JP2005281326A - 溶剤組成物 - Google Patents

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Abstract

【課題】溶解力に優れ、幅広い用途に使用できる新規な溶剤組成物を提供する。
【解決手段】１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン２５．０〜７５．０％（質量基準である。以下同じ。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン１５．０〜７４．９％、アルコール０．１〜１０．０％からなる溶剤組成物。また、前記組成物において、アルコールがメタノール、エタノールまたは２−プロパノールである共沸様溶剤組成物、共沸溶剤組成物。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＩＣ等の電子部品、精密機械部品、ガラス基板等の物品に付着する油脂類、プリント基板等のフラックス、塵埃などの汚れを除去するために用いられる溶剤組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、精密機械工業、光学機器工業、電気電子工業、およびプラスチック加工業等において、製造加工工程等で付着した油、フラックス、塵埃、ワックス等を除去するための精密洗浄には、不燃性で化学的および熱的安定性に優れ、油脂類の溶解力のあるフッ素系溶剤としてジクロロペンタフルオロプロパン（以下、Ｒ−２２５と記す。）等のハイドロクロロフルオロカーボン（以下、ＨＣＦＣと記す。）が広く使われていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、ＨＣＦＣはオゾン破壊係数があるため、先進国においては２０２０年に生産が全廃されるという問題があった。これに対し、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン（ＣＨＦ２ＣＦ２ＯＣＨ２ＣＦ３）はオゾン破壊係数がなく、地球環境への影響が小さいフッ素系溶剤であるが、油脂類の溶解力が低い問題があった。一方、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンは、油脂類の溶解力は高いが、引火点が４℃と低い問題があった。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが２５.０〜７５．０％（質量基準である。以下同じ。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが１５．０〜７４．９％、炭素数１〜３のアルコールが０．１〜１０．０％である溶剤組成物（以下、組成物Ａという。）を提供する。
【０００５】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが３０．０〜６０．０％、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが３４．０〜６６．０％、メタノールが４．０〜６．０％である溶剤組成物（以下、組成物Ｂという。）を提供する。
【０００６】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが３５．０〜６５．０％、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが３１．５〜６３．５％、エタノールが１．５〜３．５％である溶剤組成物（以下、組成物Ｃという。）を提供する。
【０００７】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが３３．０〜６３．０％、ｔｒａｎｓ−，２−ジクロロエチレンが３６．０〜６６．９％、２−プロパノールが０．１〜１．０％である溶剤組成物（以下、組成物Ｄという。）を提供する。
【０００８】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールとからなる溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが４５．６％、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが４９．３％、メタノールが５．１％からなる共沸溶剤組成物（以下、組成物Ｅという。）を提供する。
【０００９】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールとからなる溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが４７．５％、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが４９．９％、エタノールが２．６％からなる共沸溶剤組成物（以下、組成物Ｆという。）を提供する。
【００１０】
本発明は、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールとからなる溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが４７．７％、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが５１．８％、２−プロパノールが０．５％からなる共沸溶剤組成物（以下、組成物Ｇという。）を提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
組成物Ａは、引火点が室温（２５℃）より高いか、または沸騰状態で引火しない不燃性の組成である。さらに、油脂類やフラックス類に対する洗浄力が高い。
【００１２】
組成物Ｅ、Ｆ、Ｇは、共沸溶剤組成物である。共沸溶剤組成物とは、該組成物を繰り返し蒸発、凝縮させても組成変化がない組成物である。
【００１３】
また、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄは、共沸様溶剤組成物である。共沸様溶剤組成物とは、該組成物を繰り返し蒸発、凝縮させても組成変化が小さいため、実用上は共沸溶剤組成物と同等の使い方ができる組成物である。そのような組成物は、一般的に共沸様溶剤組成物と呼ばれる。
【００１４】
組成物Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇを物品の洗浄等に用いた場合、該組成物の組成変化は小さいかまたは無いため、安定した洗浄性能を維持しながら使用できる。さらに従来使われていたＲ２２５と同じ装置で洗浄できるため、従来技術の大幅な変更を要しない利点がある。
【００１５】
組成物Ａ〜Ｇは、他の化合物を含んでいてもよい。ここで、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄの場合は、共沸様溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲内で、組成物Ｅ、Ｆ、Ｇの場合は、共沸溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲内で、それぞれ他の化合物を含むことができる。
【００１６】
他の化合物としては、炭化水素類、アルコール類（炭素数１〜３のアルコールを除く。）、ケトン類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類およびグリコールエーテル類からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられる。これらの化合物の溶剤組成物中における含有割合は、好ましくは４０％以下、より好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１０％以下である。他の化合物の含有量の下限は、該化合物を添加する目的を達成し得る最低限の量である。通常、その最低限の量は溶剤組成物全量に対して０．１％以上である。他の化合物を含む溶剤組成物に共沸組成が存在する場合には、その共沸組成での使用が好ましい。
【００１７】
炭化水素類としては、炭素数５〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素類が好ましく、ｎ−ペンタン、２−メチルブタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、２，２−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，４−ジメチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、２，２−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン、３，３−ジメチルヘキサン、２−メチル−３−エチルペンタン、３−メチル−３−エチルペンタン、２，３，３−トリメチルペンタン、２，３，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルペンタン、２−メチルヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−ノナン、２，２，５−トリメチルヘキサン、ｎ−デカン、ｎ−ドデカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキサン、デカリン、テトラリン、アミルナフタレン等が挙げられる。より好ましくは、ｎ−ペンタン、シクロペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の炭素数５〜７の炭化水素である。
【００１８】
アルコール類としては、炭素数４〜１６の鎖状または環状の飽和または不飽和アルコール類が好ましく、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、１−エチル−１−プロパノール、２−メチル−１−ブタノール、３−メチル−１−ブタノール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、１−ノナノール、３，５，５−トリメチル−１−ヘキサノール、１−デカノール、１−ウンデカノール、１−ドデカノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、４−メチルシクロヘキサノール、α−テルピネオール、２，６−ジメチル−４−ヘプタノール、ノニルアルコール、テトラデシルアルコール等が挙げられる。より好ましくは、ｎ−ブチルアルコール等の炭素数４〜５のアルカノールである。
【００１９】
ケトン類としては、炭素数３〜９の鎖状または環状のケトン類が好ましく、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、メシチルオキシド、ホロン、２−オクタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、イソホロン、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサンジオン等が挙げられる。より好ましくは、アセトン、メチルエチルケトン等の炭素数３〜４のケトンである。
【００２０】
ハロゲン化炭化水素類としては、炭素数１〜６の塩素化または塩素化フッ素化炭化水素類が好ましく、塩化メチレン、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、１，１−ジクロロエチレン、ｃｉｓ−１，２−ジクロロエチレン、ｔｒａｎｓ１，２−ジクロロエチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、１，２−ジクロロプロパン、ジクロロペンタフルオロプロパン、ジクロロフルオロエタン、デカフルオロペンタン等が挙げられる。より好ましくは、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等の炭素数１〜２の塩素化炭化水素である。
【００２１】
エーテル類としては、炭素数２〜８の鎖状または環状のエーテル類が好ましく、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、アニソール、フェネトール、メチルアニソール、ジオキサン、フラン、メチルフラン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。より好ましくは、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の炭素数４〜６のエーテルである。
【００２２】
エステル類としては、炭素数２〜１９の鎖状または環状のエステル類が好ましく、具体的には、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ペンチル、酢酸メトキシブチル、酢酸ｓｅｃ−ヘキシル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、イソ酪酸イソブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸ベンジル、γ−ブチロラクトン、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジブチル、シュウ酸ジペンチル、マロン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、酒石酸ジブチル、クエン酸トリブチル、セバシン酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル等が挙げられる。より好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル等の炭素数３〜４のエステルである。
【００２３】
グリコールエーテル類としては、炭素数２〜４である２価アルコールの２〜４量体の一方または両方の水酸基の水素原子が炭素数１〜６のアルキル基で置換されている化合物であり、ジエチレングリコールのアルキルエーテル類やジプロピレングリコールのアルキルエーテル類が好ましい。具体的には、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコール系エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノノルマルブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノイソブチルエーテルなどのジプロピレングリコール系エーテル等が挙げられる。
【００２４】
さらに、主として安定性を高めるために、例えば以下に挙げる化合物の１種または２種以上を組成物Ａ〜Ｇ中に０．００１〜５％の範囲で配合できる。ただし、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄの場合は共沸様溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲で、組成物Ｅ、Ｆ、Ｇの場合は共沸溶剤組成物の性質を実質的に維持する範囲内で、該化合物を配合できる。
【００２５】
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物類。ジエチルアミン、トリエチルアミン、イソ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン等のアミン類。フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、チモール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｔ−ブチルカテコール、カテコール、イソオイゲノール、ｏ−メトキシフェノール、ビスフェノールＡ、サリチル酸イソアミル、サリチル酸ベンジル、サリチル酸メチル、２，６−ジ−ｔ−ブチルーｐ−クレゾール等のフェノール類。２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、１，２，３−ベンゾトリアゾール、１−［（Ｎ，Ｎ−ビス−２−エチルヘキシル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類。
【００２６】
組成物Ａ〜Ｇは、従来のＲ２２５類組成物と同様に各種用途に好適に使用できる。具体的な用途としては、物品に付着した汚れを除去するための洗浄剤、種々の化合物を物品に塗布するための塗布溶剤、水切り剤または抽出剤などの用途がある。上記の物品の材質としては、ガラス、セラミックス、プラスチック、エラストマー、金属などが挙げられる。また、物品の具体例としては、電子・電気機器、精密機械・器具、光学機器等、およびそれらの部品であるＩＣ、マイクロモーター、リレー、ベアリング、光学レンズ、プリント基板、ガラス基板などが挙げられる。
【００２７】
物品に付着する汚れとしては、物品または物品を構成する部品を製造する際に使用され、最終的に除去されなければならない汚れまたは物品の使用時に付着する汚れが挙げられる。汚れを形成する物質としては、グリース類、鉱油類、ワックス類、油性インキ類等の油脂類、フラックス類、塵埃が挙げられる。
【００２８】
上記汚れを除去する具体的方法としては、例えば、手拭き、浸漬、スプレー、揺動、超音波洗浄、蒸気洗浄等が挙げられる。また、該方法を組み合わせた方法等を採用できる。
【００２９】
組成物Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄは、組成比を変えることにより、汚れ等の溶解力を調整することができる。
【００３０】
【実施例】
例１〜５、７〜１１、１３〜１７、１９〜２３、２５〜２９、３１〜３５、３７〜４１、４３〜４７、４９〜５３、５５〜５７、５９〜６７、６９〜７２は実施例、例６、１２、１８、２４、３０、３６、４２、４８、５４、５８、６８は比較例である。
Ｒ５２−１３：１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサン、
ｔＤＣＥ：ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレン、
ＭｔＯＨ：メタノール、
ＥｔＯＨ：エタノール、
ＩＰＡ：２−プロパノール。
【００３１】
[例１〜６]
表１に記載の組成からなる溶剤組成物を用い、クリーブランド開放式引火点測定器を用いＡＳＴＭ Ｄ ９２−９０に記載の方法にしたがって２５℃、４０℃、溶剤組成物が沸騰状態での引火の有無を測定した。結果を表１に示す。
【００３２】
【表１】
Figure 2005281326
【００３３】
[例７〜１２]
表２に記載の組成からなる溶剤組成物を用い、クリーブランド開放式引火点測定器を用いＡＳＴＭ Ｄ ９２−９０に記載の方法にしたがって２５℃、４０℃、溶剤組成物が沸騰状態での引火の有無を測定した。結果を表２に示す。
【００３４】
【表２】
Figure 2005281326
【００３５】
[例１３〜１８]
表３に記載の組成からなる溶剤組成物を用い、クリーブランド開放式引火点測定器を用いＡＳＴＭ Ｄ ９２−９０に記載の方法にしたがって２５℃、４０℃、溶剤組成物が沸騰状態での引火の有無を測定した。結果を表３に示す。
【００３６】
【表３】
Figure 2005281326
【００３７】
[例１９〜２４]
表４に記載の組成からなる溶剤組成物を用いて金属加工油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、金属加工油：テンパーオイル（日本グリース社製）中に浸漬して金属加工油を付着させた。該テストピースは、該金属加工油中から取り出した後、４０℃に保温した該溶剤組成物中に浸漬させ、超音波をかけて５分間洗浄した。洗浄後のテストピースの金属加工油の除去度を目視で評価した。結果を表４に示す。表中において、○：良好に除去、×：残存、を示す。
【００３８】
【表４】
Figure 2005281326
【００３９】
[例２５〜３０]
表５に記載の組成からなる溶剤組成物を用いて金属加工油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、金属加工油：テンパーオイル（日本グリース社製）中に浸漬して金属加工油を付着させた。該テストピースは、該金属加工油中から取り出した後、４０℃に保温した該溶剤組成物中に浸漬させ、超音波をかけて５分間洗浄した。洗浄後のテストピースの金属加工油の除去度を目視で評価した。結果を表５に示す。表中において、○：良好に除去、△：わずかに残存、×：残存、を示す。
【００４０】
【表５】
Figure 2005281326
【００４１】
[例３１〜３６]
表６に記載の組成からなる溶剤組成物を用いて金属加工油の洗浄試験を行った。すなわち、ＳＵＳ−３０４のテストピース（２５ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を、金属加工油：テンパーオイル（日本グリース社製）中に浸漬して金属加工油を付着させた。該テストピースは、該金属加工油中から取り出した後、４０℃に保温した該溶剤組成物中に浸漬させ、超音波をかけて５分間洗浄した。洗浄後のテストピースの金属加工油の除去度を目視で評価した。結果を表６に示す。表中において、○：良好に除去、×：残存、を示す。
【００４２】
【表６】
Figure 2005281326
【００４３】
［例３７〜４２］
表７に記載の組成からなる溶剤組成物を用いてフラックス洗浄試験を行った。すなわち、ＩＰＣ Ｂ−２５の櫛型電極基板に株式会社弘輝製のフラックスＪＳ−６４ＮＤを塗布し、１００℃で１０分間乾燥後、２６０℃の半田浴に３秒浸漬して半田付けした。室温で２４時間静置してから該櫛形電極基板を、４０℃に保温した表７に記載の溶剤組成物中に５分間浸漬して洗浄し、フラックスの除去度を目視で評価した。結果を表７に示す。表中において、○：良好に除去、△：白色残渣が微量残存、×：白色残渣がかなり残存、を示す。
【００４４】
【表７】
Figure 2005281326
【００４５】
［例４３〜４８］
表８に記載の組成からなる溶剤組成物を用いてフラックス洗浄試験を行った。すなわち、ＩＰＣ Ｂ−２５の櫛型電極基板に株式会社弘輝製のフラックスＪＳ−６４ＮＤを塗布し、１００℃で１０分間乾燥後、２６０℃の半田浴に３秒浸漬して半田付けした。室温で２４時間静置してから該櫛形電極基板を、４０℃に保温した表８に記載の溶剤組成物中に５分間浸漬して洗浄し、フラックスの除去度を目視で評価した。結果を表８に示す。表中において、○：良好に除去、△：白色残渣が微量残存、×：白色残渣がかなり残存、を示す。
【００４６】
【表８】
Figure 2005281326
【００４７】
［例４９〜５４］
表９に記載の組成からなる溶剤組成物を用いてフラックス洗浄試験を行った。すなわち、ＩＰＣ Ｂ−２５の櫛型電極基板に株式会社弘輝製のフラックスＪＳ−６４ＮＤを塗布し、１００℃で１０分間乾燥後、２６０℃の半田浴に３秒浸漬して半田付けした。室温で２４時間静置してから該櫛形電極基板を、４０℃に保温した表９に記載の溶剤組成物中に５分間浸漬して洗浄し、フラックスの除去度を目視で評価した。結果を表９に示す。表中において、○：良好に除去、△：白色残渣が微量残存、×：白色残渣がかなり残存、を示す。
【００４８】
【表９】
Figure 2005281326
【００４９】
［例５５〜５９］
表１０に記載の溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日当り６時間で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽への溶剤組成物のみを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水分離器に導かれ、洗浄槽へ戻るまでに１時間当りの循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とした。１８時間運転後に水分離器からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表１０に示す。
【００５０】
【表１０】
Figure 2005281326
【００５１】
［例６０〜６４］
表１１に記載の溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日当り６時間で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽への溶剤組成物のみを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水分離器に導かれ、洗浄槽へ戻るまでに１時間当りの循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とした。１８時間運転後に水分離器からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表１１に示す。
【００５２】
【表１１】
Figure 2005281326
【００５３】
［例６５〜６９］
表１２に記載の溶剤組成物２０ｋｇを小型単槽式の開放型洗浄機に入れ、１日当り６時間で３日間運転した。運転条件は、洗浄槽への溶剤組成物のみを仕込み、その組成物が加熱、蒸発、凝縮された後、水分離器に導かれ、洗浄槽へ戻るまでに１時間当りの循環量が仕込んだ組成物の量となるような運転条件とした。１８時間運転後に水分離器からサンプリングし、ガスクロマトグラフで分析した結果を表１２に示す。
【００５４】
【表１２】
Figure 2005281326
【００５５】
［例７０］
オスマー型気液平衡装置にＲ５２−１３／ｔＤＣＥ／ＭｔＯＨ＝４５．６％／４９．３％／５．１％の組成物３００ｇを入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で気相と液相から該組成物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフで組成比を測定した。結果を表１３に示す。
【００５６】
【表１３】
Figure 2005281326
【００５７】
［例７１］
オスマー型気液平衡装置にＲ５２−１３／ｔＤＣＥ／ＥｔＯＨ＝４７．５％／４９．９％／２．６％の組成物３００ｇを入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で気相と液相から該組成物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフで組成比を測定した。結果を表１４に示す。
【００５８】
【表１４】
Figure 2005281326
【００５９】
［例７２］
オスマー型気液平衡装置に３４７／ｔＤＣＥ／ＩＰＡ＝４７．７％／５１．８％／０．５％の組成物３００ｇを入れ、１０１０ｈＰａで気相と液相の温度が平衡状態になった時点で気相と液相から該組成物のサンプルを採取し、ガスクロマトグラフで組成比を測定した。結果を表１５に示す。
【００６０】
【表１５】
Figure 2005281326
【００６１】
【発明の効果】
本発明の溶剤組成物（組成物Ａ〜Ｇ）は、引火点が室温より高い。また、組成物Ｂ、Ｃ、Ｄは共沸様溶剤組成物であり、組成物Ｅ、Ｆ、Ｇは共沸溶剤組成物であるので、該組成物は、蒸気洗浄や蒸留等によりリサイクル使用しても組成の変動がないか小さいいため、洗浄性や各種物性が変化しない。このため、従来技術の大幅な変更を要せず、かつ、洗浄力が高い等の利点がある。

Claims (7)

  1. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと炭素数１〜３のアルコールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが２５．０〜７５．０％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが１５．０〜７４．９％（質量基準である。）、炭素数１〜３のアルコールが０．１〜１０．０％（質量基準である。）である溶剤組成物。
  2. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが３０．０〜６０．０％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが３４．０〜６６．０％（質量基準である。）、メタノールが４．０〜６．０％（質量基準である。）である溶剤組成物。
  3. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが３５．０〜６５．０％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが３１．５〜６３．５％（質量基準である。）、エタノールが１．５〜３．５％（質量基準である。）である溶剤組成物。
  4. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールとを含む溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが３３．０〜６３．０％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが３６．０〜６６．９％（質量基準である。）、２−プロパノールが０．１〜１．０％（質量基準である。）である溶剤組成物。
  5. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールとからなる溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとメタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが４５．６％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが４９．３％（質量基準である。）、メタノールが５．１％（質量基準である。）である共沸溶剤組成物。
  6. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールとからなる溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンとエタノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが４７．５％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが４９．９％（質量基準である。）、エタノールが２．６％（質量基準である。）である共沸溶剤組成物。
  7. １，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールとからなる溶剤組成物であって、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンとｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンと２−プロパノールの合計量に対して１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロヘキサンが４７．７％（質量基準である。）、ｔｒａｎｓ−１，２−ジクロロエチレンが５１．８％（質量基準である。）、２−プロパノールが０．５％（質量基準である。）である共沸溶剤組成物。
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