JP3123695B2 - 混合溶剤組成物、及びそれを利用する洗浄方法と洗浄処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、非塩素系有機溶剤に属
する新規な混合溶剤組成物及び、それを利用する各種機
器用部品に対する洗浄方法並びに前記方法を実施する為
の洗浄処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、クロロフルオロカーボン（以下Ｃ
ＦＣと略記）は、毒性が少なく、且つ不燃性で化学的に
も安定なものが多く、又、沸点の種々異なる各種のフロ
ンの入手が可能である為、多くの産業分野で利用されて
きている。その中でも特にフロン１１３は、それが有す
る特異な化学的性質を利用し、多くのプラスチック材料
や一部のゴム材料、及び各種の複合混合材料の脱脂溶剤
や蒸気洗浄・乾燥溶剤として使用されてきた。又、トリ
エタンは、金属加工後の金属表面の脱脂洗浄用溶剤とし
て従来用いられている、人体に対して有害であり且つ地
下水汚染の原因ともなっている１，１，２−トリクロロ
エチレン及び１，１，２，２−テトラクロロエチレンに
対する代替物質として使用されてきた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
地球環境を悪化させるオゾンホールが発見され、このオ
ゾンホールの発生の主な原因がＣＦＣ等の有機塩素系化
合物にあることが明らかとなってきた。例えば、化学的
に特に安定なフロン１１３は、対流圏内での寿命が長
く、拡散して成層圏にまで達し、ここで太陽光線により
光分解して塩素ラジカルを発生し、この塩素ラジカルが
オゾンと結合してオゾン層を破壊する。この為、フロン
を含めた有機塩素系化合物は、今後、国際的な使用の制
限措置がとられ、更には使用が全面的に禁止されていく
傾向にある。中でも上記したフロン１１３は、オゾン破
壊係数が高い為、早期の代替が望まれており、厳しい使
用削減のスケジュールが組まれている。又、トリエタン
に対しても同様の理由から厳しい削減スケジュールが組
まれている。

【０００４】従って、本発明の目的は、従来用いられて
きた有機塩素系溶剤であるフロン１１３及びトリエタン
を代替し得る新規な非引火性の混合溶剤組成物、それを
用いる洗浄方法及び洗浄処理装置を提供することにあ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記の本
発明によって達成される。即ち、本発明の目的を達成す
る為の第一の態様は、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン７０
〜８５重量％と、イソヘキサン１５〜３０重量％とから
なり、４４〜４８℃の共沸温度を有し、非引火性且つオ
ゾン破壊係数が０であることを特徴とする混合溶剤組成
物であり、第二の態様は、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン
７０〜８５重量％とジイソプロピルエーテル１５〜３０
重量％とからなり、４７〜５１℃の共沸温度を有し、非
引火性且つオゾン破壊係数が０であることを特徴とする
混合溶剤組成物であり、第三の態様は、パーフルオロ−
ｎ−ヘキサン６０〜７０重量％、イソヘキサン１４〜２
０重量％及びトリフルオロ酢酸エチル１５〜２１重量％
からなり、４２〜４６℃の共沸温度を有し、非引火性且
つオゾン破壊係数が０であることを特徴とする混合溶剤
組成物である。又、別の態様としては、溶剤を用いた物
品の洗浄工程と、必要に応じて、溶剤置換リンス工程及
び溶剤蒸気洗浄・乾燥工程とを含む洗浄方法において、
前記の何れか一の工程で前記第１〜第３の態様の混合溶
剤組成物を適用することを特徴とする洗浄方法であり、
又、少なくとも一の洗浄槽、必要により付加される置換
リンス槽、及び蒸気洗浄・乾燥槽を有する洗浄処理装置
において、前記の何れか一の槽に対して前記第１〜第３
の態様の混合溶剤組成物を供給することを特徴とする洗
浄処理装置である。

【０００６】

【作用】従来、フロン１１３が蒸気洗浄剤として多用さ
れていた理由としては、 ａ）各種の汚れ及び油に対して適度な溶解性を持つこ
と、 ｂ）化学的及び熱的安定性に優れ、分解等の心配が少な
いこと、 ｃ）毒性が低く、且つ引火点及び発火点等を有さず、作
業安全性の高いこと、 ｄ）極性が低く、各種のプラスチック材料にダメージを
与えないこと、 ｅ）十分に低い表面張力を有し、被洗浄物表面に薄く均
一に濡れ広がること、等の特性を有するからである。従
って、このフロン１１３を代替する為には、代替品にも
上記と同様の特性が要求されることになる。

【０００７】現在、第二世代のフロンとしては、１，１
−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン（以下フ
ロン１２３と略記）、１−フルオロ−１，１−ジクロロ
エタン（以下フロン１４１ｂと略記）、１，１−ジクロ
ロ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパン（以
下フロン２２５ｃａと略記）、及び１，３−ジクロロ−
１，１，２，２，３−ペンタフルオロプロパン（以下フ
ロン２２５ｃｂと略記）等のハイドロクロロフルオロカ
ーボンが開発され、代替品としての検討が為されてい
る。しかしながら、これら第二世代のフロンは、各種の
油・油脂に対する溶解性が高い反面、基質、特にアクリ
ル及びＡＢＳ樹脂等の汎用プラスチックを侵すものが多
く、特に蒸気洗浄剤としての用途においてはフロン１１
３の代替品とはいえなかった。

【０００８】又、同様にトリエタンが多用されていた理
由としては、 ａ）金属加工油に対して強い洗浄力を有すること、 ｂ）毒性が低く、引火点及び発火点等を有さず、作業安
全性が高いこと、 ｃ）水溶性がなく水を含まない為、被洗浄物である金属
にダメージを与えないこと（金属の酸化及び発錆の可能
性が低い）、等の特性を有するからである。現在、トリ
エタンの代替物質としては、各種石油系洗浄溶剤が検討
されているが、安全性（引火性）、洗浄力及び乾燥性の
全ての面でバランスのとれた代替物質は開発されていな
い。

【０００９】又、パーフルオロカーボン化合物単体を、
蒸気乾燥剤として用いる方法も半導体製造工程等では検
討されているが、パーフルオロカーボン化合物には脱脂
能力がない為、その前工程までに完全に脱脂されていな
いとシミを生じ易いという問題がある。更に、パーフル
オロカーボン化合物は特異な溶解挙動を示し、ある種の
限られた溶剤としか混和しない為、前工程で脱脂の為に
用いた溶剤や水を容易に置換することができず、乾燥ジ
ミを生じ易いという問題があった。これに対し、本発明
者らは、既に、前述の各種の要求特性を満たすべくパー
フルオロカーボン化合物の低いケミカルアタック性及び
不燃性に着目し、特願平４−２９０９３１号において、
パーフルオロカーボン化合物と各種のハイドロカーボン
化合物との非引火性混合均一溶媒組成物を提案してい
る。本発明者らは、これらの組成物の沸騰現象を詳細に
検討した結果、特定の組成を有する混合溶剤組成物が、
共沸様状態の組成のバランスがよい為、引火点を有さ
ず、且つ耐プラスチック性に優れ、更に、オゾン破壊係
数を持たない為、蒸気洗浄剤としてのフロンの代替品と
して有効であることを知見して本発明に至った。

【００１０】

【好ましい実施態様】以下、好ましい実施態様を挙げて
本発明を詳細に説明する。本発明の混合溶剤組成物は、
第一及び第二の態様として、パーフルオロ−ｎ−ヘキサ
ンと、イソヘキサン又はジイソプロピルエーテルとを含
むことを特徴とするが、先ず、これらについて説明す
る。パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとイソヘキサンとから
なる混合溶剤組成物としては、パーフルオロ−ｎ−ヘキ
サン７０〜８５重量％及びイソヘキサン１５〜３０重量
％からなる。又、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン及びジイ
ソプロピルエーテルからなる混合溶剤組成物としては、
特に、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン７０〜８５重量％及
びジイソプロピルエーテル１５〜３０重量％からなる。

【００１１】上記の態様の混合溶剤組成物の共沸温度と
しては、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン７０〜８５重量％
とイソヘキサン１５〜３０重量％よりなるものでは、共
沸温度が４４〜４８℃の範囲にあり、パーフルオロ−ｎ
−ヘキサン７０〜８５重量％とジイソプロピルエーテル
１５〜３０重量％よりなるものでは、共沸温度が４７〜
５１℃の範囲にある。各単独成分の沸点は、パーフルオ
ロ−ｎ−ヘキサン＝５８〜６０℃、イソヘキサン＝６２
℃、ジイソプロピルエーテル＝６８℃であるのに対し、
上記したパーフルオロ−ｎ−ヘキサン７０〜８５重量％
とイソヘキサン７０〜８５重量％とジイソプロピルエー
テル１５〜３０重量％とからなる混合溶剤組成物の各々
の共沸温度はこれらのいずれよりも低く、本発明の混合
溶剤組成物は極小共沸点様の挙動を示している。

【００１２】本発明の混合溶剤組成物を構成しているパ
ーフルオロ−ｎ−ヘキサンには、多数の異性体の他、少
量のパーフルオロペンタン、パーフルオロヘプタン及び
パーフルオロシクロヘキサン等の不純物が存在するが、
概ね、パーフルオロ−ｎ−ヘキサンの純度が７０重量％
以上のものであれば、本発明に好ましく使用することが
出来る。この様な条件を満たすパーフルオロ−ｎ−ヘキ
サンとしては、具体的には、フロリナート ＦＣ−７２
（商品名／住友３Ｍ製）、パーフルオロカーボンクーラ
ントＦＸ３２５０（商品名／住友３Ｍ製）、不活性流体
ＰＦ−５０６０（商品名／住友３Ｍ製）、エフリード
ＫＰＦ−６１（商品名／関東電化工業製）及びパーフ
ルオロヘキサン（商品名／ＰＣＲ製）等が挙げられる。
又、本発明の組成物に使用されるイソヘキサン（２−メ
チルペンタン）中にも、３−メチルペンタン及びシクロ
アルカン等の微量不純物が存在するが、イソパラフィン
の含有量が高く、不純物として混入しているｎ−パラフ
ィンとシクロパラフィンの含有量が、３０重量％未満で
あれば使用可能である。概ね、イソヘキサン（２−メチ
ルペンタン）の純度が７０重量％以上のものであれば使
用することが出来る。

【００１３】又、本発明の第３の態様の混合溶剤組成物
としては、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン、トリフルオロ
酢酸エチル及びイソヘキサンを含むことを特徴とする。
かかる混合溶剤組成物の共沸温度としては、４２〜４６
℃の範囲にあり、これに相当する各成分の混合比は、パ
ーフルオロ−ｎ−ヘキサン６０〜７０重量％、トリフル
オロ酢酸エチル１５〜２１重量％及びイソヘキサン１４
〜２０重量％よりなるものである。上記の各単独成分の
沸点は、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン＝５８〜６０℃、
トリフルオロ酢酸エチル＝６０〜６２℃、及びイソヘキ
サン＝６２℃であるのに対し、上記混合溶剤組成物の共
沸温度はこれらのいずれよりも低く、本発明の混合溶剤
組成物は極小共沸点様の挙動を示している。

【００１４】以上の如き成分及び組成からなる本発明の
混合溶剤組成物は、各種物品の洗浄に有用である。本発
明の洗浄方法は、通常の洗浄工程において、上記の本発
明の混合溶剤組成物を少なくとも１回は使用することを
特徴とする。通常の洗浄方法としては、例えば、１槽以
上の洗浄槽を使用する洗浄工程と、それに続く１槽以上
の置換リンス槽を使用する置換リンス工程と、１槽以上
の蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽を使用する蒸気洗浄・乾燥
工程とからなる。本発明の洗浄方法においては、これら
のいずれかの工程で少なくとも一回、本発明の混合溶剤
組成物を使用することが好ましいが、特に、上記した各
工程のうち、蒸気洗浄・乾燥工程に本発明の混合溶剤組
成物を用いることが好ましい。勿論これに限定されるわ
けでない。

【００１５】本発明の洗浄方法においては、本発明の混
合溶剤組成物を少なくとも１回は使用する他は、他の公
知の洗浄溶剤を何れも使用することが出来る。本発明で
用いられる公知の洗浄溶剤は、被洗浄物の種類によって
任意の洗浄溶剤を選択して適宜使用することが出来る。
具体的には、例えば、石油系洗浄溶剤としては以下の市
販品が挙げられる。 ・アクトレル １１３０Ｌ、１１４０Ｌ、１１７８Ｌ、
１１１１Ｌ、１１１３Ｌ、３３０７Ｌ、３３３８Ｌ、３
３５６Ｌ、３３５７Ｌ、 ・ソルベッツ １００、１５０、２００（以上、エクソ
ン化学製） ・ノルマルパラフィン ＳＬ、Ｍ、Ｈ ・アイソゾール ２００、３００、４００ ・ナフテゾール Ｌ、Ｍ、Ｈ ・ハイゾール Ｅ、Ｆ（以上、日本石油化学製） ・クリーンソルＧ、クレンゾル、ミネラルスピリットＡ
（以上、日本石油化学製） ・アクサレル ６１００、９１００（以上、三井デュポ
ン製） ・カクタスソルベント Ｔ９５Ｓ、Ｘ９０Ｙ、Ｐ５０、
Ｎ−１０（以上、日紘石油化学製） ・化成クリーナー（三菱化成製）、Ｎ−メチルピロリド
ン（ＢＡＳＦ製） ・テクノケア ＦＲＷ−１４、１５、１６、１７、１
８、１９（以上、東芝製） ・ソルファイン （徳山石油化学製） ・ＩＰＡ−ＥＬ （日本石油化学製）、ＩＰＡ−ＳＥ
（徳山曹達製） ・不活性流体 ＰＦ−５０６０（住友３Ｍ製）／イソヘ
キサン（東京化成製）：７８．３／２１．７重量％の混
合溶剤組成物 ・不活性流体 ＰＦ−５０６０（住友３Ｍ製）／ジイソ
プロピルエーテル（キシダ化学製）：８１．８／１８．
２重量％の混合溶剤組成物

【００１６】又、洗浄工程に用いられる水系洗浄溶剤と
しては、具体的には、 ・ＤＫビークリア ＣＷ−４３１０、５５２４、６９２
０、７４２５（以上、第一工業製薬製） ・セミクリーン Ｍ、Ｌ・Ｇ・Ｌ、ＰＣ−１（以上、横
浜油脂製） ・クリーンスルー ＬＣ−８２０、７５０Ｌ（以上、花
王製） ・デタージェント ５０、１０００（以上、ネオス製） ・パインアルファ ＳＴ−１００Ｓ（荒川化学製） ・バイオセブンＡＬ（ベリタス製） ・バンライズ Ｄ２０−Ｓ（常磐化学製） ・テクノケア ＦＲＳ−１、２、３（以上、東芝製）等
が挙げられるが、これらに限定されるわけではない。

【００１７】本発明の洗浄方法においては、上記の公知
の洗浄溶剤を洗浄工程で用いる場合には、その後の工程
の何れかで本発明の混合溶剤組成物が用いられる。例え
ば、洗浄工程で上記の公知の溶剤を用い、蒸気洗浄・乾
燥工程で本発明の混合溶剤組成物を使用する等の方法が
好ましい態様として挙げられる。この場合は、両工程の
間の置換リンス工程において使用する置換リンス剤とし
ては、上記した洗浄工程で用いられた各種洗浄溶剤と、
置換リンス工程に続いて行われる蒸気洗浄・乾燥工程で
使用される本発明の混合溶剤組成物の双方に相溶性のあ
るものならば、何れの溶剤組成物も使用することが出来
る。一般的には、置換リンス溶剤としては、その前工程
の洗浄工程で使用される洗浄溶剤と同一のもの、又は蒸
気洗浄・乾燥工程の蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽で用いら
れる蒸気洗浄・乾燥溶剤と同一の溶剤が用いられること
が多い。上記した様に、本発明の洗浄方法においては、
本発明の混合溶剤組成物を少なくとも蒸気洗浄・乾燥工
程で用いることが好ましいが、上記の洗浄工程、置換リ
ンス工程及び蒸気洗浄・乾燥工程の３工程の全ての工程
で、本発明の混合溶剤組成物を用いてもよいし、これら
のうちの２工程で用いてもよく、何れかの一工程におい
てのみ使用してもよい。

【００１８】一般に、蒸気洗浄・蒸気乾燥によれば、加
熱乾燥、スピン乾燥及び真空乾燥等の他の乾燥技術に比
べて、被洗浄物の表面に乾燥ジミが生じにくく、且つ高
い清浄度の仕上りが得られる。これらの蒸気洗浄・蒸気
乾燥工程に用いられる蒸気洗浄・乾燥溶剤としては、従
来は、フロン１１３、トリエタン、１，１，２−トリク
ロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエチレン
及び塩化メチレン等の塩素系溶剤が多用されていた。し
かしながら、これらの公知の溶剤は、前述した様にオゾ
ン層破壊物質であったり、人体に対して有害な物質であ
る為、代替物質としてイソプロピルアルコール（以下Ｉ
ＰＡと略記）等が提案されている。しかし、ＩＰＡは引
火点が低く（Ｆｐ＝１１．７℃）、安全性の面から使用
が難しいという問題点を有する。更に、従来、パーフル
オロカーボン化合物のみを蒸気洗浄・乾燥溶剤として用
いる方法も提案されているが、パーフルオロカーボンに
は、各種溶剤に対する相溶性の低さにより、乾燥ジミを
生じ易いという問題点があった。

【００１９】従って、上記の様な背景を考慮すると、蒸
気洗浄・乾燥工程の蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽にて使用
される蒸気洗浄・乾燥溶剤として、本発明の混合溶剤組
成物を用いる洗浄方法が最も好ましい。即ち、この様に
蒸気洗浄・蒸気乾燥工程を設計することにより、安全性
の高い非引火性雰囲気中で作業が可能となる外、他の溶
媒に対する相溶性が従来のパーフルオロカーボン単体を
使用した場合に比べて勝る為、洗浄溶剤の選択の幅が広
がり、工程を短縮することが出来るというメリットがあ
る。尚、金属加工油の脱脂工程等の、主として油性の汚
れを除去する洗浄工程においては、洗浄溶剤、置換リン
ス剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤の全てを、同一の本発明の
混合溶剤組成物で構成することも可能である。

【００２０】更に、本発明方法における洗浄工程及び置
換リンス工程においては、加温、超音波、揺動、シャワ
ー、ブラッシング、スクラビング、噴流及び煮沸の如何
なる外力の使用も可能である。但し、置換リンス工程の
最終槽においては、次に続く蒸気洗浄の効率を上げる為
に、少なくとも本発明の混合溶剤組成物の共沸温度より
も低い温度で液温を管理することが望ましい。又、本発
明において、蒸気洗浄・蒸気乾燥工程においては、冷却
コンデンサーを具備した蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽で本
発明の混合溶剤組成物を気化させ、被洗浄物表面にて凝
縮させ、前工程の置換リンス工程で用いた置換リンス剤
を完全に洗い流した後、被洗浄物をベーパーラインを乱
さない程度のゆっくりした速度で引き上げ、完全乾燥が
行われる。

【００２１】図１〜図３に本発明の洗浄方法の例を示
す。図１は、洗浄槽１０１、置換リンス槽１０２及び蒸
気洗浄（煮沸）・乾燥槽１０３の全ての槽に、本発明の
混合溶剤組成物を使用した場合の例である。ここで、洗
浄槽１０１及び置換リンス槽１０２の洗浄方法として
は、超音波を用いている。又、図２は、洗浄槽２０１及
び２０２に、例えば、アクトレル１１７８Ｌ等の石油系
洗浄溶剤を使用し、置換リンス槽２０３、２０４及び蒸
気洗浄（煮沸）・乾燥槽２０５に本発明の混合溶剤組成
物を使用した場合の例である。ここで、洗浄槽２０１及
び置換リンス槽２０３の洗浄方法には超音波を用い、洗
浄槽１０２及び置換リンス槽２０４の洗浄方法にはシャ
ワー洗浄を用いている。図３は、洗浄槽３０１に、例え
ば、ＤＫビークリアＣＷ５５２４等の水系の洗浄溶剤を
使用し、置換リンス槽３０２、３０３、３０４及び蒸気
洗浄（煮沸）・乾燥槽３０５に本発明の混合溶剤組成物
を使用した場合の例である。ここで、洗浄槽３０１及び
置換リンス槽３０２、３０３、３０４の洗浄方法には、
いずれも超音波を用いている。

【００２２】上記の様な本発明の洗浄方法を応用した洗
浄処理装置は、本発明の混合溶剤組成物を少なくとも１
回は使用することを特徴とする。上記した様な本発明の
洗浄方法に適う装置であれば、その構成は如何なるもの
でもよい。但し、本発明の混合溶剤組成物は、蒸気圧が
高い為、蒸発揮散防止の意味から、蒸気洗浄・乾燥（煮
沸）槽のフリーボート比を１以上に採るのが好ましい。
具体的には、例えば、図４〜図６に示す様な構成の装置
とするのが好ましい。

【００２３】図４に示した装置は、連槽オーバーフロー
型汎用洗浄機の実施例である。図に従って説明すると、
該洗浄機は、液面の高さが順次異なる超音波洗浄槽２が
複数個横並びに設けられており、且つ各超音波洗浄槽２
内には順次図面の右方向へと送られてくる被洗浄物９が
夫々充填されている。送液ポンプＰから供給される本発
明の混合溶剤組成物を液面の高い方の槽に入れていく
と、液がオーバーフローして次々と液面の低い方の槽へ
と流れ込み、各洗浄槽で各々の槽中に浸漬された被洗浄
物９に対して超音波洗浄が行われる。上記の洗浄処理に
より汚染された混合溶剤組成物は、オーバーフローし
て図の一番左側にある槽まで流れて行く。汚染された混
合溶剤組成物は、送液ポンプＰで図の右側にある蒸気
洗浄（煮沸）・乾燥槽８へと送られる。ここで、図面
上、順次右方向に送られてきた溶剤洗浄された被洗浄物
９は、汚染された混合溶剤組成物が気化されて発生す
る蒸気によって洗浄及び乾燥されて系外へと取り出さ
れる。蒸気は凝縮用冷却コンデンサー１で凝縮されて
液化され、その後、含有されている水分が水分離器にて
分離され、凝縮水が除かれた再生液はポンプＰで送られ
て、ごみ除去用のフィルターｆを通過した後、再び一番
大きい超音波洗浄槽２へと送り込まれ、このサイクルが
繰り返される。

【００２４】図５は、本発明の蒸気乾燥装置（縦形簡易
洗浄機）の実施例を示す図である。図４の例の場合と同
様に、被洗浄物９が充填されている超音波洗浄槽２に本
発明の混合溶剤組成物４をフィルターｆを介してポンプ
Ｐで送り、槽中に入れられている被洗浄物９を超音波洗
浄する。被洗浄物９の洗浄によって汚染された混合溶剤
組成物を右側の槽へとオーバーフローさせると共に、
被洗浄物９をゆっくり引き上げて、混合溶剤組成物及
びから気化した蒸気によって蒸気洗浄及び乾燥を行
い、洗浄が完了した洗浄物は系外へと取り出される。蒸
気は図４に示した洗浄機の場合と同様にして、凝縮用
冷却コンデンサー１で凝縮液化され、図４の場合と同様
に再生使用される。

【００２５】図６は、連想バッチ式の洗浄機の実施例を
示す図である。この場合には、従来の洗浄液が入って
いる洗浄槽６が１槽と、従来の置換リンス溶剤が入っ
た置換リンス槽７が３槽と、本発明の混合溶剤組成物
を入れた洗浄槽４が１槽と、更に蒸気洗浄（煮沸）・乾
燥槽８の１槽とからなる。この装置においては、洗浄槽
６において被洗浄物９が洗浄液で洗浄されるが、この
際、洗浄液をポンプＰとフィルターｆを用いて洗浄液中
に放出されたゴミの汚れが除去される。被洗浄物９は、
次の３槽の置換リンス槽７に順次送られて、該槽中で置
換リンス溶剤で順次リンスされる。この際、置換リン
ス溶剤は洗浄液と同様に、ポンプＰとフィルターｆ
を用いてリンス溶剤中に放出されたゴミが除去される。
最終的にリンスされた被汚染物９（汚染されたもの）
は、蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽８に送られて、本発明の
混合溶剤組成物から気化した蒸気によって、蒸気洗浄
及び乾燥を行い、洗浄が完了した洗浄物は系外に取り出
される。蒸気は、図４に示した洗浄機の場合と同様に
して、凝縮用冷却コンデンサー１で凝縮液化され、図４
に示した実施例の場合と同様に再生使用される。

【００２６】

【実施例】次に、本発明の実施例及び比較例を挙げて本
発明を更に詳細に説明する。 ＜実施例１＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、不活性流体 ＰＦ
−５０６０（商品名／住友３Ｍ製）を７２重量％（５０
Ｖｏｌ％）用い、これにイソヘキサン（２−メチルペン
タン）２８重量％（５０Ｖｏｌ％）を加えた混合物１０
０ｍｌを蒸留フラスコに入れ、単蒸留を行った。この結
果、４４．５〜４６℃において共沸様を呈する混合溶剤
組成物が留出した。この留分をガスクロマトグラフにて
分析を行ったところ、組成比は、ＰＦ−５０６０／イソ
ヘキサン＝７７／２３（重量％）であった。

【００２７】＜実施例２＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、不活性流体 ＰＦ
−５０６０（商品名／住友３Ｍ製）を８６重量％（７０
Ｖｏｌ％）用い、これにイソヘキサン（２−メチルペン
タン）１４重量％（３０Ｖｏｌ％）を加えた混合物１０
０ｍｌを蒸留フラスコに入れ、単蒸留を行った。この結
果、４５〜４７℃において共沸様を呈する混合溶剤組成
物が留出した。この留分をガスクロマトグラフにて分析
を行ったところ、組成比は、ＰＦ−５０６０／イソヘキ
サン＝８０／２０（重量％）であった。

【００２８】＜実施例３＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、不活性流体 ＰＦ
−５０６０（商品名／住友３Ｍ製）を５２重量％（３０
Ｖｏｌ％）用い、これにイソヘキサン（２−メチルペン
タン）４８重量％（７０Ｖｏｌ％）を加えた混合物１０
０ｍｌを蒸留フラスコに入れ、単蒸留を行った。この結
果、４５〜４８℃において共沸様を呈した成分が留出し
た。この留分をガスクロマトグラフにて分析を行ったと
ころ、組成比は、ＰＦ−５０６０／イソヘキサン＝７４
／２６（重量％）であった。

【００２９】＜実施例４＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、エフリード ＫＰ
Ｆ−６１（商品名／関東電化工業製）を７２重量％（５
０Ｖｏｌ％）用い、これにイソヘキサン（２−メチルペ
ンタン）２８重量％（５０Ｖｏｌ％）を加えた混合物１
００ｍｌを蒸留フラスコに入れ、単蒸留を行った。この
結果、４４〜４５℃において共沸様を呈する混合溶剤組
成物が留出した。この留分をガスクロマトグラフにて分
析を行ったところ、組成比は、ＫＰＦ−６１／イソヘキ
サン＝７８／２２（重量％）であった。

【００３０】＜実施例５＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、不活性流体 ＰＦ
−５０６０（商品名／住友３Ｍ製）を７８．３重量％
（５８．５Ｖｏｌ％）用い、これにイソヘキサン（２−
メチルペンタン）（東京化成製）２１．７重量％（４
１．５Ｖｏｌ％）を加えた混合物１００ｍｌを蒸留フラ
スコに入れ、単蒸留を行った。この結果、４４〜４５℃
において共沸様を呈する混合溶剤組成物が留出した。こ
の留分をガスクロマトグラフにて分析を行ったところ、
組成比は、ＰＦ−５０６０／イソヘキサン＝７８．３／
２１．７（重量％）であった。

【００３１】＜実施例６＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、不活性流体 ＰＦ
−５０６０（商品名／住友３Ｍ製）を７０重量％（５０
Ｖｏｌ％）用い、これにジイソプロピルエーテル３０重
量％（５０Ｖｏｌ％）を加えた混合物１００ｍｌを蒸留
フラスコに入れ、単蒸留を行った。この結果、４７〜５
１℃において共沸様を呈する混合溶剤組成物が留出し
た。この留分をガスクロマトグラフにて分析を行ったと
ころ、組成比は、ＰＦ−５０６０／ジイソプロピルエー
テル＝８０／２０（重量％）であった。

【００３２】＜実施例７＞ パーフルオロ−ｎ−ヘキサンとして、エフリードＫＰＦ
−６１（商品名／住友３Ｍ製）を８１．８重量％（６６
Ｖｏｌ％）を用い、これにジイソプロピルエーテル（キ
シダ化学製）１８．２重量％（３４Ｖｏｌ％）を加えた
混合物１００ｍｌを蒸留フラスコに入れ、単蒸留を行っ
た。この結果、４８〜４９℃において共沸様を呈する混
合溶剤組成物が留出した。この留分をガスクロマトグラ
フにて分析を行ったところ、組成比は、ＫＰＦ−６１／
ジイソプロピルエーテル＝８１．８／１８．２（重量
％）であった。

【００３３】＜実施例８＞ モデル汚染物として防錆油（ポリブテンＬＶ−７ 日本
石油化学製）を選び、鏡面加工したアルミニウムプレー
ト（２５×７６×５ｍｍ）上に、該防錆油を１０μｌ滴
下し、被洗浄物のモデルとした。これに対して、図１に
示した様な洗浄槽、置換リンス槽及び蒸気洗浄（煮沸）
・乾燥槽の全ての槽に、実施例１の単蒸留で得られた混
合溶剤組成物を夫々用い、以下の表１に示した様な洗浄
方法及び洗浄条件を用いて洗浄実験を行った。

【００３４】

【表１】 １）各層は、全てパイレックス製の２００ｍｌビーカー
を用いた。 ２）超音波は２８ＫＨｚ、１００Ｗとした。 ３）蒸気洗浄・乾燥槽に用いたコンデンサーの冷却液は
２０℃とした。

【００３５】＜実施例９＞ 全ての槽に実施例５の組成物を用いる以外は実施例８と
全く同様の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行っ
た。

【００３６】＜実施例１０＞ 全ての槽に実施例６の組成物を用いる以外は実施例８と
全く同様の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行っ
た。

【００３７】＜実施例１１＞ 全ての槽に実施例７の組成物を用いる以外は実施例８と
全く同様の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行っ
た。

【００３８】＜実施例１２＞ モデル汚染物としてパラフィン系ワックス（エプロフォ
ンＣ−６４ 日本極圧化学研究所製）を選び、スライド
ガラス（２５×７６×１ｍｍ）上に、該パラフィン系ワ
ックス約０．５ｇを加熱塗布して被洗浄物とした。上記
の被洗浄物を用い、洗浄槽２槽、置換リンス槽１槽及び
蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽１槽からなる洗浄方法で、実
施例５で得られた組成物を、置換リンス溶剤及び蒸気洗
浄・乾燥溶剤、芳香族系溶剤クリーンソルＧ（日本石油
化学製）を洗浄溶剤として用いて、以下の表２に示した
様な条件及び装置にて洗浄実験を行った。

【００３９】

【表２】 １）各層は、全てパイレックス製の２００ｍｌビーカー
を用いた。 ２）超音波は２８ＫＨｚ、１００Ｗとした。 ３）蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽に用いたコンデンサーの
冷却液は２０℃とした。

【００４０】＜実施例１３＞ 実施例７の組成物を用いる以外は実施例１２と全く同様
の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００４１】＜実施例１４＞ 被洗浄物として、パラフィン系ワックス（エプロフォン
Ｃ−６４ 日本極圧化学研究所製）を選び、パーマロ
イ、エポキシ樹脂及び亜鉛ダイキャスト等の複合材料よ
りなる磁気ヘッド加工片（約５×５×５ｍｍ）上に、上
記のワックスを約０．５ｇを加熱塗布して被洗浄物とし
た。尚、被洗浄物以外は、実施例１２と全く同様の洗浄
方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００４２】＜実施例１５＞ モデル汚染物として、金属加工油（Ｃ１０７ タッピン
グオイル 日本工作油製）を用いて、図７に示す様にプ
レート状のボンデ鋼板（２５×７５×１．５ｍｍ）の２
か所に、該金属加工湯をタッピングしたものを被洗浄物
とした。実施例５の組成物を、洗浄液、置換リンス液及
び蒸気洗浄・乾燥溶剤の全てとして用いて、真空式超音
波洗浄器 Ｆ１クリーンＹＭＶ−４５２−ＥＰＺ型（千
代田製作所製）にて、以下の表３に示す条件で洗浄実験
を行った。

【００４３】

【表３】 １）超音波は２８ＫＨｚ、９００Ｗとした。

【００４４】＜比較例１＞ 実施例１の混合溶剤組成物の代わりに、フロン１１３を
用いる他は、実施例８と全く同一の洗浄方法及び装置を
用いて洗浄実験を行った。

【００４５】＜比較例２＞ フロン１４１ｂを用いる他は、比較例１と全く同一の洗
浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００４６】＜比較例３＞ フロン１２３を用いる他は、比較例１と全く同一の洗浄
方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００４７】＜比較例４＞ フロン２２５を用いる他は、比較例１と全く同一の洗浄
方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００４８】＜比較例５＞ トリエタンを用いる他は、比較例１と全く同一の洗浄方
法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００４９】＜比較例６＞ 置換リンス溶剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤としてＩＰＡを
用いる他は、実施例１２と全く同一の洗浄方法及び装置
を用いて洗浄実験を行った。

【００５０】＜比較例７＞ 洗浄溶剤、置換リンス溶剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤とし
てフロン１１３を用いる他は、実施例１４と全く同一の
洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００５１】＜比較例８＞ 洗浄溶剤、置換リンス溶剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤とし
てフロン２２５（旭硝子製 ｃａ、ｃｂの混合物）を用
いる他は、実施例１４と全く同一の洗浄方法及び装置を
用いて洗浄実験を行った。

【００５２】＜比較例９＞ 塩化メチレンを用いる他は、実施例１５と全く同一の洗
浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００５３】＜評価＞ 上記の様にして得られた本発明の実施例１〜７の混合溶
剤組成物は、上記した様に、各単独成分の沸点（パーフ
ルオロ−ｎ−ヘキサン：５８〜６０℃、イソヘキサン：
６２℃、ジイソプロピルエーテル：６８℃）よりも低い
温度で、極小共沸点様の挙動を示す。又、この時の組成
物中におけるパーフルオロ−ｎ−ヘキサンの組成比は、
何れも７０〜８５重量％の範囲にあることが分かる。表
４に、パーフルオロ−ｎ−ヘキサンと、イソヘキサン又
はジイソプロピルエーテルの２種の成分からなる本発明
の実施例１〜７の組成物の組成比を示した。これらの組
成物について、引火点、耐プラスチック性、蒸気洗浄性
及びＯＤＰを下記に述べる基準で評価した。得られた結
果は、引火点については表４に、その他については表５
に示す。又、比較の為、蒸気洗浄・乾燥溶剤として用い
られている従来の各種の溶剤についても同様の項目につ
いて評価し、その結果を表４及び表５に示す。

【００５４】各評価は、以下の様にして実施した。引火点： タグ密閉式の自動引火点試験機（田中化学機器製作
（株）製 ＡＴＧ−４型）を使用して、ＪＩＳ Ｋ２２
６５に準拠して測定した。

【００５５】耐プラスチック製： 汎用のプラスチックに対し、溶解及び膨潤等の悪影響が
ないことを確かめる為に膨潤テストを行った。使用した
汎用プラスチックのテストピースは以下の通りである。 ・ＰＭＭＡ（アクリル）：デルペット８０Ｎ（旭化成
製） ・ＰＣ（ポリカーボネート）：パンライト１２２５（帝
人化成製） ・ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共
重合体）：サイコラックＥＸ１２０（宇部サイコン製） ・ＰＯＭ（ポリアセタール）：ジュラコンＭ９０（ポリ
プラスチック製） ・ＰＳ（ポリスチレン）：ＨＴ５３（出光石化製） ・ウレタンゴム：ミラクトランＥ５８５（日本ミラクト
ラン製） テスト方法は、２５×１００（ｍｍ）の大きさに各テス
トピースを切断し、各混合溶剤組成物を加温して、３分
間蒸気洗浄を行った。蒸気洗浄前後の重量変化率を測定
し、以下の様に評価した。 ○：０．１重量％未満のもの △：０．１重量％以上１重量％未満のもの ×：１重量％以上のもの

【００５６】ＯＤＰ： Ｏｚｏｎｅ Ｄｅｐｌｅｔｉｏｎ Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ
（オゾン破壊係数）

【００５７】

【表４】表４ 蒸留前後の組成物の組成比と引火点 ＰＦＣ：パーフルオロ−ｎ−ヘキサン ｉＨＥＸ：イソヘキサン ＩＰＥ：ジイソプロピルエーテル

【００５８】

【表５】表５ 評価結果（実施例１〜実施例７及び従来
溶媒）

【００５９】次に、本発明の混合溶剤組成物を、実際の
洗浄溶剤、蒸気洗浄剤・蒸気乾燥溶剤及び置換リンス溶
剤として使用した場合の洗浄性を、実施例８〜実施例１
５及び比較例１〜比較例９について評価を行い、得られ
た結果を夫々下記の表６に示した。評価は、接触角、汚
染物残留量及びシミの有無を夫々下記の方法により行っ
た。

【００６０】接触角： 各実施例及び比較例で洗浄した後のプレート上の被洗浄
物を、協和界面化学製全自動接触角計ＣＡ−Ｚ１５０型
にて、室温（２２〜２５℃）で純水の接触角を測定し
た。単位は［°］とする。

【００６１】汚染物質残留量： 各実施例及び比較例で洗浄したパラフィン系ワックスが
汚染物となっている被洗浄物を、トルエン１００ｍｌ中
に浸漬し、６０℃、３０分間超音波洗浄器（２８ＫＨ
ｚ、１００Ｗ）にて、残留しているワックスを抽出し
た。抽出液は、ロータリーエバポレーターを用いて、１
０倍程度に濃縮した後、ガスクロマトグラフにより測定
した。単位は、［μｇ／１ケ］とする。

【００６２】シミ： 実施例及び比較例で洗浄した被洗浄物の表面に全くシミ
が残らないものを○、若干シミの残留するものを△、多
量のシミ又は油膜の残るものを×とした。

【００６３】

【表６】表６ 実施例８〜実施例１５及び比較例１〜比
較例９における評価結果

【００６４】＜実施例１６＞ 下記成分よりなる混合物１２０ｍｌをウイドマー精留塔
（２００ｍｍ）を備えた精留装置にて単蒸留した。 ・不活性流体 ＰＦ５０６０（住友３Ｍ製） ４７．６重量％（３３．３容量％） ・トリフルオロ酢酸エチル（ＰＣＲ製） ３３．８重量％（３３．３容量％） ・イソヘキサン（２−メチルペンタン）（東京化成製） １８．６重量％（３３．３容量％） 上記単蒸留の結果、４３．５〜４４．０℃において共沸
様を呈した成分が流出した。この留分をガスクロマトグ
ラフで分析したところ、下記の組成比であることが分か
った。 ・ＰＦ５０６０ ６５．２重量％ ・トリフルオロ酢酸エチル １９．２重量％ ・イソヘキサン １５．６重量％

【００６５】＜実施例１７＞ 下記成分よりなる混合物１２０ｍｌをウイドマー精留塔
（２００ｍｍ）を備えた精留装置にて単蒸留した。 ・不活性流体 ＰＦ５０６０（住友３Ｍ製） ６４．５重量％（５０．０容量％） ・トリフルオロ酢酸エチル（ＰＣＲ製） ２２．９重量％（２５．０容量％） ・イソヘキサン（２−メチルペンタン）（東京化成製） １２．６重量％（２５．０容量％） 上記単蒸留の結果、４２〜４４℃において共沸様を呈し
た成分が流出した。この留分をガスクロマトグラフで分
析したところ、下記の組成比であることが分かった。 ・ＰＦ５０６０ ６６．３重量％ ・トリフルオロ酢酸エチル １８．９重量％ ・イソヘキサン １４．８重量％

【００６６】＜実施例１８＞ 下記成分よりなる混合物１２０ｍｌをウイドマー精留塔
（２００ｍｍ）を備えた精留装置にて単蒸留した。 ・不活性流体 ＰＦ５０６０（住友３Ｍ製） ３５．６重量％（２５．０容量％） ・トリフルオロ酢酸エチル（ＰＣＲ製） ５０．５重量％（５０．０容量％） ・イソヘキサン（２−メチルペンタン）（東京化成製） １３．９重量％（２５．０容量％） 上記単蒸留の結果、４３〜４５℃において共沸様を呈し
た成分が流出した。この留分をガスクロマトグラフで分
析したところ、下記の組成比であることが分かった。 ・ＰＦ５０６０ ６４．５重量％ ・トリフルオロ酢酸エチル １９．８重量％ ・イソヘキサン １５．７重量％

【００６７】＜実施例１９＞ 下記成分よりなる混合物１２０ｍｌをウイドマー精留塔
（２００ｍｍ）を備えた精留装置にて単蒸留した。 ・不活性流体 ＰＦ５０６０（住友３Ｍ製） ４０．２重量％（２５．０容量％） ・トリフルオロ酢酸エチル（ＰＣＲ製） ２８．５重量％（２５．０容量％） ・イソヘキサン（２−メチルペンタン）（東京化成製） ３１．３重量％（５０．０容量％） 上記単蒸留の結果、４３〜４６℃において共沸様を呈し
た成分が流出した。この留分をガスクロマトグラフで分
析したところ、下記の組成比であることが分かった。 ・ＰＦ５０６０ ６３．０重量％ ・トリフルオロ酢酸エチル １８．８重量％ ・イソヘキサン １８．２重量％

【００６８】＜実施例２０＞ 下記成分よりなる混合物１２０ｍｌをウイドマー精留塔
（２００ｍｍ）を備えた精留装置にて単蒸留した。 ・エフリードＫＰＦ−６１（関東電化製）６５．０重量％（４８．７容量％） ・トリフルオロ酢酸エチル（ＰＣＲ製） １９．０重量％（２０．２容量％） ・イソヘキサン（２−メチルペンタン）（東京化成製） １６．０重量％（３１．１容量％） 上記単蒸留の結果、４３．８℃において共沸様を呈した
成分がほぼ全量流出した。この留分をガスクロマトグラ
フで分析したところ、下記の組成比であることが分かっ
た。 ・ＫＰＦ−６１ ６５．０重量％ ・トリフルオロ酢酸エチル １９．０重量％ ・イソヘキサン １６．０重量％

【００６９】＜実施例２１＞ 下記成分よりなる混合物１２０ｍｌをウイドマー精留塔
（２００ｍｍ）を備えた精留装置にて単蒸留した。 ・不活性流体 ＰＦ５０６０（住友３Ｍ製） ６５．０重量％（４９．３容量％） ・トリフルオロ酢酸エチル（ＰＣＲ製） １９．０重量％（２０．５容量％） ・イソヘキサン（２−メチルペンタン）（東京化成製） １６．０重量％（３０．２容量％） 上記単蒸留の結果、４３．５〜４４℃において共沸様を
呈した成分が流出した。この留分をガスクロマトグラフ
で分析したところ、下記の組成比であることが分かっ
た。 ・ＰＦ５０６０ ６５．２重量％ ・トリフルオロ酢酸エチル １９．２重量％ ・イソヘキサン １５．６重量％

【００７０】＜実施例２２＞ モデル汚染物として防錆油（ポリブテンＬＶ−７ 日本
石油化学製）を選び、上記防錆油を鏡面加工したアルミ
ニウムプレート（２５×７６×５ｍｍ）上に１０μｌ滴
下し、被洗浄物のモデルとした。これに対して、図１に
示した様な洗浄槽、置換リンス槽及び蒸気洗浄・乾燥槽
の全ての槽に、実施例１６の単蒸留で得られた混合溶剤
組成物を夫々用い、以下の表７に示した様な洗浄方法及
び装置で洗浄実験を行った。

【００７１】

【表７】 １）各層は、全てパイレックス製の２００ｍｌビーカー
を用いた。 ２）超音波は２８ＫＨｚ、１００Ｗとした。 ３）蒸気洗浄・乾燥槽に用いたコンデンサーの冷却液は
２０℃とした。

【００７２】＜実施例２３＞ 実施例２０の混合溶剤組成物を用いる以外は実施例２２
と全く同様の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行っ
た。 ＜実施例２４＞ 実施例２１の混合溶剤組成組成物を用いる以外は実施例
２２と全く同様の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を
行った。

【００７３】＜実施例２５＞ モデル汚染物としてパラフィン系ワックス（エプロフォ
ンＣ−６４ 日本極圧化学研究所製）を選び、スライド
ガラス（２５×７６×１ｍｍ）上に、該パラフィン系ワ
ックス約０．５ｇを加熱塗布して被洗浄物とした。上記
の被洗浄物を用い、洗浄槽２槽、置換リンス槽１槽及び
蒸気洗浄・乾燥槽１槽からなる洗浄装置で、実施例２１
で得られた混合溶剤組成物を置換リンス溶剤及び蒸気洗
浄・乾燥溶剤として用い、芳香族系溶剤クリーンソルＧ
（日本石油化学製）を洗浄溶剤として用いて、以下の表
８に示した様な条件及び装置にて洗浄実験を行った。

【００７４】

【表８】 １）各層は、全てパイレックス製の２００ｍｌビーカー
を用いた。 ２）超音波は２８ＫＨｚ、１００Ｗとした。 ３）蒸気洗浄・乾燥槽に用いたコンデンサーの冷却液は
２０℃とした。

【００７５】＜実施例２６＞ 実施例２０の混合溶剤組成物を置換リンス溶剤及び蒸気
洗浄・乾燥溶剤として用いる以外は実施例２５と全く同
様の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００７６】＜実施例２７＞ モデル汚染物として、パラフィン系ワックス（エプロフ
ォンＣ−６４ 日本極圧化学研究所製）を選び、パーマ
ロイ、エポキシ樹脂及び亜鉛ダイキャスト等の複合材料
よりなる磁気ヘッド加工片（約５×５×５ｍｍ）上に、
上記のワックスを約０．５ｇ加熱塗布して被洗浄物とし
た。尚、被洗浄物以外は、実施例２５と全く同様の洗浄
方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００７７】＜実施例２８＞ モデル汚染物として、金属加工油（Ｃ１０７ タッピン
グオイル 日本工作油製）を用いて、図７に示す様にプ
レート状のボンデ鋼板（２５×７５×１．５ｍｍ）の２
か所に、タッピング加工したものを被洗浄物とした。実
施例２１の混合溶剤組成物を、洗浄液、置換リンス溶剤
及び蒸気洗浄・乾燥溶剤の全てとして用いて、真空式超
音波洗浄機 Ｆ１クリーンＹＭＶ−４５２−ＥＰＺ型
（千代田製作所製）にて、温液洗浄 ３５℃ ２分間
ＵＳ（２８ＫＨｚ、９００Ｗ）、冷液洗浄 ２０℃ ２
分間 ＵＳ（２８ＫＨｚ、９００Ｗ）及び蒸気洗浄２分
間の条件で洗浄実験を行った。

【００７８】＜比較例１０＞ 実施例１６の組成物の代わりにフロン１１３を用いる他
は、実施例２２と全く同一の洗浄方法及び装置を用いて
洗浄実験を行った。

【００７９】＜比較例１１＞ フロン１４１ｂを用いる他は、実施例２２と全く同一の
洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８０】＜比較例１２＞ フロン１２３を用いる他は、実施例２２と全く同一の洗
浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８１】＜比較例１３＞ フロン２２５を用いる他は、実施例２２と全く同一の洗
浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８２】＜比較例１４＞ トリエタンを用いる他は、実施例２２と全く同一の洗浄
方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８３】＜比較例１５＞ 塩化メチレンを用いる他は、実施例２２と全く同一の洗
浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８４】＜比較例１６＞ 置換リンス溶剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤としてＩＰＡを
用いる他は、実施例２５と全く同一の洗浄方法及び装置
を用いて洗浄実験を行った。

【００８５】＜比較例１７＞ 洗浄溶剤、置換リンス溶剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤とし
てフロン１１３を用いる他は、実施例２７と全く同一の
洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８６】＜比較例１８＞ 洗浄溶剤、置換リンス溶剤及び蒸気洗浄・乾燥溶剤とし
てフロン２２５（旭硝子製 ｃａ、ｃｂの混合物）を用
いる他は、実施例２７と全く同一の洗浄方法及び装置を
用いて洗浄実験を行った。

【００８７】＜比較例１９＞ 塩化メチレンを用いる他は、実施例２８と全く同一の洗
浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行った。

【００８８】＜比較例２０＞ １，１，１−トリクロロエタンを用いる他は、実施例２
８と全く同一の洗浄方法及び装置を用いて洗浄実験を行
った。

【００８９】上記各実施例１６〜２１の混合溶剤組成物
は、各単独成分の沸点（パーフルオロ−ｎ−ヘキサン：
５８〜６０℃、トリフルオロ酢酸エチル：６０〜６２
℃、及びイソヘキサン：６２℃）よりも低い温度で、極
小共沸点様の挙動を示し、その時の組成物中におけるパ
ーフルオロ−ｎ−ヘキサンの組成比は、何れも６１〜６
９重量％の範囲にある（下記表９参照）。これらの混合
溶剤組成物の基礎物性として、引火点、耐プラスチック
性、ＯＤＰ及び相分離温度を、従来用いられてきた各種
有機塩素系溶剤と比較した結果を下記表１０に示す。

【００９０】表９に、パーフルオロ−ｎ−ヘキサン、ト
リフルオロ酢酸エチル及びイソヘキサンの３種の成分か
らなる本発明の実施例１６〜２１の組成物の組成比を示
した。これらの組成物について、前述したと同様の評価
方法及び評価基準で、引火点、耐プラスチック性、蒸気
洗浄性及びＯＤＰを評価した。得られた結果は、引火点
については表９に、その他については表１０に示す。
又、比較の為、蒸気洗浄・乾燥溶剤として用いられてい
る従来の各種の溶剤についても同様の項目について評価
し、その結果を表９及び表１０に示す。

【００９１】

【表９】表９ 蒸留前後の組成物の組成比と引火点 ＥＴＦＡ：トリフルオロ酢酸エチル ＰＦＣ：パーフルオロ−ｎ−ヘキサン ｉＨＥＸ：イソヘキサン

【００９２】

【表１０】表１０ 評価結果（実施例１６〜実施例２１
及び従来溶媒）

【００９３】次に、本発明の混合溶剤組成物を実際の洗
浄溶剤、蒸気洗浄剤・蒸気乾燥溶剤、置換リンス溶剤と
して使用した場合の洗浄性を、幾つかの実施例と幾つか
の比較例について評価を行い、得られた結果を夫々下記
の表１１に示した。評価項目は、接触角、汚染物残留量
及びシミの有無とし、前述したと同様の評価方法及び評
価基準で評価した。

【００９４】

【表１１】表１１ 実施例２２〜実施例２８及び比較例
１０〜比較例２２における評価結果

【００９５】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明の混合溶剤組
成物は、共沸様状態の組成のバランスがよい為、引火点
を有さず、且つ耐プラスチック性に優れる為、フロン１
１３を始めとする有機塩素系溶剤を代替し、蒸気洗浄・
乾燥溶剤として使用することが出来る。又、本発明の混
合溶剤組成物は、塩素原子を含有しない為、オゾン破壊
係数を持たず、フロンの様なオゾンホールの破壊の問題
を生じることがない。更に、共沸様状態の組成のバラン
スがよく、引火点を有さない為、本発明の混合溶剤組成
物は、１，１，１，−トリクロロエタン、更には塩化メ
チレンの代替の蒸気洗浄・乾燥溶剤としてのみならず、
比較例で示した様な従来の洗浄溶剤と同等の洗浄性及び
仕上り性を有し、各種の洗浄溶剤及び希釈溶剤等にも十
分活用することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の洗浄方法の一実施例を示す図である。

【図２】本発明の洗浄方法の一実施例を示す図である。

【図３】本発明の洗浄方法の一実施例を示す図である。

【図４】本発明の洗浄機の一実施例を示す図である。

【図５】本発明の蒸気乾燥装置の一実施例を示す図であ
る。

【図６】本発明の洗浄機の一実施例を示す図である。

【図７】本発明の実施例におけるモデル汚染物を示す図
である。

【符号の説明】

１：凝縮冷却用コンデンサー ２：超音波洗浄機 ：の蒸気 ：混合溶剤組成物 ５：汚染された混合溶剤組成物 ：洗浄液 ：置換リンス溶剤 ８：蒸気洗浄（煮沸）・乾燥槽 ９：被洗浄物 ｆ：ゴミ除去用のフィルター ｐ：送液ポンプ １０１、２０１、２０２：洗浄槽 １０２、２０３、２０４、３０２、３０３、３０４：置
換リンス槽 １０５、２０５、３０５：蒸気洗浄・乾燥槽

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−4003（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−363381（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−198399（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−293303（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C11D 7/50 C11D 7/24 C11D 7/26 C11D 7/28 C11D 7/30

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 パーフルオロ−ｎ−ヘキサン７０〜８５
   重量％と、イソヘキサン１５〜３０重量％とからなり、
   ４４〜４８℃の共沸温度を有し、非引火性且つオゾン破
   壊係数が０であることを特徴とする混合溶剤組成物。
2. 【請求項２】 不純物として、パーフルオロペンタン、
   パーフルオロヘプタン及びパーフルオロシクロヘキサン
   とを含む請求項１に記載の混合溶剤組成物。
3. 【請求項３】 不純物として、ｎ−パラフィンとシクロ
   パラフィンとを含む請求項１に記載の混合溶剤組成物。
4. 【請求項４】 パーフルオロ−ｎ−ヘキサン７０〜８５
   重量％とジイソプロピルエーテル１５〜３０重量％とか
   らなり、４７〜５１℃の共沸温度を有し、非引火性且つ
   オゾン破壊係数が０であることを特徴とする混合溶剤組
   成物。
5. 【請求項５】 不純物として、パーフルオロペンタン、
   パーフルオロヘプタン、及びパーフルオロシクロヘキサ
   ンを含む請求項４に記載の混合溶剤組成物。
6. 【請求項６】 パーフルオロ−ｎ−ヘキサン６０〜７０
   重量％、イソヘキサン１４〜２０重量％及びトリフルオ
   ロ酢酸エチル１５〜２１重量％からなり、４２〜４６℃
   の共沸温度を有し、非引火性且つオゾン破壊係数が０で
   あることを特徴とする混合溶剤組成物。
7. 【請求項７】 不純物として、パーフルオロペンタン、
   パーフルオロヘプタン及びパーフルオロシクロヘキサン
   を含む請求項６に記載の混合溶剤組成物。
8. 【請求項８】 不純物として、ｎ−パラフィン、及びシ
   クロパラフィンを含む請求項６に記載の混合溶剤組成
   物。
9. 【請求項９】 溶剤を用いた物品の洗浄方法において、
   該溶剤が請求項１〜８の何れか１項に記載の混合溶剤組
   成物であることを特徴とする洗浄方法。
10. 【請求項１０】 少なくとも１の洗浄槽を有する洗浄処
    理装置において、いずれかの１の槽に対して、請求項１
    〜８のいずれか１項に記載の混合溶剤組成物を供給する
    ことを特徴とする洗浄処理装置。