JPH0428798A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、洗浄剤組成物に関し、さらに詳しくは、ＩＣ
部品、精密機械部品などに付着したフラックス、油脂類
、塵埃などの除去に適した洗浄剤組成物に関する。

従来の技術とその課題 従来から、ＩＣ部品、精密機械部品などを製造する際、
組み立て行程で付着したフラックス、塵埃などを除去す
るために、通常有機溶剤を用いる洗浄が行なわれている
。有機溶剤としては、１゜１．２−４リクロロー１．２
．２−トリフルオロエタン（Ｒ−１１３という）が広く
使われている。

Ｒ−１１３は、不燃性で毒性が低く、安定性に優れてい
る。しかも適度な溶解性を有しているので、各種の汚れ
のみを選択的に溶解し、金属、プラスチック、エラスト
マーなどを侵すことはない。プリント基板上のフラック
ス洗浄を行なう場合、被洗物類は、一般に、金属、プラ
スチック、エラストマーなどからなる複合部品が多い。

従って、この点からもＲ−１１３が有利である。

しかるに、最近、Ｒ−１１３が成層圏のオゾンを破壊し
、ひいては皮膚癌の発生をひき起こす原因となる疑いが
あることから、その使用が規制されつつある。

課題を解決するための手段 本発明者は、上記従来技術の現状に鑑みて鋭意研究を重
ねた結果、特定のフッ化脂肪族炭化水素が、１）分子中
に塩素を含有しないので、オゾンを破壊する恐れがまっ
たく無く、２）フラックス、油脂類、塵埃などの洗浄効
果に優れ、３）従来使用されていたＲ−１１３と同様の
適度な溶解力を持つので、各種の汚れのみを選択的に溶
解除去し、金属、プラスチック、エラストマーなどから
なる複合部品を侵さないことを見出し、本発明を完成し
た。

すなわち、本発明は、−数式Ｃｎ　Ｆｍ　Ｈ２ｎ＋２−
ｍ（式中、４≦ｎ≦６及び６≦ｍ≦１２である）で表わ
されるフッ化脂肪族炭化水素を有効成分として含有する
洗浄剤組成物を提供するものである。

本発明の洗浄剤組成物は、有効成分として、−数式ＣＦ
Ｈ（式中、４≦ｎ≦６及び６ ｎ　　ｍ　　２ｎ＋２−ｍ ≦ｍ≦１２である）で表わされるフッ化脂肪族炭化水素
を含有するものである。この様な化合物がフラックス、
油脂類などの洗浄剤として用いられた例は全くなく、ま
た知られていない。

上記フッ化脂肪族炭化水素としては、具体的には、Ｃ４
Ｆ６Ｈ４、Ｃ４Ｆ３Ｈ２、Ｃ９Ｆ７Ｈ５、Ｃｓ　Ｆｇ　
Ｈ４、Ｃ３Ｆ９　Ｈ３、Ｃ５Ｆ］ＯＨ２、Ｃｂ　Ｈ９Ｈ
５、Ｃｂ　Ｆ１２Ｈ２等で表わされる化合物を例示する
ことができ、好ましい具体例としては、１．１．２，３
，４．４−へキサフルオロブタン（ＨＣＦ２ＣＦＨＣＦ
ＨＣＦ２Ｈ）、１．１，１．２，２，３．３．４−オク
タフルオロブタン（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｆ）、１
．１．２．２，３．３．４−へブタフルオロペンタン（
ＨＣＦ２　（ＣＦ２　’）　２ＣＦＨＣＨ３）、１．１
，２．３，３，４，５．５−オクタフルオロペンタン （ＨＣＦ２　ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｆ）、１．１，
２．２，３．３，４．４．５−ノナフルオロペンタン（
ＨＣＦ２　　（ＣＦ２　）３　ＣＨ２Ｆ）、１．１，１
．２．３，３．４，４，５．５−デカフルオロペンタン （ＣＦ３ＣＦ　（ＣＨＦ２　）ＣＦ２ＣＦ２Ｈ）、１．
１，１，２．２，３．３，４．４−ノナフルオロヘキサ
ン （ＣＦ３　　（ＣＦ２　）３　ＣＨ２ＣＨ３）、１．１
．２，２，３，３，４，４，５．５．６゜６−ドゾカフ
ルオロヘキサン （ＨＣＦ２　（ＣＦ、、）　４ＣＦ２Ｈ）、２−トリフ
ルオロメチル−１，１，１，３，４゜４．５．５．５−
ノナフルオロペンタン（ＣＦ３　）２　ＣＨＣＦＨＣＦ
２　ＣＦ３　）等を挙げることができる。

本発明の洗浄剤組成物では、上記したフッ化脂肪族炭化
水素の含有量は、特に限定的ではないが、通常７０重量
％程度以上、好ましくは８０重量％程度以上とすればよ
い。

本発明の組成物には、フラックスの溶解力を向上させる
ために、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケト
ン類などの有機溶剤から選ばれる少なくとも一種を併用
しても良い。有機溶剤の配合量は、特に制限されないが
、通常洗浄剤組成物全量の３０重量％程度を越えない範
囲、好ましくは２〜１０重量％程度、さらに好ましくは
３〜８重量％程度とすれば良い。フッ化脂肪族炭化水素
と有機溶剤との混合物に共沸組成が存在する場合には、
その共沸組成での使用が好ましい。

炭化水素類としては、特に制限されないが、例えば、ヘ
キサン、ヘプタン、イソへブタン、オクタン、イソオク
タン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン、トルエンなどが好ましい。

アルコール類としては、特に制限されないが、炭素数１
〜５程度の鎖状飽和アルコール類が好ましく、例えば、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパツール、イソプロ
パツール、ｎ−ブチルアルコール、５ｅｃ−ブチルアル
コール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアル
コール、ペンチルアルコール、５ｅＣ−アミルアルコー
ル、１−エチル−１−プロパツール、２−メチル−１−
ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペン
チルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペ
ンチルアルコール、２−エチル−１−ブタノールなどを
挙げることができる。その中でも、メタノール、エタノ
ール、イソプロパツール、ｎ−プロパツールなどが特に
好ましい。

エステル類としては、特に制限されないが、炭素数１〜
５程度の脂肪酸と炭素数１〜６程度の低級アルコールの
エステルが好ましく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル
、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸
イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル
、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸イソプロピル、
酪酸メチル、酪酸エチル、吉草酸メチルなどを挙げるこ
とができる。その中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチルなどが特に好ましい。

ケトン類としては、特に制限されないが、−数式Ｒ−Ｃ
ｏ−Ｒ’　　（式中、ＲおよびＲ′は炭素数１〜４程度
の飽和炭化水素基を示す）で表わされるものが好ましく
、例えば、アセトン、２−ブタノン、２−ペンタノン、
３−ペンタノン、４−メチル−２−ペンタノンなどを挙
げることができる。

その中でも、アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２
−ペンタノンなどが特に好ましい。

さらに本発明組成物には、各種の目的に応じて、従来か
らこの種の洗浄剤に用いられている成分が含まれていて
も良い。該成分としては、例えば、界面活性剤などの各
種洗浄助剤や安定剤、オゾンを破壊する恐れの少ない水
素含有塩素化フッ素化炭化水素類、オゾンを破壊する恐
れが全くない水素含有フッ素化炭化水素類、炭化水素類
などを挙げることができる。

本発明組成物を用いてフラックス、油脂類などの洗浄、
塵埃除去などを行なうに際しては、通常の洗浄方法が採
用できる。具体的には、手拭き、浸漬、スプレー、揺動
、超音波洗浄、蒸気洗浄などの方法を挙げることができ
る。

発明の効果 本発明の洗浄組成物は、オゾンを破壊する恐れがまった
く無（、しかもフラックス洗浄効果に優れている。また
、従来使用されていたＲ−１１３と同様の適度な溶解力
を持つので、各種の汚れ（フラックス、油脂類、塵埃な
ど）のみを選択的に溶解除去し、金属、プラスチック、
エラストマーなどからなる複合部品を侵すことがない。

実施例 以下に実施例を挙げ、本発明を一層明瞭にする。

実施例１ １．１，２．２．３．３．４−へブタフルオロペンタン
（７Ｆペンタン）　、１，１．２．３．３゜４．５．５
−オクタフルオロペンタン（８Ｆペンタン）又は２−ト
リフルオロメチル−１，１，１゜３．４．４，５，５．
５−ノナフルオロペンタン（６ＦＤＨ２）を有効成分と
して含有する下記第１表に示す本発明の洗浄剤組成物Ｎ
ｏ、　１〜２７を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。

プリント基板（銅張り積層板）全面にフラックス（タム
ラＦ−Ａｌｌ−４、■タムラ製作所製）を塗布し、１１
０℃で２０秒間予備加熱後、２５０℃で５秒間ハンダ付
けを行なった。ハンダ付は後のプリント基板を本発明の
洗浄剤組成物に浸漬し、超音波洗浄を１分間行なった。

フラックスの除去の度合を以下の基準で評価した。結果
を第１表に示す。

◎・・・フラックスを良好に除去できる。

○・・・ごく僅かにフラックスが残存する。

×・・・かなりフラックスが残存する。

弔 表 部 表 （続 き） 弔 表 （続 き） 実施例２ 実施例１で使用した洗浄剤組成物Ｎｏ、　１〜１８のプ
ラスチックに対する影響をみるために、第２表に示す各
種プラスチックを、５０℃にて１時間各組成物に浸漬し
、取り出した直後にプラスチックの重量変化率（％）を
測定し、以下の基準で影響度を評価した。結果を第２表
に示す。

０・・・影響がほとんどみられない （重量変化率０〜１％） １・・・やや膨潤するが、実質的に問題ない。

（重量変化率１〜５％） ２・・・膨潤し、プラスチックが侵される。

（重量変化率５〜１０％） 第１表および第２表から、本発明組成物が、フラックス
洗浄効果に優れ、かつ各種プラスチックを侵さないこと
が判る。

実施例３ １０Ｘ１０ｃｍのプリント基板に銖タムラ製作σ。

製のフラックス（Ｆ−ＡＬ−４）を塗布し、１１０°Ｃ
で予備加熱を行い、２５０℃で５秒間ノ・ンダづけを行
った。

この基板に対して、下記第３表に示す本発明Ｃ洗浄剤を
用いて、超音波洗浄を６０秒間及び魚受洗浄を６０秒間
行うことによって、洗浄試験を行った。

洗浄後のプリント基板につき、フラックスの防去性を目
視により観察する一方、イオン性残渣蓋をオメガメータ
ー５００　（ＫＥＮＣＯ社製）を井いて測定し、以下の
基準で評価した。結果を第３表に示す。

０目視評価 Ｏ：良好に除去されている。

△：わずかに残渣が認められる。

×：かなり残存する。

Ｏイオン性残渣評価：２μｇＮａＣρ／ｃＩｆ１以下は
良好な洗浄性を示す。

「 ヒ 実施例４ スピンドル油の付着した１００メツシユの円筒状金網（
２５φＸ１５Ｈｍｍ）を６０℃に加温した本発明の洗浄
剤に浸漬し、超音波洗浄を６０秒間行った。

更に４０〜５０℃に加温した本発明の洗浄剤中で浸漬或
いは超音波洗浄を６０秒間行った後、蒸気洗浄を６０秒
間行うことにより脱脂洗浄試験を行った。

その後金網に残留している油分量を油分濃度計（■堀場
製作所製）にて測定し、油分の除去された割合を洗浄度
（％）として求めた。

使用した洗浄剤の組成及び洗浄度を下記第４表に示す。

上述のように本発明の洗浄剤組成物は脱脂洗浄性に優れ
たものである。

（以 上）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式Ｃ＿ｎＦ＿ｍＨ＿２＿ｎ＿＋＿２＿−＿ｍ
   （式中、４≦ｎ≦６及び６≦ｍ≦１２である）で表わさ
   れるフッ化脂肪族炭化水素を有効成分として含有する洗
   浄剤組成物。
2. （２）フッ化脂肪族炭化水素が、Ｃ＿４Ｆ＿６Ｈ＿４、
   Ｃ＿４Ｆ＿８Ｈ＿２、Ｃ＿５Ｆ＿７Ｈ＿５、Ｃ＿５Ｆ＿
   ８Ｈ＿４、Ｃ＿５Ｆ＿９Ｈ＿３、Ｃ＿５Ｆ＿１＿０Ｈ＿
   ２、Ｃ＿６Ｆ＿９Ｈ＿５及びＣ＿６Ｆ＿１＿２Ｈ＿２か
   ら選ばれた少なくとも１種の化合物である請求項１に記
   載の洗浄剤組成物。
3. （３）フッ化脂肪族炭化水素が、１，１，２，３，４，
   ４−ヘキサフルオロブタン、１，１，１，２，２，３，
   ３，４−オクタフルオロブタン、１，１，２，２，３，
   ３，４−ヘプタフルオロペンタン、１，１，２，３，３
   ，４，５，５−オクタフルオロペンタン、１，１，２，
   ２，３，３，４，４，５−ノナフルオロペンタン、１，
   １，１，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロペ
   ンタン、１，１，１，２，２，３，３，４，４−ノナフ
   ルオロヘキサン、１，１，２，２，３，３，４，４，５
   ，５，６，６−ドデカフルオロヘキサン及び２−トリフ
   ルオロメチル−１，１，１，３，４，４，５，５，５−
   ノナフルオロペンタンから選ばれた少なくとも１種の化
   合物である請求項１に記載の洗浄剤組成物。
4. （４）炭化水素類、アルコール類、エステル類及びケト
   ン類から選ばれた少なくとも１種の有機溶剤を含む請求
   項１に記載の洗浄剤組成物。