JPH05186796A - ２−プロパノールおよび１ｈ−ペルフルオロヘキサンの共沸様混合物 - Google Patents
２−プロパノールおよび１ｈ−ペルフルオロヘキサンの共沸様混合物Info
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- JPH05186796A JPH05186796A JP4159794A JP15979492A JPH05186796A JP H05186796 A JPH05186796 A JP H05186796A JP 4159794 A JP4159794 A JP 4159794A JP 15979492 A JP15979492 A JP 15979492A JP H05186796 A JPH05186796 A JP H05186796A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ２−プロパノール約８〜１２重量％および１
Ｈ−ペルフルオロヘキサン約８８〜９２重量％を含む共
沸様混合物。 【効果】 当該混合物は、電子部品、殊に、はんだ付け
回路板または印刷回路の洗浄に、特に、はんだフラック
スの除去に著しく適している。
Ｈ−ペルフルオロヘキサン約８８〜９２重量％を含む共
沸様混合物。 【効果】 当該混合物は、電子部品、殊に、はんだ付け
回路板または印刷回路の洗浄に、特に、はんだフラック
スの除去に著しく適している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、２−プロパノールおよ
び１Ｈ−ペルフルオロヘキサンの共沸様混合物に関す
る。
び１Ｈ−ペルフルオロヘキサンの共沸様混合物に関す
る。
【０００２】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】１，１，２−トリクロ
ロ−１，２，２−トリフルオロエタン（Ｒ１１３）およ
びアルコール、例えば、メタノール、エタノールまたは
２−プロパノールの混合物を用いてはんだ付け回路板お
よび別の電子部品を洗浄することは技術状態である（英
国特許第１０２６００３号および第１３００８６７
号）。米国特許第３９６０７４６号は、同一目的のため
のＲ１１３、メタノールおよびニトロメタンの共沸様混
合物を開示している。しかしながら、ＣＦＣｓはオゾン
層を損傷する疑いをかけられているので、この類の物質
を不要にする必要がある。
ロ−１，２，２−トリフルオロエタン（Ｒ１１３）およ
びアルコール、例えば、メタノール、エタノールまたは
２−プロパノールの混合物を用いてはんだ付け回路板お
よび別の電子部品を洗浄することは技術状態である（英
国特許第１０２６００３号および第１３００８６７
号）。米国特許第３９６０７４６号は、同一目的のため
のＲ１１３、メタノールおよびニトロメタンの共沸様混
合物を開示している。しかしながら、ＣＦＣｓはオゾン
層を損傷する疑いをかけられているので、この類の物質
を不要にする必要がある。
【０００４】種々の水ベースの系および非ハロゲン化有
機溶剤に基づく系が電子工業部門のために、特に、はん
だ付け作業後の回路板の洗浄のために現在検討されてい
る。しかしながら、水性洗浄剤の場合に適切な界面活性
剤／錯体形成剤を見出すことは困難である。当該系は機
械処理、例えば、水洗、ブラッシング蒸気噴射または超
音波処理にも適合しなければならない。水性洗浄系は、
ＳＭＴ（表面取付け技術(Surface Mount Technology)）
の場合にしばしば除外される。なぜならば、水を困難な
く再度除去することはできないからである。
機溶剤に基づく系が電子工業部門のために、特に、はん
だ付け作業後の回路板の洗浄のために現在検討されてい
る。しかしながら、水性洗浄剤の場合に適切な界面活性
剤／錯体形成剤を見出すことは困難である。当該系は機
械処理、例えば、水洗、ブラッシング蒸気噴射または超
音波処理にも適合しなければならない。水性洗浄系は、
ＳＭＴ（表面取付け技術(Surface Mount Technology)）
の場合にしばしば除外される。なぜならば、水を困難な
く再度除去することはできないからである。
【０００５】非ハロゲン化有機溶剤、例えば、ペトロリ
ウムスピリット、アルコール、テルペンまたはエステル
が使用される時、当該物質の可燃性および爆発性のた
め、設備は、耐爆発設計でなければならずそして、それ
故、経済的理由で、表面処理設備における当該溶剤の使
用は、わずかな場合だけ考慮に入れられる。
ウムスピリット、アルコール、テルペンまたはエステル
が使用される時、当該物質の可燃性および爆発性のた
め、設備は、耐爆発設計でなければならずそして、それ
故、経済的理由で、表面処理設備における当該溶剤の使
用は、わずかな場合だけ考慮に入れられる。
【０００６】電気および電子部品の洗浄に適当な１，４
−ジヒドロペルフルオロブタンおよびメタノールのおよ
び２，２，２−トリフルオロエチル１，１，２，２−テ
トラフルオロエチルエーテルおよびエタノールの共沸様
溶剤混合物は、それぞれ、未公開のドイツ特許出願Ｐ４
００２１２０．３およびＰ４０１３３６９．９に記載さ
れている。
−ジヒドロペルフルオロブタンおよびメタノールのおよ
び２，２，２−トリフルオロエチル１，１，２，２−テ
トラフルオロエチルエーテルおよびエタノールの共沸様
溶剤混合物は、それぞれ、未公開のドイツ特許出願Ｐ４
００２１２０．３およびＰ４０１３３６９．９に記載さ
れている。
【０００７】驚くべきことに、今や、１Ｈ−ペルフルオ
ロヘキサンＣＦ3 −（ＣＦ2 ）4 −ＣＦ2 Ｈが２−プロ
パノールと共沸様溶剤混合物を形成し、当該混合物は、
電子部品、殊に、はんだ付け回路板または印刷回路の洗
浄に、特に、はんだフラックス(soldering fluxes)の除
去に著しく適していることが見出された。
ロヘキサンＣＦ3 −（ＣＦ2 ）4 −ＣＦ2 Ｈが２−プロ
パノールと共沸様溶剤混合物を形成し、当該混合物は、
電子部品、殊に、はんだ付け回路板または印刷回路の洗
浄に、特に、はんだフラックス(soldering fluxes)の除
去に著しく適していることが見出された。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、２−プロパノ
ール約８〜１２重量％および１Ｈ−ペルフルオロヘキサ
ン約８８〜９２重量％を含む共沸様混合物に関する。好
ましくは、当該混合物は、８．５〜１１．０重量％の２
−プロパノールそして特に９．０〜１０．０重量％の２
−プロパノールを含み、その際、残りは、それぞれ、１
Ｈ−ペルフルオロヘキサンである。本発明は、電子部
品、特にはんだ付け回路板または印刷回路の洗浄方法で
あって、当該部品を、２−プロパノール約８〜１２重量
％および１Ｈ−ペルフルオロヘキサン８８〜９２重量％
を含む共沸様混合物で洗浄することを特徴とする方法に
関する。好ましくは、８．５〜１１．０重量％の２−プ
ロパノールそして特に９．０〜１０．０重量％の２−プ
ロパノールが使用され、残りは、それぞれ、実質的に１
Ｈ−ペルフルオロヘキサンである。
ール約８〜１２重量％および１Ｈ−ペルフルオロヘキサ
ン約８８〜９２重量％を含む共沸様混合物に関する。好
ましくは、当該混合物は、８．５〜１１．０重量％の２
−プロパノールそして特に９．０〜１０．０重量％の２
−プロパノールを含み、その際、残りは、それぞれ、１
Ｈ−ペルフルオロヘキサンである。本発明は、電子部
品、特にはんだ付け回路板または印刷回路の洗浄方法で
あって、当該部品を、２−プロパノール約８〜１２重量
％および１Ｈ−ペルフルオロヘキサン８８〜９２重量％
を含む共沸様混合物で洗浄することを特徴とする方法に
関する。好ましくは、８．５〜１１．０重量％の２−プ
ロパノールそして特に９．０〜１０．０重量％の２−プ
ロパノールが使用され、残りは、それぞれ、実質的に１
Ｈ−ペルフルオロヘキサンである。
【０００９】特に好ましい溶剤混合物は、１Ｈ−ペルフ
ルオロヘキサン９０．７重量％および２−プロパノール
９．３重量％を含みそして１ｂａｒで６３．４℃の沸点
を有している。
ルオロヘキサン９０．７重量％および２−プロパノール
９．３重量％を含みそして１ｂａｒで６３．４℃の沸点
を有している。
【００１０】本発明による、２−プロパノールおよび１
Ｈ−ペルフルオロヘキサンの混合物の場合、蒸気の組成
は液体の組成と同一であるかまたは実質的に同一であ
る、すなわち、当該混合物の組成は蒸発時に変化しない
かまたは実質的に変化しない。本発明による溶剤混合物
は、それが塩素を含まず従ってオゾン損傷を引き起こさ
ないというさらに別の利点を有している。さらに、それ
は可燃性でなくそして、慣用の超音波、浸漬およびブラ
シ洗浄設備において使用され得る。
Ｈ−ペルフルオロヘキサンの混合物の場合、蒸気の組成
は液体の組成と同一であるかまたは実質的に同一であ
る、すなわち、当該混合物の組成は蒸発時に変化しない
かまたは実質的に変化しない。本発明による溶剤混合物
は、それが塩素を含まず従ってオゾン損傷を引き起こさ
ないというさらに別の利点を有している。さらに、それ
は可燃性でなくそして、慣用の超音波、浸漬およびブラ
シ洗浄設備において使用され得る。
【００１１】
例１ ポリエステルに基づく回路板用のガラス繊維強化基礎材
料を市販のはんだフラックス（Ｚｅｖａｔｒｏｎからの
Ｚｅｒａ Ｃ ２０−２００；主成分コロホニウム，さ
らに活性化剤を含む）で被覆しそして炉中で６０℃で１
８時間乾燥した。当該材料を次いで１Ｈ−ペルフルオロ
ヘキサン（９０．７重量％）および２−プロパノール
（９．３重量％）の混合物で、超音波を用いて洗浄し
た。作用期間は３０〜６０秒であった；フラックスは完
全に除去された。
料を市販のはんだフラックス（Ｚｅｖａｔｒｏｎからの
Ｚｅｒａ Ｃ ２０−２００；主成分コロホニウム，さ
らに活性化剤を含む）で被覆しそして炉中で６０℃で１
８時間乾燥した。当該材料を次いで１Ｈ−ペルフルオロ
ヘキサン（９０．７重量％）および２−プロパノール
（９．３重量％）の混合物で、超音波を用いて洗浄し
た。作用期間は３０〜６０秒であった；フラックスは完
全に除去された。
【００１２】例２ 手順は例１と同様であった。但し、活性化剤に加えて主
成分として再度コロホニウムを含む、異なるはんだフラ
ックス（ＺｅｖａｔｒｏｎからのＺｅｖａ Ｃ３０−３
００）を用いた。３０〜６０秒の作用期間後、フラック
スは完全に除去された。他方、１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタンとメタノール、エタ
ノールまたは２−プロパノールとの慣用の混合物の場
合、フラックスにより、処理時間は６０〜９０秒の間に
ある。さらに、イオン残渣は、慣用の混合物でよりも当
該共沸混合物でよりよく除去され得る。
成分として再度コロホニウムを含む、異なるはんだフラ
ックス（ＺｅｖａｔｒｏｎからのＺｅｖａ Ｃ３０−３
００）を用いた。３０〜６０秒の作用期間後、フラック
スは完全に除去された。他方、１，１，２−トリクロロ
−１，２，２−トリフルオロエタンとメタノール、エタ
ノールまたは２−プロパノールとの慣用の混合物の場
合、フラックスにより、処理時間は６０〜９０秒の間に
ある。さらに、イオン残渣は、慣用の混合物でよりも当
該共沸混合物でよりよく除去され得る。
【００１３】例３ 例３は例１と同一の方法で行われた。但し、使用したフ
ラックスは、ＥｒｓａからのＧＲ８フラックス（主成分
コロホニウム，さらに活性化剤を含む）であった。３０
〜６０秒の作用期間後、フラックスは完全に除去され
た。
ラックスは、ＥｒｓａからのＧＲ８フラックス（主成分
コロホニウム，さらに活性化剤を含む）であった。３０
〜６０秒の作用期間後、フラックスは完全に除去され
た。
Claims (5)
- 【請求項１】 ２−プロパノール約８〜１２重量％およ
び１Ｈ−ペルフルオロヘキサン約８８〜９２重量％を含
む共沸様混合物。 - 【請求項２】 ２−プロパノール約８．５〜１１．０重
量％および１Ｈ−ペルフルオロヘキサン約８９．０〜９
１．５重量％を含む請求項１記載の共沸様混合物。 - 【請求項３】 ２−プロパノール約９．０〜１０．０重
量％および１Ｈ−ペルフルオロヘキサン約９０．０〜９
１．０重量％を含む請求項１記載の共沸様混合物。 - 【請求項４】 電子部品、特に、はんだ付け回路板また
は印刷回路の洗浄方法であって、当該部品を請求項１〜
３のいずれか１項に記載の共沸様混合物で洗浄すること
を特徴とする方法。 - 【請求項５】 請求項１〜３のいずれか１項に記載の共
沸様混合物を用いて洗浄することを特徴とする、はんだ
フラックスを除去する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4120507 | 1991-06-21 | ||
| DE4120507:3 | 1991-06-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05186796A true JPH05186796A (ja) | 1993-07-27 |
Family
ID=6434450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4159794A Withdrawn JPH05186796A (ja) | 1991-06-21 | 1992-06-18 | ２−プロパノールおよび１ｈ−ペルフルオロヘキサンの共沸様混合物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5266231A (ja) |
| EP (1) | EP0519432A3 (ja) |
| JP (1) | JPH05186796A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995011293A1 (fr) * | 1993-10-18 | 1995-04-27 | Ag Technology Co., Ltd. | Composition de solvants melanges |
| JP2003221596A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤 |
| JP2003292992A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤および洗浄方法 |
| WO2004020568A1 (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Asahi Glass Company, Limited | 溶剤組成物 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5259983A (en) * | 1992-04-27 | 1993-11-09 | Allied Signal Inc. | Azeotrope-like compositions of 1-H-perfluorohexane and trifluoroethanol or n-propanol |
| JP3123695B2 (ja) * | 1993-01-22 | 2001-01-15 | キヤノン株式会社 | 混合溶剤組成物、及びそれを利用する洗浄方法と洗浄処理装置 |
| US5725699A (en) * | 1994-01-19 | 1998-03-10 | Thiokol Corporation | Metal complexes for use as gas generants |
| US5696307A (en) * | 1994-01-21 | 1997-12-09 | Alliedsignal Inc. | Hydrofluoroalkanes as cleaning and degreasing solvents |
| US7048997B2 (en) * | 1995-03-03 | 2006-05-23 | Vision-Ease Lens | Production of optical elements |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL129954C (ja) * | 1964-04-02 | |||
| GB1399867A (en) * | 1971-09-27 | 1975-07-02 | Ici Ltd | Cleaning process |
| US3960746A (en) * | 1974-07-25 | 1976-06-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like compositions of methanol, nitromethane and trichlorotrifluoroethane |
| DE68928010T2 (de) * | 1988-07-08 | 1997-11-20 | Rhone Poulenc Chimie | Reinigung und Trocknung von elektronischen Bauteilen |
| AU635362B2 (en) * | 1989-12-07 | 1993-03-18 | Daikin Industries, Ltd. | Cleaning composition |
| EP0432672B1 (de) * | 1989-12-12 | 1997-03-19 | SOLVAY (Société Anonyme) | Verfahren zur Herstellung von Schaumstoffen mit Hilfe von Fluoralkanen |
| DE4002120A1 (de) * | 1990-01-25 | 1991-08-01 | Hoechst Ag | Neues azeotropartiges loesemittelgemisch und verfahren zur reinigung von elektronischen bauteilen mit hilfe desselben |
| JPH03252500A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-11 | Showa Denko Kk | フラックス洗浄剤 |
| DE4006952A1 (de) * | 1990-03-06 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von schaumstoffen mit hilfe von treibmitteln, die fluoralkane und fluorierte ether enthalten, sowie nach diesem verfahren erhaeltliche schaumstoffe |
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| US5064559A (en) * | 1990-10-11 | 1991-11-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Binary azeotropic compositions of (CF3 CHFCHFCF2 CF3) with methanol or ethanol or isopropanol |
| US5100572A (en) * | 1990-10-03 | 1992-03-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Binary azeotropic compositions of polyfluoropentanes and methanol |
| EP0516029B1 (en) * | 1991-05-28 | 1995-04-05 | Daikin Industries, Limited | A method of desiccating articles |
-
1992
- 1992-06-17 EP EP19920110242 patent/EP0519432A3/de not_active Withdrawn
- 1992-06-18 JP JP4159794A patent/JPH05186796A/ja not_active Withdrawn
- 1992-06-18 US US07/900,920 patent/US5266231A/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
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| JP2003221596A (ja) * | 2002-01-31 | 2003-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤 |
| JP2003292992A (ja) * | 2002-03-29 | 2003-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | 冷却システムまたはヒートポンプシステムのサイクル洗浄用洗浄剤および洗浄方法 |
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| US7163646B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-01-16 | Asahi Glass Company, Limited | Solvent compositions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5266231A (en) | 1993-11-30 |
| EP0519432A2 (de) | 1992-12-23 |
| EP0519432A3 (en) | 1993-05-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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