JPH0327328A - 弗素化炭化水素系溶剤組成物 - Google Patents

弗素化炭化水素系溶剤組成物

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JPH0327328A
JPH0327328A JP1159461A JP15946189A JPH0327328A JP H0327328 A JPH0327328 A JP H0327328A JP 1159461 A JP1159461 A JP 1159461A JP 15946189 A JP15946189 A JP 15946189A JP H0327328 A JPH0327328 A JP H0327328A
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JP
Japan
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weight
dichloro
present
solvent composition
pentafluoropropane
Prior art date
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Pending
Application number
JP1159461A
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English (en)
Inventor
Akio Asano
浅野 昭雄
Toru Kamimura
徹 上村
Naohiro Watanabe
渡辺 直洋
Tateo Kitamura
健郎 北村
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明は、代替フロンとして使用できるとともに溶剤等
として優れた特性を有する新規な弗素化炭化水素系溶剤
組成物に関するものである.
【従来の技術】
弗素化炭化水素系化合物(以下単にフロンという)は、
毒性が少なく化学的に安定なものが多く、標準沸点の異
なる各種フロンが入手できることから、これらの特性を
活かして溶剤、発泡剤、プロペラントあるいは冷媒等と
して1, 1. 2−トリクロロー1,2.2− }リ
フルオロエタン( R 113 )が、発泡剤としてト
リクロロモノフルオロメタン(RL1)が、プロペラン
トや冷媒としてジクロロジフルオロメタン( R 12
 )が使われている. [発明が解決しようとする課題] 化学的に特に安定なR 11. R 12、R 113
は対流圏内での寿命が長く、拡散して成層圏に達し、こ
こで太陽光線により分解して発生する塩素ラジカルがオ
ゾンと連鎖反応を起こし、オゾン層を破壊するとのこと
から、これら従来のフロンの使用規制が実施されること
となった.このため、これらの従来のフロンに代わり、
オゾン層を破壊しにくい代替フロンの探索が活発に行な
われている. 本発明は、従来のフロンの使用量を低減し、且つ該フロ
ンが有している優れた特性を満足しながら代替フロンと
して使用できる新規なフロン組成物を提供することを目
的とするものである. 〔課題を解決するための手段1 本発明は、1.1−ジクロロ−2. 2, 3, 3.
 3−ペンタフルオ口ブロバン( R 225ca ,
沸点51.1℃),1.3−ジクロロ−1.2,2,3
.3−ペンタフルオロプロパン( R 225cb 、
沸点56.1 ”C),及び l−クロロ−2.2,3
.3−テトラフルオロプロパン( R 244ca,沸
点 54℃》のいずれか2種以上と 1. 1,1,3
,3.3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール( 6F
P ,沸点59℃)とからなる弗素化炭化水素系溶剤組
成物に関するものである。 本発明の組成物は、特に洗浄溶剤として従来のR 11
3よりも洗浄力が大きいため、R 113代替として極
めて有用なものである. 本発明の組成物のR 225ca. R 225cb及
び6FPの混合比は、R 225caが5〜99重量%
,R225cbが5〜99重量%及び6FPが1〜40
重量%であり、好ましくはR 225caが35〜45
重量%,R 225cbが35〜45重量%,及び6F
PがlO〜30重量%である. 本発明の組成物のR 225ca ,R 244ca及
び6FPの混合比はR 225caが5〜99重量%,
R244caが5〜99重量%,及び6FPが1〜40
重量%であり、好ましくはR 225caが35〜45
重量%, R 244caが35〜45重量%,及び6
FPがlO〜30重量%である. 本発明の組戒物のR 225cb ,R 244ca 
,及び6FPの混合比はR 225cbが5〜99重量
%,R244caが5〜99重量%,及び6FPが1〜
40重量%であり、好ましくはR 225cbが35〜
45重量%, R 244caが35〜45重量%,及
び6FPがlO〜30重量%である。 本発明の組成物のR 225ca ,R 225cb 
,R 244ca ,及び6FPの混合比は、R 22
5caが5〜99重量%, R 225cbが5〜99
重量%, l 244caが5〜99重量%,及び6F
Pが1〜40重量%であり、好ましくはR 225ca
が25〜30重量%,R225cbが25〜30重量%
, R 244caが20〜30重量%,及び6FPが
lO〜30重量%である.本発明の組成物には、用途に
応じてその他の成分を更に添加混合することができる。 例えば、溶剤としての用途においては,ベンタン,イソ
ペンタン.ヘキサン,イソヘキサン,ネオヘキサン,ヘ
ブタン,イソへブタン,2.3−ジメチルブタン.シク
ロペンクン等の炭化水素類、ニトロメタン,ニトロエタ
ン,ニトロブロバン等のニトロアルカン類、ジエチルア
ミン.トリエチルアミン,イソブロビルアミン,プチル
アミン.イソブチルアミン等のアミン類、メタノール,
エタノール,n−プロビルアルコール,i−プロビルア
ルコール,n−ブチルアルコール,i−ブチルアルコー
ル,S−プチルアルコール.t−ブチルアルコール等の
アルコール類、メチルセロソルブ,テトラヒドロフラン
,1.4−ジオキサン等のエーテル類、アセトン,メチ
ルエチルケトン,メチルブチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル,酢酸プロビル,酢酸ブチル等のエステル類、
ジクロロメタン,trans−1.2−ジクロロエチレ
ン, cls−1.2−ジクロロエチレン,2−ブロモ
プロパン等のハロゲン化炭化水素類、その他、1.1−
ジクロロ−1−フルオロエタン等の本発明以外のフロン
類等を適宜添加することができる. 本発明の弗素化炭化水素系溶剤組戒物は、従来のフロン
と同様、熱媒体や発泡剤等の各種用途に使用でき、特に
溶剤として用いた場合、従来のR 113より高い溶解
力を有するため好適である. 溶剤の具体的な用途としては、フラックス,グリース,
油,ワックス,インキ等の除去剤,塗料用溶剤,抽出剤
、ガラス,セラミックス,プラスチック,ゴム,金属製
各種物品,特にIC部品,電気機器,精密機械,光学レ
ンズ等の洗浄剤や水切り剤等を挙げることができる.洗
浄方法としては、手拭き,浸漬,スプレー揺動,超音波
洗浄,蒸気洗浄等を採用すればよい. [実施例] 以下に本発明の実施例を示す. 実施例1〜4 本発明の組成物を用いてフラックスの洗浄試験を行なっ
た。プリント基板全面にフラックス(タムラAL−4,
タムラ製作所製)を塗布し、200℃の電気炉で2分間
焼或後、本発明の組成物中に5分間浸漬した.比較例と
してR113についても同様の試験を行なった.本発明
の組成物の混合比及びフラックスの除去の度合いを第1
表〜第2表に示す. 第1表 第2表 0:良好に除去できる  ○:ほぼ良好Δ:微量残存 
     ×:かなり残存実施例5〜8 本発明の組成物を用いて機械油の洗浄試験を行なった. SOS−304のテストピース(25mmX 30mm
X 2mm厚)を機械油(CQ−30日本石油■製)中
に浸漬した後、本発明の組成物中に5分間浸漬した.比
較例としてR 113についても同様の試験を行なった
. 本発明の組成物の混合比及び機械油の除去の度合いを第
3表〜第4表に示す。 第3表 第 4 表 0:良好に除去できる  O:ほぼ良好△:微量残存 
     ×:かなり残存
【発明の効果】
本発明の弗素化炭化水素系溶剤組成物は、従来のフロン
が有している優れた特性を満足しながら、代替フロンと
して使用できるとともに、従来のフロンと同様の使い方
ができるため、従来技術の大幅な変更を要しない等の利
点がある.又、溶剤としてよく使われているR 113
よりもフラックスや油等の溶解除去性に優れるためR 
113に代わる洗浄溶剤として最適である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタ
    フルオロプロパン、1,3−ジクロロ−1,2,2,3
    ,3−ペンタフルオロプロパン及び1−クロロ−2,2
    ,3,3−テトラフルオロプロパンのいずれか2種以上
    と1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロ
    パノールとからなる弗素化炭化水素系溶剤組成物。
  2. (2)1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタ
    フルオロプロパン5〜99重量%、1,3−ジクロロ−
    1,2,2,3,3−ペンタフルオロプロパン5〜99
    重量%、及び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
    −2−プロパノール1〜40重量%からなる請求項1に
    記載の組成物。
  3. (3)1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタ
    フルオロプロパン5〜99重量%、1−クロロ−2,2
    ,3,3−テトラフルオロプロパン5〜99重量%、及
    び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロ
    パノール1〜40重量%からなる請求項1に記載の組成
    物。
  4. (4)1,3−ジクロロ−1,2,2,3,3−ペンタ
    フルオロプロパン5〜99重量%、1−クロロ−2,2
    ,3,3−テトラフルオロプロパン5〜99重量%、及
    び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロ
    パノール1〜40重量%からなる請求項1に記載の組成
    物。
  5. (5)1,1−ジクロロ−2,2,3,3,3−ペンタ
    フルオロプロパン5〜99重量%、1,3−ジクロロ−
    1,2,2,3,3−ペンタフルオロプロパン5〜99
    重量%、1−クロロ−2,2,3,3−テトラフルオロ
    プロパン5〜99重量%、及び1,1,1,3,3,3
    −ヘキサフルオロ−2−プロパノール1〜40重量%か
    らなる請求項1に記載の組成物。
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