JPH07316595A - 溶剤組成物 - Google Patents

溶剤組成物

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JPH07316595A
JPH07316595A JP11300494A JP11300494A JPH07316595A JP H07316595 A JPH07316595 A JP H07316595A JP 11300494 A JP11300494 A JP 11300494A JP 11300494 A JP11300494 A JP 11300494A JP H07316595 A JPH07316595 A JP H07316595A
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JP
Japan
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weight
solvent composition
10mee
dichloro
r225ca
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Application number
JP11300494A
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Tateo Kitamura
健郎 北村
Michinori Ikehata
通乃 池畑
Masaaki Tsuzaki
真彰 津崎
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AG Technology Co Ltd
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AG Technology Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】従来の1,1,2−トリクロロ−1,2,2−
トリフルオロエタンが有する優れた特性を保持しながら
オゾン層へ影響を与えない代替組成物を提供する。 【構成】3,3−ジクロロ−1,1,1,2,2−ペン
タフルオロプロパンおよび1,3−ジクロロ−1,1,
2,2,3−ペンタフルオロプロパンの少なくとも1種
を含む1,1,1,2,3,4,4,5,5,5−デカ
フルオロペンタンからなる溶剤組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント基板やIC等
の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の脱脂洗浄、
フラックス洗浄等に用いられる溶剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】各種油脂洗浄、フラックス洗浄等には、
不燃性、低毒性、安定性に優れる1,1,2-トリクロロ-1,
2,2- トリフルオロエタン( 以下、 R113 という。) ま
たはこのR113とこれに可溶な溶剤との混合溶剤組成物が
広く使用されている。R113は、金属、プラスチック、エ
ラストマー等の基材を侵さず、各種の汚れを選択的に溶
解する等の特徴を有するため、金属、プラスチック、エ
ラストマー等からなる各種電子部品、精密機械部品、光
学部品等の洗浄には最適であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来使用されていたR1
13は、種々の利点を有するにもかかわらず、化学的に極
めて安定なため、対流圏内での寿命が長く、拡散して成
層圏に達し、ここで紫外線により分解して塩素ラジカル
を発生し、この塩素ラジカルが成層圏オゾンと連鎖反応
を起こし、オゾン層を破壊するとのことから、その生産
および消費について規制が実施されている。
【0004】このため、従来のR113に替わり、オゾン層
を破壊しにくい代替溶剤の探索が活発に行われている。
本発明は、従来のR113が有している優れた特性を満足し
ながらオゾン層への影響が極めて小さい代替溶剤として
使用できる新規な溶剤組成物を提供することを目的とす
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の目的を達
成すべくなされたものであり、(1)3,3-ジクロロ-1,
1,1,2,2- ペンタフルオロプロパン( 以下、R225caとい
う。) および1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロ
プロパン( 以下、R225cbという。) の少なくとも1種を
含む1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタン( 以
下、R43-10mee という。) からなる溶剤組成物、(2)
R43-10mee 40〜55重量%とR225ca45〜60重量%
とからなる擬共沸溶剤組成物、(3)R43-10mee 48重
量%とR225ca52重量%とからなる共沸溶剤組成物、
(4)R43-10mee 50〜70重量%とR225cb30〜50
重量%とからなる擬共沸溶剤組成物、(5)R43-10mee
58重量%とR225cb42重量%とからなる共沸溶剤組成
物および(6)R225caとR225cbとからなる混合物10〜
50重量%とR43-10mee 50〜90重量%とからなる擬
共沸溶剤組成物である。
【0006】本発明のR225caおよびR225cbの少なくとも
1種を含むR43-10mee からなる溶剤組成物の混合組成比
は特に限定されないが、R43-10mee に対するR225ca、R2
25cbの混合割合は、おおよそR43-10mee 100重量部に
対して、R225ca、およびR225cbの少なくとも1種が10
〜1000重量部である。R225ca、およびR225cbの混合
割合は、R225ca/R225cb=0.01〜99.99重量%
/99.99〜0.01重量%が好ましく、この広い範
囲で両者は擬共沸挙動を示す。
【0007】R43-10mee 40〜55重量%、R225ca 4
5〜60重量%の組成範囲では擬共沸挙動を示し組成変
化がほとんど無く、またR43-10mee 48重量%、R225ca
52重量%で共沸組成物を形成するため、この組成で
は組成変化が全く無い。
【0008】また、R43-10mee 50〜70重量%、R225
cb 30〜50重量%の組成範囲では擬共沸挙動を示し
組成変化がほとんど無く、またR43-10mee 58重量%、
R225cb 42重量%で共沸組成物を形成するため、この
組成では組成変化が全く無い。
【0009】R225caとR225cbとからなる混合物10〜5
0重量%、R43-10mee 50〜90重量%の組成範囲では
擬共沸挙動を示す。ここにおけるR225ca/R225cb混合物
の組成範囲はR225ca/R225cb=0.01〜99.99重
量%/99.99〜0.01重量%、好ましくはR225ca
/R225cb=1〜99重量%/99〜1重量%とすること
ができる。
【0010】R225caおよびR225cbの少なくとも1種を含
むR43-10mee からなる溶剤組成物におけるR225caおよび
R225cbの含有割合はR43-10mee 100重量部に対してそ
れぞれ1〜1000重量部、好ましくは10〜100重
量部である。
【0011】R225caおよびR225cbの少なくとも1種を含
むR43-10mee からなる溶剤組成物には炭化水素類、塩素
化炭化水素類、R225ca、R225cb以外の塩素化フッ素化炭
化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテル類および
エステル類から選ばれる少なくとも1種が含まれていて
もよい。
【0012】R225caおよびR225cbの少なくとも1種と炭
化水素類、塩素化炭化水素類、R225ca、R225cb以外の塩
素化フッ素化炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エ
ーテル類およびエステル類から選ばれる少なくとも1種
とを含むR43-10mee からなる溶剤組成物における炭化水
素類、塩素化炭化水素類、R225ca、R225cb以外の塩素化
フッ素化炭化水素類、アルコール類、ケトン類、エーテ
ル類、エステル類、R225caおよびR225cbの含有割合はそ
れぞれR43-10mee 100重量部に対して1〜1000重
量部、好ましくは10〜100重量部である。
【0013】炭化水素類としては、n-ペンタン、2-メチ
ルブタン、2,2-ジメチルプロパン、n-ヘキサン、3-メチ
ルペンタン、2,2-ジメチルブタン、2,3-ジメチルブタ
ン、n-ヘプタン、2-メチルヘキサン、3-メチルヘキサ
ン、2,3-ジメチルペンタン、2,4-ジメチルペンタン、n-オクタ
ン、2,2,3-トリメチルペンタン、2,2,4-トリメチルペン
タン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロ
ヘキサン、エチルシクロヘキサン等が挙げられる。
【0014】塩素化炭化水素類としては、ジクロロメタ
ン、cis-1,2-ジクロロエチレン、trans-1,2-ジクロロエ
チレン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエ
タン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等
が、アルコール類としてはメタノール、エタノール、1-
プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタ
ノール、イソブタノール、t-ブタノール等が挙げられ
る。
【0015】ケトン類としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等が、エーテル類としては、ジエチルエーテル、メチ
ルセロソルブ、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等
が、R225以外の塩素化フッ素化炭化水素類としては、2,
2-ジクロロ-1,1,1- トリフルオロエタン、1,1-ジクロロ
-1- フルオロエタン等が、エステル類としては、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。
【0016】主として安定性を高めるために、例えば以
下に挙げる化合物の一種または二種以上を、本発明の組
成物におけるR43-10mee 100重量部に対して0.00
1〜10重量部、好ましくは0.001〜5重量部の割
合で本発明の組成物へ含有させることができる。
【0017】ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロ
パン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、i-プロピルアミン、ブチルア
ミン、i-ブチルアミン等のアミン類。フェノール、o-ク
レゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、チモール、p-
t-ブチルフェノール、t-ブチルカテコール、カテコー
ル、イソオイゲノール、o-メトキシフェノール、4,4'-
ジヒドロキシジフェニル-2,2- プロパン、サリチル酸イ
ソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、2,
6-ジ-t- ブチル-p- クレゾール等のフェノール類。
【0018】2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチル- フェニル)
ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-3'-t-ブチル-
5'-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール、1,
2,3-ベンゾトリアゾール、1-[(N,N-ビス-2- エチルヘキ
シル) アミノメチル] ベンゾトリアゾールのトリアゾー
ル類。
【0019】本発明の溶剤組成物は、従来のR113系と同
程度の溶解力を有し、各種用途に好適に使用できる。か
かる具体的な用途としては、グリース、油、ワックス、
インキ等の除去剤、塗料用溶剤、抽出剤、ガラス、セラ
ミックス、プラスチック、ゴム、金属製各種物品、特に
IC部品、電気機器、精密機械、光学レンズ等の洗浄剤
等を挙げることができる。洗浄方法としては、手拭き、
浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄またはこ
れらを組み合わせた方法等を採用すればよい。
【0020】
【実施例】以下に本発明の実施例を示す。
【0021】[実施例1]R43-10mee (沸点53.6℃)4
8重量%、R225ca(沸点51.1℃)52重量%からなる溶
剤組成物1000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5
段の精留塔に取り付ける。次にその組成物を加熱して2
時間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採
取しガスクロマトグラフで分析する。その結果を表1に
示す。
【0022】[実施例2]R43-10mee 55重量%とR225
ca45重量%からなる溶剤組成物20kgを小型単槽式
洗浄機に入れ、1日あたり6時間で3日間運転する。経
時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガス
クロマトグラフによる分析結果を表2に示す。
【0023】[実施例3]R43-10mee 40重量%とR225
ca60重量%からなる溶剤組成物20kgを小型単槽式
洗浄機に入れ、1日あたり6時間で3日間運転する。経
時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガス
クロマトグラフによる分析結果を表3に示す。
【0024】[実施例4]R43-10mee (沸点53.6℃)5
8重量%、R225cb(沸点56.1℃)42重量%からなる溶
剤組成物1000gを蒸留フラスコに入れ、理論段数5
段の精留塔に取り付ける。次にその組成物を加熱して2
時間全還流し、平衡状態に達した後、経時的に留分を採
取しガスクロマトグラフで分析する。その結果を表4に
示す。
【0025】[実施例5]R43-10mee 70重量%とR225
cb30重量%からなる溶剤組成物20kgを小型単槽式
洗浄機に入れ、1日あたり6時間で3日間運転する。経
時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガス
クロマトグラフによる分析結果を表5に示す。
【0026】[実施例6]R43-10mee 50重量%とR225
cb50重量%からなる溶剤組成物20kgを小型単槽式
洗浄機に入れ、1日あたり6時間で3日間運転する。経
時的に洗浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガス
クロマトグラフによる分析結果を表6に示す。
【0027】[実施例7]R43-10mee 90重量%とR225
(R225ca/R225cb=45/55重量%の混合物)10重
量%からなる溶剤組成物20kgを小型単槽式洗浄機に
入れ、1日あたり6時間で3日間運転する。経時的に洗
浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガスクロマト
グラフによる分析結果を表7に示す。
【0028】[実施例8]R43-10mee 50重量%とR225
(R225ca/R225cb=45/55重量%の混合物)50重
量%からなる溶剤組成物20kgを小型単槽式洗浄機に
入れ、1日あたり6時間で3日間運転する。経時的に洗
浄槽・水分離器各々からサンプリングし、ガスクロマト
グラフによる分析結果を表8に示す。
【0029】[実施例9〜16]下記の表9に示す溶剤
組成物を用いて機械油の洗浄試験を行う。すなわち、SU
S-304 のテストピース(25mm ×30mm×2mm)を機械油(日
本石油製CQ−30)中に浸漬した後、下記の表9に示
す本発明の溶剤組成物中に5分浸漬する。機械油の除去
の度合を判定し、その結果を除去度として下記の表9に
示す。◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり残
存。
【0030】[実施例17〜24]下記の表10〜11
に示す溶剤組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行
う。すなわち、ガラスエポキシ製のプリント基板(50mm
×100 mm×1.6mm )全面にフラックス(スピーディフラ
ックス AGF-J-I:アサヒ化学研究所製)を塗布し、260
℃の半田温度でウエーブソルダー機を用いて半田付け
後、下記の表10〜11に示す本発明の溶剤組成物に3
分間浸漬し洗浄を行う。フラックスの除去の度合を判定
し、その結果を除去度として下記の表10〜11に示
す。◎: 良好に除去可、△: 微量残存、×: かなり残
存。
【0031】[実施例25〜32]下記の表12〜13
に示す溶剤組成物を用いて付着水の除去試験を行う。す
なわち、30mm×18mm×5mm のガラス板を純水に浸漬後、
下記の表12〜13に示す本発明の溶剤組成物中に20
秒浸漬して水切りを行い、取り出したガラス板を無水メ
タノール中に浸漬してその水分増加量から付着水の除去
状況を判定する。付着水の除去の度合を除去度として下
記の表12〜13に示す。◎: 良好に除去可、△: 微量
残存、×: かなり残存。
【0032】
【表1】
【0033】
【表2】
【0034】
【表3】
【0035】
【表4】
【0036】
【表5】
【0037】
【表6】
【0038】
【表7】
【0039】
【表8】
【0040】
【表9】
【0041】
【表10】
【0042】
【表11】
【0043】
【表12】
【0044】
【表13】
【0045】
【発明の効果】本発明の溶剤組成物は、従来のR113が有
している優れた特性を満足し、オゾン層へほとんど影響
を与えない等の利点がある。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロ
    プロパンおよび1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオ
    ロプロパンの少なくとも1種を含む1,1,1,2,3,4,4,5,5,
    5-デカフルオロペンタンからなる溶剤組成物。
  2. 【請求項2】アルコール類が含まれている請求項1の組
    成物。
  3. 【請求項3】1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタ
    ン40〜55重量%と3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタ
    フルオロプロパン45〜60重量%とからなる擬共沸溶
    剤組成物。
  4. 【請求項4】1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタ
    ン48重量%と3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオ
    ロプロパン52重量%とからなる共沸溶剤組成物。
  5. 【請求項5】1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタ
    ン50〜70重量%と1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタ
    フルオロプロパン30〜50重量%とからなる擬共沸溶
    剤組成物。
  6. 【請求項6】1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオロペンタ
    ン58重量%と1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオ
    ロプロパン42重量%とからなる共沸溶剤組成物。
  7. 【請求項7】3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロ
    プロパンと1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロプ
    ロパンジクロロペンタフルオロプロパンとからなる混合
    物10〜50重量%と1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-デカフルオ
    ロペンタン50〜90重量%とからなる擬共沸溶剤組成
    物。
  8. 【請求項8】3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロ
    プロパンと1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3- ペンタフルオロプ
    ロパンジクロロペンタフルオロプロパンとからなる混合
    物が3,3-ジクロロ-1,1,1,2,2- ペンタフルオロプロパン
    0.01〜99.99重量%と1,3-ジクロロ-1,1,2,2,3
    - ペンタフルオロプロパン0.01〜99.99重量%
    とからなる混合物である請求項7の組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101043033B1 (ko) * 2002-05-23 2011-06-21 일리노이즈 툴 워크스 인코포레이티드 세 가지 성분으로 된 불연성 세척 용매

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KR101043033B1 (ko) * 2002-05-23 2011-06-21 일리노이즈 툴 워크스 인코포레이티드 세 가지 성분으로 된 불연성 세척 용매

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