 | Asahi Glass Company, Limited | Composition de solvants |
| WO2004020568A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Asahi Glass Company, Limited | 溶剤組成物 |
| US7163646B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-01-16 | Asahi Glass Company, Limited | Solvent compositions |
| JP2021020870A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | 関東電化工業株式会社 | １，１，２−トリクロロ−２−フルオロエテン（ｔｃｆｅ）の製造方法及び用途 |
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