JP2981020B2 - 混合溶剤組成物及び共沸様溶剤組成物 - Google Patents

混合溶剤組成物及び共沸様溶剤組成物

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JP2981020B2 JP16108391A JP16108391A JP2981020B2 JP 2981020 B2 JP2981020 B2 JP 2981020B2 JP 16108391 A JP16108391 A JP 16108391A JP 16108391 A JP16108391 A JP 16108391A JP 2981020 B2 JP2981020 B2 JP 2981020B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板、IC等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等のフラックス
洗浄や付着水除去等に用いられる混合溶剤組成物及び共
沸様溶剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】フラックス洗浄や付着水除去等には、不
燃性、低毒性、安定性に優れる等の特徴を有する1,
1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
(以下R113という)とアルコールとの混合溶剤組成
物が広く使用されている。さらに、R113は金属、プ
ラスチック、エラストマー等の基材を侵さず、各種の汚
れを選択的に溶解する特徴を有するため、金属、プラス
チック、エラストマー等からなる各種電子部品を実装し
たプリント基板のフラックス洗浄には最適であった。さ
らに、R113とアルコールとの混合溶剤組成物は共沸
乃至共沸様特性を有するので、蒸気洗浄に用いた場合、
組成変化がほとんど無いという特徴も有していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR
113は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的
に特に安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して
成層圏に達し、ここで太陽光線により分解して発生する
塩素ラジカルがオゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を
破壊するとのことから、その使用規制が実施されること
となった。このため、従来のR113に替わり、オゾン
層を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行なわれてい
る。
【0004】本発明は、従来のR113が有している優
れた特性を満足しながら代替溶剤として使用できる新規
なフッ素化塩素化炭化水素系混合溶剤組成物及び共沸様
溶剤組成物を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、炭素数が3である特定の
フッ素化塩素化炭化水素とシクロヘキサン及び特定の
ルコール類からなる混合溶剤組成物及び共沸様溶剤組成
物を提供する。
【0006】本発明における炭素数3である特定のフッ
素化塩素化炭化水素は、3,3−ジクロロ−1,1,
1,2,2−ペンタフルオロプロパン(CF3 CF2
HCl2 :以下R225caという)及び/又は1,3
−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロ
パン(CClF2 CF2 CHClF:以下R225cb
という)である。
【0007】本発明の混合溶剤組成物中及び共沸溶剤組
成物中でR225caとR225cbを混合使用する際
両者の混合割合は特に限定され、好ましくは、R2
25caが0.01〜99.99重量%、R225cb
が0.01〜99.99重量%である。
【0008】本発明で用いられるシクロヘキサンの品質
については、特に限定され、好ましくは純度95重量
%以上、さらに好ましくは純度99重量%以上のもので
ある。
【0009】特定のアルコール類としては、エタノール
及び/又は2−プロパノールが用いられ両者の混合物
の場合、混合物中のそれぞれのアルコールの割合は0.
01〜99.99重量%の範囲から選できる。R22
5ca、R225cb、シクロヘキサン及び特定のアル
コール類の混合割合は、R225ca及び/又はR22
5cbが合量で50〜98重量%、シクロヘキサンが1
〜49重量%及び特定のアルコール類が1〜49重量%
である。
【0010】シクロヘキサン及び特定のアルコール類の
含有量は多い方が洗浄性は高くなるが、アルコールの種
類にもよるが、アルコール類とシクロヘキサンの含有量
が50重量%をこえると溶剤組成物が可燃性となるため
好ましくない。本発明の共沸様溶剤組成物の混合割合
は、R225ca及び/又はR225cbからなるフッ
素化塩素化炭化水素70〜98重量%、シクロヘキサン
1〜29重量%及び特定のアルコール類1〜29重量%
である。
【0011】本発明の組成物には、必要に応じてその他
の成分を更に添加混合できる。例えば、ペンタン、イソ
ペンタン、ヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、イソヘ
プタン、2,3−ジメチルブタン、シクロペンタン、メ
チルシクロペンタン等の炭化水素類、ニトロメタン、ニ
トロエタン、ニトロプロパン等のニトロアルカン類、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミ
ン、ブチルアミン、イソブチルアミン等のアミン類、
タノール、1−プロパノール、1−ブタノール、イソブ
チルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert
−ブチルアルコール等のアルコール類、メチルセロソル
ブ、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン等のエー
テル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルブチル
ケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル等のエステル類、ジクロロメタン、cis−1,
2−ジクロロエチレン、trans−1,2−ジクロロ
エチレン、2−ブロモプロパン等のハロゲン化炭化水素
類、又は、1,1−ジクロロ−1−フルオロエタン、
2,2−ジクロロ−1,1,1−トリフルオロエタン、
1,1−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペンタフルオ
ロプロパン、1,2−ジクロロ−1,1,3,3,3−
ペンタフルオロプロパン、1,2−ジクロロ−1,1,
2,3,3−ペンタフルオロプロパン、2,3−ジクロ
ロ−1,1,1,2,3−ペンタフルオロプロパン、
2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3−ペンタフルオ
ロプロパン、1,1−ジクロロ−2,3,3,3−テト
ラフルオロプロペン−1、trans−3−クロロ−
1,1,1,2,4,4,5,5,5−ノナフルオロペ
ンテン−2、cis−3−クロロ−1,1,1,2,
4,4,5,5,5−ノナフルオロペンテン−2、1,
1,1,2,2,5,5,6,6,6−デカフルオロヘ
キサン等のフッ素化塩素化炭化水素類等を適宜添加で
る。添加量は、安定剤としての使用の場合には0.01
〜10重量%、洗浄力の調整等の場合には0.1〜30
重量%である。
【0012】本発明のフッ素化塩素化炭化水素系混合溶
剤組成物及び共沸様溶剤組成物は、従来のR113/ア
ルコール系と同程度の溶解力を有し、各種用途に好適に
使用できる。この具体的な用途としては、フラックス、
グリース、油、ワックス、インキ等の除去剤、塗料用溶
剤、抽出剤、ガラス、セラミックス、プラスチック、ゴ
ム、金属製各種物品、特にIC部品、電気機器、精密機
械、光学レンズ等の洗浄剤や水切り剤等挙げられる。
洗浄方法としては、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超
音波洗浄、蒸気洗浄等を採用すればよい。
【0013】
【実施例】[実施例1] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0014】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0015】[実施例2] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0016】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0017】[実施例3] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0018】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0019】[実施例4] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0020】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0021】
【0022】
【0023】[実施例] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0024】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0025】[実施例] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0026】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0027】
【0028】
【0029】[実施例] 下記の組成からなる溶剤組成物1000gを蒸留フラス
コに入れ、理論段数5段の精留塔を用い、大気圧下で蒸
留を行なった。
【0030】4時間後、8時間後、12時間後において
留分100gを各々採取した。このものをガスクロマト
グラフで測定した結果、次の組成であった。
【0031】[実施例21] 下記表1〜に示す混合溶剤組成物を用いてフラックス
の洗浄試験を行なった。ガラスエポキシ製のプリント基
板(50mm×100mm×1.6mm)全面にフラッ
クス(スピ−ディフラックスAGF−J−I:アサヒ化
学研究所製)を塗布し、250℃の電気炉で2分間焼成
後、本発明の混合溶剤組成物に1分間浸漬した。フラッ
クスの除去の度合を表1〜に示す。
【0032】下記表1〜に示す混合溶剤組成物を用い
て付着水の除去試験を行なった。30mm×18mm×
5mmのガラス板を純水に浸漬後、本発明の混合溶剤組
成物中に20秒浸漬して水切りを行ない、取り出したガ
ラス板を無水メタノール中に浸漬してその水分増加量か
ら付着水の除去状況を調べた。付着水の除去の度合を表
1〜に示す。
【0033】下記表1〜に示す混合溶剤組成物を用い
て機械油の洗浄試験を行なった。SUS−304のテス
トピース(25mm×30mm×2mm)を機械油(日
本石油製CQ−30)中に浸漬した後、本発明の混合溶
剤組成物中に5分浸漬した。機械油の除去の度合を表1
に示す。
【0034】表1〜におけるR123は2,2−ジク
ロロ−1,1,1−トリフルオロエタンを、R141b
は1,1−ジクロロ−1−フルオロエタンを、R225
aaは2,2−ジクロロ−1,1,1,3,3−ペンタ
フルオロプロパンを、R225baは2,3−ジクロロ
−1,1,2,3,3−ペンタフルオロプロパンを表わ
す。また、◎、△、×は以下の意味を表わす。 ◎;良好に除去可 △;微量残存 ×;かなり残存
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】
【表3】
【0038】
【表4】
【0039】
【0040】[実施例2226] 下記表に示す混合溶剤組成物についてダグ式引火
点測定装置(JISK2265)を用いて、引火点を測
定した。結果を表に示す。
【0041】
【表5】
【0042】
【表6】
【0043】
【発明の効果】本発明の混合溶剤組成物及び共沸様溶剤
組成物は、従来のR113/アルコール系混合溶剤組成
物が有している優れた特性を満足し、従来のR113/
アルコール系混合溶剤組成物と同じ使い方ができ、従来
技術の大幅な変更を要しない等の利点がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C11D 7:30 7:24 7:26) (56)参考文献 特開 平3−34941(JP,A) 特表 平5−506878(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C11D 7/50 B01D 12/00 C11D 7/24 - 7/30 C11D 3/43 - 3/44 C11D 3/18 - 3/24 CA(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−
    ペンタフルオロプロパン及び/又は1,3−ジクロロ−
    1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンからなる
    フッ素化塩素化炭化水素50〜98重量%、シクロヘキ
    サン1〜49重量%、並びにエタノール及び/又は2−
    プロパノールからなるアルコール類1〜49重量%
    らなる混合溶剤組成物。
  2. 【請求項2】3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−
    ペンタフルオロプロパン及び/又は1,3−ジクロロ−
    1,1,2,2,3−ペンタフルオロプロパンからなる
    フッ素化塩素化炭化水素70〜98重量%、シクロヘキ
    サン1〜29重量%、並びにエタノール及び/又は2−
    プロパノールからなるアルコール類1〜29重量%
    らなる共沸様溶剤組成物。
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