JP2013224383A - 洗浄用溶剤組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】地球環境に悪影響を及ぼさない、洗浄性に優れた洗浄用溶剤組成物の提供を目的とする。
【解決手段】１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンを含む洗浄用溶剤組成物。また、１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに加えて、１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤を含む洗浄用溶剤組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、洗浄用溶剤組成物に関する。

ＩＣ、電子部品、精密機械部品、光学部品等の製造では、製造工程、組立工程、最終仕上げ工程等において、部品を洗浄用溶剤組成物によって洗浄し、該部品に付着したフラックス、加工油、ワックス、離型剤、ほこり等を除去することが行われている。
該洗浄用溶剤組成物に用いる溶剤としては、不燃性で毒性が少なく、安定性に優れ、金属、プラスチック、エラストマー等の基材を侵さずに洗浄することが可能であることから、クロロフルオロカーボン類（以下、「ＣＦＣ類」と記す。）である１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以下、「ＣＦＣ−１１３」と記す。）が広く使用されていた。

しかし、ＣＦＣ−１１３等のＣＦＣ類は、化学的に極めて安定であることから、気化後の対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏にまで達する。そのため、成層圏に到達したＣＦＣ類が紫外線により分解され、塩素ラジカルを発生してオゾン層が破壊される問題がある。このことから、ＣＦＣ類の生産は世界的に規制されており、先進国での生産は既に全廃されている。

また、洗浄用溶剤組成物に用いる溶剤としては、２，２−ジクロロ−１，１，１−トリフルオロエタン、１，１−ジクロロ−１−フルオロエタン、３，３−ジクロロ−１，１，１，２，２−ペンタフルオロプロパン、１，３−ジクロロ−１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン等のハイドロクロロフルオロカーボン類（以下、「ＨＣＦＣ類」と記す。）も知られている。
しかし、ＨＣＦＣ類も塩素原子を有しており、僅かではあるがオゾン層に悪影響を及ぼすことから、先進国においては２０２０年に生産が全廃されることになっている。

一方、塩素原子を有さず、オゾン層に悪影響を及ぼさない溶剤としては、ペルフルオロカーボン類（以下、「ＰＦＣ類」と記す。）が知られている（特許文献１）。また、ＣＦＣ類およびＨＣＦＣ類の代替溶剤として、ハイドロフルオロカーボン類（以下、「ＨＦＣ類」と記す。）、ハイドロフルオロエーテル類（以下、「ＨＦＥ類」と記す。）等も開発されている（特許文献２、３）。

特開平５−１８４８０７号公報 特表平５−５０８４１８号公報 特開平５−２７１６９２号公報

しかし、ＨＦＣ類やＰＦＣ類は、地球温暖化防止のため、京都議定書の規制対象物質となっている。また、ＨＦＣ類、ＨＦＥ類、ＰＦＣ類は、加工油等の有機化学物質の洗浄性が充分ではなく、洗浄用の溶剤としては適用範囲が狭い。

本発明は、地球環境に悪影響を及ぼさない、洗浄性に優れた洗浄用溶剤組成物の提供を目的とする。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンを含む洗浄用溶剤組成物である。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、さらに、１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤を含むことが好ましい。
また、前記１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤は、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、クロロカーボン類、ハイドロフルオロカーボン類、およびハイドロフルロエーテル類からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
また、前記１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤の含有量は、０．１〜５０質量％であることが好ましい。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、地球環境に悪影響を及ぼさず、かつ洗浄性に優れている。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、例えば、各種部品の製造工程等において、部品に付着したフラックス、加工油、ワックス、離型剤、ほこり等を洗浄により除去するために用いる溶剤組成物である。
本発明の洗浄用溶剤組成物は、１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（以下、「ＣＦＯ−１２１４ｙａ」と記す。）を含む洗浄用溶剤組成物である。

ＣＦＯ−１２１４ｙａは、炭素原子−炭素原子間に二重結合を持つオレフィンであるため、大気中での寿命が短く、オゾン破壊係数や地球温暖化係数が小さい。また、ＣＦＯ−１２１４ｙａの沸点は約４６℃であるため、沸騰させて蒸気となってもその温度は約４６℃であり、樹脂部品等の熱による影響を受けやすい部品を蒸気洗浄する場合であっても部品に悪影響を及ぼし難い。また、ＣＦＯ−１２１４ｙａは引火点を持たない。また、ＣＦＯ−１２１４ｙａは、表面張力や粘度が低く、室温でも容易に蒸発する等、洗浄溶剤として優れた性能を有している。
さらに、本発明者等が検討した結果、ＣＦＯ−１２１４ｙａは優れた洗浄性を有していることが判明した。すなわち、従来は洗浄用溶剤組成物にＣＦＯ−１２１４ｙａは使用されていなかったが、ＣＦＯ−１２１４ｙａを用いた洗浄によって、フラックスや加工油、ワックス等を良好に除去できることが判明した。

ＣＦＯ−１２１４ｙａは、例えば、１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン（以下、「ＨＣＦＣ−２２５ｃａ」と記す。）を原料として、相間移動触媒存在下にアルカリ水溶液中で脱フッ化水素化させる方法（１）、またはＨＣＦＣ−２２５ｃａを原料として、クロム、鉄、銅、活性炭等の触媒存在下に気相で脱フッ化水素化させる方法（２）等で製造できる（特許第３７７８２９８号公報参照）。また、前記方法（１）および方法（２）において、ＨＣＦＣ−２２５ｃａと１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパン（以下、「ＨＣＦＣ−２２５ｃｂ」と記す。）の異性体混合物を原料として使用し、ＨＣＦＣ−２２５ｃａを脱フッ化水素化させる方法でも製造できる（国際公開第２０１０／０７４２５４号参照）。前記異性体混合物を使用する方法は、簡便で経済的である点で有利である。

前記した製造方法で得られたＣＦＯ−１２１４ｙａには、未反応のＨＣＦＣ−２２５ｃａやＨＣＦＣ−２２５ｃｂ等の不純物が存在する。使用するＣＦＯ−１２１４ｙａ中の不純物の含有量は、オゾン層破壊や地球温暖化等の地球環境への負荷を低減し、また優れた洗浄性を得るために、１質量％以下が好ましく、０．５質量％以下がより好ましい。
すなわち、ＣＦＯ−１２１４ｙａの純度は、９９質量％以上が好ましく、９９．５質量％以上がより好ましい。
ＣＦＯ−１２１４ｙａの純度は、蒸留等によって高めることができる。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、ＣＦＯ−１２１４ｙａに加えて、洗浄における被洗浄物に付着しているフラックス、加工油、ワックス、離型剤、ほこり等の汚れを被洗浄物の表面から切り離したり溶解したりする速度や、溶解できる飽和溶解度を高める等の各種の目的に応じて、ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶な溶剤（以下、「他の溶剤（Ａ）」と記す。）を含むことが好ましい。なお、ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶であるとは、他の溶剤（Ａ）を所望の濃度となるようにＣＦＯ−１２１４ｙａに混合して、常温（２５℃）で撹拌することにより二層分離や濁りを起こさずに均一に溶解できることを意味する。
他の溶剤（Ａ）としては、ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶な炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、クロロカーボン類、ＨＦＣ類およびＨＦＥ類からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶な炭化水素類としては、炭素数が５以上の炭化水素類が好ましい。該炭化水素類は、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和炭化水素類であっても、不飽和炭化水素類であってもよい。
具体的には、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、２，２−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２，３，３−トリメチルペンタン、２，３，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２−メチルヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−ノナン、２，２，５−トリメチルヘキサン、ｎ−デカン、ｎ−ドデカン、２−メチル−２−ブテン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、シクロヘキセン、α−ピネン、ジペンテン、デカリン、テトラリン、アミルナフタレン等が挙げられる。なかでも、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタンがより好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なアルコール類としては、炭素数１〜１６のアルコール類が好ましい。該アルコール類は、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和アルコール類であっても、不飽和アルコール類であってもよい。
具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノール、アリルアルコール、プロパルギルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、α−テルピネオール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアルコール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールがより好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なケトン類としては、炭素数３〜９のケトン類が好ましい。該ケトン類は、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和ケトン類であっても、不飽和ケトン類であってもよい。
具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、メシチルオキシド、ホロン、２−オクタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサンジオン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン等が挙げられる。なかでも、アセトン、メチルエチルケトンがより好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なエーテル類としては、炭素数２〜８のエーテル類が好ましい。該エーテル類は、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和エーテル類であっても、不飽和エーテル類であってもよい。
具体的には、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール、フラン、メチルフラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。なかでも、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランがより好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なエステル類としては、炭素数２〜１９のエステル類が好ましい。該エステル類は、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和エステル類であっても、不飽和エステル類であってもよい。
具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸メトキシブチル、酢酸ｓｅｃ−ヘキシル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ベンジル、γ−ブチロラクトン、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシン酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル等が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチルがより好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なクロロカーボン類としては、炭素数１〜３のクロロカーボン類が好ましい。該クロロカーボン類は、鎖状であっても環状であってもよく、また飽和クロロカーボン類であっても、不飽和クロロカーボン類であってもよい。
具体的には、塩化メチレン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、１，１−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，２−ジクロロプロパン等が挙げられる。なかでも、塩化メチレン、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレンがより好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なＨＦＣ類としては、炭素数４〜８の鎖状または環状のＨＦＣ類が好ましく、１分子中のフッ素原子数が水素原子数以上であるＨＦＣ類がより好ましい。
具体的には、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン等が挙げられる。なかでも、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンがさらに好ましい。

ＣＦＯ−１２１４ｙａに可溶なＨＦＥ類としては、例えば、（ペルフルオロブトキシ）メタン、（ペルフルオロブトキシ）エタン、１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタン等が挙げられる。なかでも、（ペルフルオロブトキシ）メタン、１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタンが好ましい。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、溶剤がＣＦＯ−１２１４ｙａのみであってもよく、ＣＦＯ−１２１４ｙａと他の溶剤（Ａ）の混合溶剤であってもよい。本発明の洗浄用溶剤組成物が他の溶剤（Ａ）を含む場合、他の溶剤（Ａ）は１種であってもよく、２種以上であってもよい。
他の溶剤（Ａ）は引火点を持たない溶剤であることがさらに好ましい。引火点を持たない他の溶剤（Ａ）としては、１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン等のＨＦＣ類や、（ペルフルオロブトキシ）メタン、１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタン等のＨＦＥ類等が挙げられる。他の溶剤（Ａ）として引火点を有する溶剤を用いる場合でも、洗浄用溶剤組成物として引火点を持たない範囲でＣＦＯ−１２１４ｙａと混合して用いることが好ましい。
また、ＣＦＯ−１２１４ｙａと他の溶剤（Ａ）が共沸組成を形成する場合は、共沸組成での使用も可能である。

本発明の洗浄用溶剤組成物（１００質量％）中のＣＦＯ−１２１４ｙａの含有量は、５０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。ＣＦＯ−１２１４ｙａの含有量が前記下限値以上であれば、洗浄性に優れる。ＣＦＯ−１２１４ｙａの含有量の上限値は、１００質量％である。
本発明の洗浄用溶剤組成物（１００質量％）中の他の溶剤（Ａ）の含有量は、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましく、３〜１０質量％がさらに好ましい。
他の溶剤（Ａ）の含有量が前記下限値以上であれば、他の溶剤（Ａ）による効果が充分に得られる。他の溶剤（Ａ）の含有量が前記上限値以下であれば、ＣＦＯ−１２１４ｙａの洗浄溶剤として優れた性能を損なうことはない。

本発明の洗浄用溶剤組成物におけるＣＦＯ−１２１４ｙａと他の溶剤（Ａ）の合計量に対するＣＦＯ−１２１４ｙａの割合は、５０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。前記ＣＦＯ−１２１４ｙａの割合が前記下限値以上であれば、洗浄性に優れる。前記ＣＦＯ−１２１４ｙａの割合の上限値は、１００質量％である。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内であれば、ＣＦＯ−１２１４ｙａおよび他の溶剤（Ａ）に加えて、ＣＦＯ−１２１４ｙａおよび他の溶剤（Ａ）以外の他の成分を含んでもよい。
他の成分としては、例えば、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、α−ピコリン、Ｎ−メチルベンジルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイゲノール、ｏ−メトキシフェノール、４，４’−ジヒドロキシフェニル−２，２−プロパン、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、１，２−プロピレンオキサイド、１，２−ブチレンオキサイド、１，４−ジオキサン、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等が挙げられる。

本発明の洗浄用溶剤組成物の水分含有量は、５０質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がより好ましい。前記水分含有量が前記上限値以下であれば、保管時等にＣＦＯ−１２１４ｙａが分解するなどして洗浄用溶剤組成物が変質することを抑制できる。
特に、前記方法（１）でＣＦＯ−１２１４ｙａを製造した場合等にＣＦＯ−１２１４ｙａに水分が含まれやすいので、ＣＦＯ−１２１４ｙａの製造後にＣＦＯ−１２１４ｙａ中の水分を除去することが好ましい。

本発明の洗浄用溶剤組成物の水分を除去する方法としては、例えば、脱水剤としてゼオライトを用いる方法が挙げられる。ゼオライトは、天然品であっても、合成品であってもよく、安定した品質および入手容易性の点から、合成ゼオライトが好ましい。
具体的には、製品名「モレキュラーシーブス３Ａ」、「モレキュラーシーブス４Ａ」、「モレキュラーシーブス５Ａ」、「モレキュラーシーブス１３Ｘ」（以上、ユニオンカーバイド株式会社製）、「ゼオラムＡ−３」、「ゼオラムＡ−４」、「ゼオラムＡ−５」、「ゼオラムＦ−９」（以上、東ソー株式会社製）等が挙げられる。なかでも、「モレキュラーシーブス３Ａ」、「モレキュラーシーブス４Ａ」、「ゼオラムＡ−３」、「ゼオラムＡ−４」等の３Ａ型と４Ａ型が好ましい。

本発明の洗浄用溶剤組成物の用途としては、例えば、ＩＣ、電子部品、精密機械部品、光学部品等の各種の被洗浄物に付着したフラックス、加工油、ワックス、離型剤、ほこり等の洗浄除去が挙げられる。
また、本発明の洗浄用溶剤組成物は、金属製、樹脂製、ゴム製、およびそれらの複合材料等、様々な材質の被洗浄物の洗浄に適用できる。

本発明の洗浄用溶剤組成物を用いた被洗浄物の洗浄方法は、本発明の洗浄用溶剤組成物を用いる以外は特に限定されない。例えば、手拭き洗浄、浸漬洗浄、スプレー洗浄、浸漬揺動洗浄、浸漬超音波洗浄、蒸気洗浄、およびこれらを組み合わせた方法等を採用すればよい。洗浄装置、洗浄条件等も適宜選定できる。

以上説明した本発明の洗浄用溶剤組成物は、大気中の寿命が短く、かつ洗浄性に優れるＣＦＯ−１２１４ｙａを含むので、地球環境に悪影響を及ぼさずに、被洗浄物を良好に洗浄できる。特に、加工油等、ＨＦＣ類、ＨＦＥ類、ＰＦＣ類では充分な洗浄性が得られないものも、本発明の洗浄用溶剤組成物を用いれば良好に洗浄除去できる。

以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。例１は製造例、例２〜３４は実施例、例３５、３６は比較例である。
［洗浄性の評価］
１．洗浄試験Ａ
ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、切削油である製品名「ダフニーマーグプラスＨＴ−１０」（出光興産株式会社製）中に浸漬した後、各例の洗浄用溶剤組成物５０ｍＬ中に１分間浸漬し、引き上げて切削油が除去された度合を観察した。洗浄性の評価は以下の基準に従って行った。
「◎（優良）」：切削油が完全に除去される。
「○（良好）」：切削油がほぼ除去される。
「△（やや不良）」：切削油が微量に残存する。
「×（不良）」：切削油がかなり残存する。
２．洗浄試験Ｂ
切削油として製品名「ダフニーマーグプラスＡＭ２０」（出光興産株式会社製）を使用した以外は洗浄試験Ａと同様に試験し、同じ基準で洗浄性を評価した。
３．洗浄試験Ｃ
切削油として製品名「ダフニーマーグプラスＨＭ２５」（出光興産株式会社製）を使用した以外は洗浄試験Ａと同様に試験し、同じ基準で洗浄性を評価した。
４．洗浄試験Ｄ
切削油として製品名「Ｇ−６３１８ＦＫ」（日本工作油株式会社製）を使用した以外は洗浄試験Ａと同様に試験し、同じ基準で洗浄性を評価した。

［例１］ＣＦＯ−１２１４ｙａの製造
国際公開第２０１０／０７４２５４号の実施例１の方法を繰り返して行い、合計で３９００ｇの１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（ＣＦＯ−１２１４ｙａ）を得た。
具体的には、０℃に冷却したジムロートを設置した内容積１Ｌのガラス反応器に、相関移動触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド３ｇと、水酸化カリウムの８３ｇ（１．４８５モル）と、水の１８０ｇと、製品名「アサヒクリンＡＫ２２５」（旭硝子株式会社製、ＨＣＦＣ−２２５ｃａの４８モル％とＨＣＦＣ−２２５ｃｂの５２モル％の混合物）の６０９ｇ（３モル）を仕込んだ後、撹拌しながら徐々に昇温し、４５℃で１時間反応を行った。反応後、有機相と水相の２相に分離している反応粗液から有機相を分離し、釜容積１Ｌ、理論段数１０段の能力を持つ蒸留塔により該有機相を蒸留してＣＦＯ−１２１４ｙａを得た。これを繰り返して合計で３９００ｇのＣＦＯ−１２１４ｙａを得た。
得られたＣＦＯ−１２１４ｙａの純度は９９．５質量％、水分含有量は７０質量ｐｐｍであった。その後、さらにモレキュラーシーブス３Ａ（ユニオンカーバイド株式会社製）により脱水処理を行い、水分含有量が３質量ｐｐｍのＣＦＯ−１２１４ｙａを得た。

［例２〜３４］
例１で得たＣＦＯ−１２１４ｙａを用いて、表１に示す組成の洗浄用溶剤組成物を調製し、洗浄性を評価した。

例２〜３４の洗浄性の評価結果を表１に示す。なお、表１における略号は以下の意味を示す。
ＣＦＯ−１２１４ｙａ：１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン。
ＮＰＥＮ：ｎ−ペンタン。
ＣＰＥＮ：シクロペンタン。
ＮＨＥＸ：ｎ−ヘキサン。
ＣＨＥＸ：シクロヘキサン。
ＮＨＥＰ：ｎ−ヘプタン。
ＭＥＯＨ：メタノール。
ＥＴＯＨ：エタノール。
ＩＰＡ：イソプロピルアルコール。
ＡＣＥ：アセトン。
ＭＥＫ：メチルエチルケトン。
ＤＥＥ：ジエチルエーテル。
ＤＩＰＥ：ジイソプロピルエーテル。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン。
ＭＥＡＣ：酢酸メチル。
ＥＴＡＣ：酢酸エチル。
ＭＣ：塩化メチレン。
ＴＤＣＥ：ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン。
ＴＣＥ：トリクロロエチレン。
ＨＦＣ４３１０：１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン（製品名「バートレル（登録商標）ＸＦ」、三井・デュポンフロロケミカル株式会社製。）。
ＨＦＣ５６９：１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフルオロヘキサン（製品名「アサヒクリンＡＣ−４０００」、旭硝子株式会社製。）
ＨＦＣ５２１３：１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン（製品名「アサヒクリンＡＣ−２０００」、旭硝子株式会社製。）。
ＨＦＥ４４９：（ペルフルオロブトキシ）メタン（製品名「ＮｏｖｅｃＴＭ７１００」、住友スリーエム株式会社製。）。
ＨＦＥ３４７：１，１，２，２−テトラフルオロ−１−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）エタン（製品名「アサヒクリンＡＥ−３０００」、旭硝子株式会社製。）。

［例３５および３６］
表２に示す組成の洗浄用溶剤組成物について、洗浄性を評価した。
例３５および３６の評価結果を表２に示す。なお、表２における略号は表１における略号と同じ意味を示す。

表１に示すように、例２〜３４の本発明の洗浄用溶剤組成物は、いずれの洗浄試験においても切削油を充分に洗浄除去でき、優れた洗浄性を示した。
一方、表２に示すように、ＨＦＣ類またはＨＦＥ類を単独で使用した例３５、３６の洗浄用溶剤組成物は、洗浄後に切削油がかなり残存しており、充分な洗浄性が得られなかった。

本発明の洗浄用溶剤組成物は、オゾン層破壊や地球温暖化への寄与が極めて小さく、かつＣＦＣ類やＨＣＦＣ類と同等の優れた洗浄性を有しているので、ＩＣ、電子部品、精密機械部品、光学部品等の様々な部品の洗浄に好適に使用できる。

Claims (4)

1. １，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンを含む洗浄用溶剤組成物。
2. さらに、１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤を含む、請求項１に記載の洗浄用溶剤組成物。
3. 前記１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤が、炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、クロロカーボン類、ハイドロフルオロカーボン類、およびハイドロフルロエーテル類からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項２に記載の洗浄用溶剤組成物。
4. 前記１，１−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペンに可溶な溶剤の含有量が０．１〜５０質量％である請求項２または３に記載の洗浄用溶剤組成物。